PL26074B1 - Sposób wytwarzania pozytywnych kopii refleksyjnych przy uzyciu warstw stosowanych w dwuazotypii oraz czuly arkusz do wykonywania tego sposobu. - Google Patents

Sposób wytwarzania pozytywnych kopii refleksyjnych przy uzyciu warstw stosowanych w dwuazotypii oraz czuly arkusz do wykonywania tego sposobu. Download PDF

Info

Publication number
PL26074B1
PL26074B1 PL26074A PL2607433A PL26074B1 PL 26074 B1 PL26074 B1 PL 26074B1 PL 26074 A PL26074 A PL 26074A PL 2607433 A PL2607433 A PL 2607433A PL 26074 B1 PL26074 B1 PL 26074B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sensitive sheet
sheet
mesh
radiation
layer
Prior art date
Application number
PL26074A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL26074B1 publication Critical patent/PL26074B1/pl

Links

Description

Zwykla reflektografia daje zwykle tyl¬ ko slabe kopie refleksyjne, zwlaszcza jezeli stosuje sie pozytywne warstwy dwuazowe, co powodowane jest tym, iz promienie pa¬ dajace wywoluja daleko posunieta chemicz¬ na przemiane na calej powierzchni czulej.Znane jest przy otrzymywaniu kopii re¬ fleksyjnych stosowanie siatek w celu tylko czesciowego niaswietlania czulej warstwy promieniami padajacymi, jednakze w przy¬ padku stosowania warstw chlorowco-sre¬ browych osiaga sie w ten sposób tylko nie¬ znaczne polepszenie, prawdopodobnie wskutek szkodliwych rozpraszan w war¬ stwie chlorowco-srebrowej.Wedlug wynalazku stwierdzono, iz za pomoca pozytywnie kopiujacych warstw dwuazowych, które prawie nie nadaja sie do zwyklej reflektografii, mozna uzyskac nadspodziewanie dobre wyniki, jezeli za¬ stosuje sie siatkowo podzielone promienie o malej dlugosci fali (mniejszej niz okolo 4500 A).Swiatloczula warstwa tworzy razem z podlozem, na którym sie ona znajduje, ar¬ kusz czuly, który naklada sie na wzór ko¬ piowany.W dalszym ciagu opisu rozumie sie pod nazwa „delikatnosc siatkowania" szero¬ kosc kryjacych czesci w milimetrach, a podnazwa „wspólczynnik kjryci^" stosunek cze¬ sci powierzchni pokrytej siatka do po¬ wierzchni calkowitej (zwlaszcza przy siat- kowaniach soczewkowych, pryzmatycznych itd.) to jest tej czesci powierzchni, która lezy poza aktywna wiazka promieni.Siatke mozna umiescic miedzy zródlem swiatla i warstwa czula stykajac ja (najle¬ piej) bezposrednio z czulym arkuszem albo tez mozna siatkowanie wykonac w arku¬ szu czulym oraz w warstwie czulej lub tez tylko w warstwie czulej.W ostatnio wymienionym przypadku mówi sie o arkuszach siatkowanych. Swia¬ tloczule warstwy, stosowane w dwuazoty- pii, pochlaniaja w duzym stopniu promie¬ niowanie krótkofalowe, na które sa one czule. Jezeli takie warstwy sa siatkowane, to powoduja one wyzej wspomniany po¬ dzial promieniowania, zanim to promienio¬ wanie padnie na wzór kopiowany.W zwiazku z niedajaca sie uniknac gru¬ boscia warstwy czulej oraz dzialaniem siat- kowan pryzmatycznych wzglednie soczew¬ kowych stwierdzono, iz korzystnie jest sto¬ sowac promieniowanie mozliwie „skierowa¬ ne1', to znaczy promieniowanie, które w pewnych granicach posiada promienie o mniej wiecej jednakowym kierunku. Takie skierowane promieniowanie otrzymuje sie np. za pomoca punktowego zródla swiatla.Przy siatkowaniu liniowym wystarcza takze liniowe zródlo swiatla równolegle do linij siaiek.Stwierdzono równiez, ze wynik oswie¬ tlania jest zalezny od odstepu miedzy wzo¬ rem i warstwa, w której tworzy sie kopia refleksyjna, i ze korzystnie jest stosowac w kazdym poszczególnym przypadku scisle okreslony odstep, który powinien byc nie¬ znaczny. Okreslony odstep obrazu od wzo¬ ru osiaga sie w praktyce np. przez dobór nosnika o okreslonej grubosci, jezeli czula warstwa jest umieszczona tylko na jednej stronie podloza.Korzystnie jest przy tym ulozyc czuly arkusz na wzorze w taki sposób, aby war¬ stwa swiatloczula byla odwrócona od wzo¬ ru. Odstep obrazu jest równy przy tym gru¬ bosci nosnika. Stwierdzono, iz korzystnie jest zastosowac tym wiekszy odstep obra¬ zu, im wieksze sa elementy siatkowania.Ewentualnie mozna odstep obrazu regulo¬ wac za pomoca warstwy srodkowej, umie¬ szczanej miedzy czulym arkuszem a wzo¬ rem.Czule arkusze, zaopatrzone w siatke lub siatkowane, maja te zalete, iz pozwalaja na unikanie przesuwania siatki podczas na¬ swietlania, przy czym arkuszy takich moz¬ na dostarczac w handlu w stanie gotowym do uzytku.Siatkowanie arkuszy mozna wykonywac w sposób wieloraki: na drodze fotograficz* nej (naswietlanie przez siatke, najlepiej za pomoca skierowanego promieniowania i tla pochlaniajacego), przez mechaniczna obróbke, np. nadrukowywanie, natryskiwa¬ nie, dziurkowanie itd.Arkusz o jednorodnej warstwie czulej, zaopatrzony w siatke, mozna poddac dzia¬ laniu promieniowania (najlepiej promienio¬ wania skierowanego) przy stosowaniu tla pochlaniajacego, przez co zwiazek dwuazo- wy zostaje wybielony w miejscach siatki przepuszczajacych promieniowanie. Przy nastepnym uzyciu arkusza do wytwarzania kopii refleksyjnej do uzyskania kopii wy¬ starcza mniejsza ilosc energii swietlnej.W mysl wynalazku stosuje sie promie¬ niowanie o malej dlugosci fali, jednakze wynalazek nie ogranicza sie do promienio¬ wania, skladajacego sie wylacznie z takich promieni. Stosowane zazwyczaj zwiazki dwuazowe, zwlaszcza zawierajace grupe a- minowa, podstawiona w rdzeniu, wykazuja duza zdolnosc pochlaniania promieni krót¬ kofalowych, a przez to sa te promienie rów¬ niez w mieszaninie z innymi promieniami miarodajne pod wzgledem skutecznosci fo¬ tochemicznej, nawet jezeli zawarte sa ope tylko w malym stosunku \y; mieszalnie. — 2 —Jako nosniki materialu swiatloczulego stosuje sie najlepiej takie, które zmieniaja nieznacznie kierunek promieniowania, a ktare wykazuja mozliwie duza przepu¬ szczalnosc, np. szklo, celuloid, celofan, ze¬ latyne itd.; mozna jednakze stosowac rów¬ niez materialy, wykazujace niewielka prze¬ puszczalnosc, jak kalke plócienna, papier przezroczysty itd.Material swiatloczuly mozna umiescic na jednej lub na obydwóch stronach podlo¬ za. Moze on równiez znajdowac sie w ma¬ sie podloza.Sposób wedlug wynalazku pozwala na bezposrednie otrzymywanie obrazów pozy¬ tywnych w kolorze czarnym i w róznych kolorach, przy czym moc obrazów zalezy miedzy innymi od rodzaju uzytej siatki, jak równiez od stezenia i rodzaju uzytego zwiazku dwuazowego.Przyklad I. W plycie bromo-srebrowej umieszcza sie na drodze fotograficznej siat¬ kowanie punktowe o delikatnosci 0,1 mm i wspólczynniku krycia 0,9. Punkty tworza czesc przepuszczalna siatkowania.Warstwe obrazowa tak otrzymanej ply¬ ty sftyka sie z arkuszem z acetylo-celulozy, zaopatrzonym w warstwe para-dwuazoety- lo-benzylo-aniliny.Arkusz ten kladzie sie strona nieswia-. tloczula np. na zadrukowany oryginal. Tak zlaczone trzy czesci umieszcza sie w znany sposób w ramce do kopiowania i naswietla przez siatkowana plyte za pomoca lampy lukowej, umieszczonej w odleglosci 30 cm.Naswietlanie uskutecznia sie tak dlugo, az przy wywolywaniu za pomoca cienkiej war¬ stwy, alkalicznego roztworu skladnika azo- wego otrzyma sie pozytywny obraz na bez¬ barwnym tle.Przyklad II. Na warstwie celulozy, po¬ traktowanej obustronnie roztworem dwua- zo - 1 - dwuetylo - amino - 4 - benzenu, o grubosci 0,06 mm umieszcza sie jednostron¬ nie siatke liniowa o delikatnosci 0,5 i wspól¬ czynniku krycia 0,8.Material siatkowy do nadrukowania ma sklad nastepujacy: do 100 czesci wody, 6 czesci kazeiny, 6 czesci cukru dodaje sie tyle proszku glinowego1, az uzyska sie do¬ stateczna sile krycia.Miedzy czuly arkusz i oryginal kladzie sie ponadto przezroczysta warstwe srodko¬ wa o grubosci 0,1 mm.Naswietla sie za pomoca lampy rtecio¬ wej strone, zaopatrzona w siatkowanie i zwrócona do zródla swiatla. Po naswietle¬ niu wywoluje sie arkusz w alkalicznym roz¬ tworze skladnika azowego. Przy tym wy¬ wolywaniu mozna, o ile material siatkuja¬ cy nie schodzi sam, usuwac warstwe siatko¬ wana przez pocieranie. Otrzymuje sie obraz pozytywny, posiadajacy wieksza moc, niz obraz, otrzymany w takich samych warun¬ kach, lecz bez siatkowania.Jezeli arkusz zostanie przy uzyciu tla pochlaniajacego naswietlony wstepnie od strony, znajdujacej sie po stronie zródla swiatla, wówczas przy uzyciu takiego arku¬ sza wystarcza krótszy czas naswietlania do osiagniecia tego samego celu. To naswietla¬ nie wstepne uskutecznia sie najlepiej za pomoca promieni skierowanych.Przyklad III. Film celuloidowy o gru¬ bosci 0,16 mm zaopatruje sie po jednej stro¬ nie w soczewki cylindryczne, umieszczane w samym materiale.Promien kazdej soczewki cylindrycznej wynosi okolo 0,03 mm. Strone, nie zaopa¬ trzona w siatkowanie, powleka sie cienka warstwa p - dwuazo - dwufenyloi - aminy.Film przyklada sie warstwa powleczona do wzoru kopiowanego, przy czym korzyst¬ nie jest podczas naswietlania podlozyc czarna warstwe pochlaniajaca po stronie odwróconej od swiatla. Po naswietleniu za pomoca swiatla lukowego mozna w odpo¬ wiednim urzadzeniu wywolujacym wpro¬ wadzic na film cienka warstwe zasadowego roztworu skladnika azowego.Przyklad IV. Do przezroczystego pod¬ loza wprowadza sie dwuazo - 1 - dwuetylo- — 3 —-amino - 4 - benzen. Tak otrzymany czuly arkusz styka sie bezposrednio z nie odbija¬ jaca siatka o delikatnosci 0,1 i wspólczyn¬ niku krycia 0,6 i naswietla przez te siatke za pomoca mozliwie skierowanego promie¬ niowania, przy czym pod czulym arkuszem nalezy umiescic czarne tlo pochlaniajace.Po tym naswietleniu umieszcza sie wstepnie siatkowany czuly arkusz na wzo¬ rze, naswietla sie i nastepnie wywoluje zna¬ nym sposobem. Otrzymuje sie mocniejszy obraz, niz obraz otrzymany w tych samych warunkach bez wstepnego naswietlenia.Przyklad V. Przezroczysta warstwe, zaopatrzona obustronnie w powloke p - - dwuazo - dwufenylo - aminy, dziurkuje sie w taki sposób, iz powstaja w niej po¬ dluzne otwory o dlugosci 1 cm, szerokosci * 0,1 mm i o odstepach równych 0,1 mm. Tak otrzymane siatkowanie posiada delikatnosc 0,1 i wspólczynnik krycia 0,5. Aby nie nad¬ werezyc zbytnio wytrzymalosci warstwy, mozna szeregi kresek przesunac wzgledem siebie.Dziurkowana warstwe umieszcza sie na wzorze i naswietla za pomoca promienio¬ wania mozliwie skierowanego stosujac jako zródlo swiatla lampe lukowa.Po wywolaniu za pomoca zasadowego skladnika azowego otrzymuje sie obraz po¬ zytywny. PL

Claims (7)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób wytwarzania pozytywnych kopii refleksyjnych przy uzyciu warstw sto¬ sowanych w dwuazotypii, znamienny tym, ze na wzór kopiowany puszcza sie promie¬ niowanie krótkofalowe, podzielone w znany sposób siatkowo na przedzialy o wiekszej i mniejszej skutecznosci foto-chemicznej, najlepiej na przedzialy o wiekszym i mniej¬ szymnatezeniu. \
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze promieniowanie krótkofalowe pu¬ szcza sie na arkusz z taka swiatloczula warstwa dwuazowa, która zastepujac siat¬ ke przepuszcza promieniowanie miejscami o wiekszej i miejscami o mniej szej skutecz¬ nosci foto-chemicznej.
  3. 3. Czuly arkusz do wykonywania spo¬ sobu wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jest calkowicie lub czesciowo podziurkowa¬ ny w postaci siatki.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, 2, zna¬ mienny tym, ze odstep obrazu od wzoru ko¬ piowanego dobiera sie, ewentualnie przez umieszczanie warstwy posredniej miedzy czulym arkuszem i wzorem, w taki sposób, iz odstep ten jest tym wiekszy, im wieksze wymiary posiadaja elementy siatkowania.
  5. 5. Czuly arkusz do wykonywania spo¬ sobu wedlug zastrz. 1, 2, 4, znamienny tym, ze zawiera zwiazki dwuazowe z podstawio¬ na w rdzeniu grupa aminowa.
  6. 6. Czuly arkusz wedlug zastrz. 3 lub 5, znamienny tym, ze zwiazki dwuazowe w warstwie swiatloczulej sa rozmieszczone w postaci siatki.
  7. 7. Sposób wedlug zastrz. 1, 2, 4, zna¬ mienny tym, ze arkusz, zaopatrzony równo¬ miernie w swiatloczuly zwiazek dwuazowy, poddaje sie wstepnemu naswietlaniu przy pomocy promieniowania, najlepiej skiero¬ wanego, które ewentualnie za pomoca sia¬ tek zostaje podzielone na przedzialy o wiekszej i mniejszej skutecznosci foto-che¬ micznej, przy czym za czulym arkuszem u- mieszcza sie tlo pochlaniajace. Naamlooze Vennootschap Chemische Fabriek L. v a n der G r i n t e n. Zastepca: Inz. S. Glowacki, - ' | rzecznik patentowy. 4 Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL
PL26074A 1933-09-11 Sposób wytwarzania pozytywnych kopii refleksyjnych przy uzyciu warstw stosowanych w dwuazotypii oraz czuly arkusz do wykonywania tego sposobu. PL26074B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL26074B1 true PL26074B1 (pl) 1938-02-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2026292A (en) Copying of opaque originals by contact printing
DE1572058A1 (de) Reprographisches Verfahren
GB1244861A (en) Electrostatic printer
PL26074B1 (pl) Sposób wytwarzania pozytywnych kopii refleksyjnych przy uzyciu warstw stosowanych w dwuazotypii oraz czuly arkusz do wykonywania tego sposobu.
US2051585A (en) Process of making reflex copies
CH686203A5 (de) Verfahren zum Erzeugen von Papierbildern.
EP0052806B1 (en) Dot-enlargement process for photopolymer litho masks
US2672416A (en) Reflex photography utilizing a luminescent light source
GB1278325A (en) Color copying method and apparatus
US3498715A (en) Illumination system for document copier
DE698994C (de) Verfahren zum Herstellen von gerasterten Kopiervorlagen fuer den Hochdruck
US2468680A (en) Halftone screen for use in the
US3904292A (en) Apparatus for single sheet photographic reproduction
JPS5764235A (en) Photographic material for printing
US2171276A (en) Metal half tone screen
US2240945A (en) Method and article for producing shaded designs
US3607282A (en) Sensitive sheet and process for making positives
GB425126A (en) Improvements in or relating to the copying of opaque originals by contact printing
DE857733C (de) Lichtempfindliche Blaetter fuer Rasterreflexbilder in positiven Diazotypieverfahren
US909980A (en) Process for making archetypes.
US1767414A (en) Photolithographing process
US3375111A (en) Preparation of printing plates and cylinders with resist-forming film used directly in a camera
PL29236B1 (pl) Sposób wytwarzania kopii refleksyjnych za pomoca rozdzielonego siatkowo promieniowania.
DE1572097A1 (de) Lichtempfindliches Gravierschichtmaterial
US2927020A (en) Photographic process