PL25326B1 - Urzadzenie do osadzania lub rozdzielania rozmaitych substancji z gazów, par lub cieczy w postaci mgly. - Google Patents

Urzadzenie do osadzania lub rozdzielania rozmaitych substancji z gazów, par lub cieczy w postaci mgly. Download PDF

Info

Publication number
PL25326B1
PL25326B1 PL25326A PL2532635A PL25326B1 PL 25326 B1 PL25326 B1 PL 25326B1 PL 25326 A PL25326 A PL 25326A PL 2532635 A PL2532635 A PL 2532635A PL 25326 B1 PL25326 B1 PL 25326B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
flow
baffle
liquid
channel
gas
Prior art date
Application number
PL25326A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL25326B1 publication Critical patent/PL25326B1/pl

Links

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy urzadze¬ nia do osadzania lub rozdzielania substan¬ cji drobno rozdzielonych w stanie cieklym lub stalym z gazów, par lub mgly.Dotychczas tego rodzaju substancje próbowano wydzielac w ten sposób, ze ga¬ zy, pary lub ciecze w postaci mgly prze¬ prowadzano przez kanaly, wyposazone w wystajace ku wewnatrz powierzchnie pro¬ wadnicze, i zmieniano kierunek przeplywu, przy czym substancje unoszone wydzielaly sie pod dzialaniem wlasnej energii kine¬ tycznej. Znane sposoby tego rodzaju oka¬ zaly sie jednak calkowicie niewystarczaja¬ cymi z tego wzgledu, ze przy zmianie kie¬ runku przeplywu gazów energia kinetycz¬ na wytwarzala sie w ilosciach nie wystar¬ czajacych do wydzielenia substancji poza¬ danych. Wedlug wynalazku niniejszego wydzielanie sie lub osadzanie substancji wskutek dzialania energii kinetycznej zo¬ staje zapewnione przez to, ze szybkosc przeplywu strumienia gazu — liczac od chwili pierwszej zmiany kierunku, a wiec w calej strefie osadzania, przylegajacej do danej powierzchni prowadniczej — zmniej¬ sza sie (przy uwzglednieniu pewnego spre¬ zania sie), w zadnym jednak przypadku nie wzrasta. Dzieki temu osiaga sie, ze cza¬ steczki substancji, unoszace sie w strumie¬ niu gazu, pozostaja na swych drogach od chwili zmiany kierunku tego strumienia, aw kazdym razie nic odchylaja sie od swych dróg, wskutek czego zmniejszone zostaje 4 niebezpieczenstwo, dalszego porywania przez przeplywajAce gaay substancji pod- ¦ legajacych osadzeniu lub juz osadzonych.Odpowiednie urzadzenie do osadzania winno! byc zaopatrzone w powierzchnie od¬ bojowe, rozmieszczone w ten sposób, ze przekroje przeplywowe, mierzone pomiedzy wolna krawedzia danej powierzchni odbo¬ jowej z jednej strony a scianka kanalu lub nastepna powierzchnia odbojowa z dru¬ giej strony, stale wzrastaja az do czolo¬ wej krawedzi drugiej powierzchni odbojo¬ wej. Ten wzrost przekroju przeplywowego powoduje odpowiednie zmniejszenie sie szybkosci przeplywu gazu lub utrzymywa¬ nie sie tej szybkosci na poziomie niezmien¬ nym.Rysunek przedstawia kilka przykladów wykonania urzadzenia wedlug wynalazku niniejszego.W przykladzie wykonania wedlug fig. 1 urzadzenie stanowi kanal 1 z powierzch¬ niami odbojowymi 2, które wystaja na przemian z przeciwleglych sobie scianek kanalu ukosnie do jego osi, dzieki czemu strumien gazu plynie przez kanal droga zygzakowata. Strumien ten wplywa do ka¬ nalu w miejscu 3 i jego szybkosc wzrasta az do osiagniecia przekroju przeplywo¬ wego 4a. Od tego miejsca strumien jest juz odchylany za pomoca nastepnej po¬ wierzchni odbojowej 26, przy czym wsku¬ tek swoistego rozmieszczenia powierzchni odbojowych i zwiekszania sie przekrojów przeplywowych przy powierzchni odbojo¬ wej 26 szybkosc przeplywu strumienia nie wzrasta juz wiecej na calej dlugosci po¬ wierzchni 26.Poniewaz masa czasteczek substancji unoszacych sie w strumieniu gazu jest wieksza od masy czasteczek tego gazu, wiec energia kinetyczna czasteczek cial stalych lub cieklych jest wieksza od ener* gii, której dzialaniu ulegaja pozostale cza¬ steczki strumienia. Wskutek tego czasteczki substancji podlegajacych wydzieleniu nie towarzysza juz wiecej strumieniowi gazu, lecz uderzaja w powierzchnie odbojowa 26.Z tej powierzchni moga one byc odprowa¬ dzane na zewnatrz w odpowiedni sposób, np. przez splukiwanie powierzchni odbojo¬ wej. Od tego pierwszego miejsca osadza¬ nia wydzielanych substancji szybkosc prze¬ plywu strumienia ponownie wzrasta, az do osiagniecia przekroju przeplywowego 4b, po czym zjawisko opisane powyzej zacho¬ dzi przy nastepnej powierzchni odbojowej 2c, nastepnie przy powierzchni odbojowej 2d i t. d. Zabieg osadzania moze byc po¬ wtarzany tak czesto, jak tego bedzie wy¬ magalo osiagniecie pozadanego stopnia o- sadzenia wydzielanych substancji.W razie ustawienia powierzchni odbojo¬ wych pod katem 45° do scianek kanalu, t. j. rozmieszczenia, któremu ze wzgledów konstrukcyjnych nalezy oddac zasadniczo pierwszenstwo, zachowanie zasady, na któ¬ rej oparty jest wynalazek niniejszy, zosta¬ je zapewnione wtedy, gdy plaszczyzny po¬ wierzchni odbojowych, nastepujacych po sobie kolejno, przecinaja scianki kanalu w tychze samych (w przyblizeniu) miejscach, t. j, tak, iz przedluzenie danej powierzchni odbojowej przecina przeciwlegla scianke kanalu w miejscu, z którego wystaje na¬ stepna powierzchnia odbojowa.W celu osiagniecia bardzo wysokiego stopnia osadzenia substancji, a wiec np. w celu sortowania rozmaitych substancji lub substancji o czasteczkach rozmaitej wielko¬ sci, niezaleznie od tego, czy stosuje sie oplukiwanie powierzchni odbojowych cie¬ cza, czy tez oplukiwania nie stosuje sie, zaleca sie wykonac nastepujace po sobie kolejno przekroje przeplywowe 4a, 4b, 4c i t. d. co raz to wezsze, jak to uwidocznio¬ no na fig. 2, aby szybkosc, z jaka odbywa sie osadzanie sie czasteczek wydzielanych — 2 —substancji na poczatku zmiany kierunku przeplywu, w kazdej nastepnej z kolei stre¬ fie osadzania byla co raz to wieksza i, od¬ powiednio do tego, aby energia kinetyczna byla równiez co razr wieksza i wystarczyla wreszcie do wydzielenia czasteczek naj¬ mniejszych oraz czasteczek o najmniej¬ szym ciezarze wlasciwym, a wiec czaste¬ czek o najmniejszej masie. Zastosowanie u- rzadzenia wedlug fig. 2 jest korzystne zwlaszcza wtedy, gdy maja byc rozdzie¬ lone wzglednie rozsortowane substancje o czasteczkach rozmaitej wielkosci, W pierwszej strefie osadzania wydzielone zo¬ staj a czasteczki najciezsze lub najwieksze, w strefie nastepnej -— czasteczki o ciezarze nastepujacym z kolei co do wielkosci, w dalszych strefach -— co raz to lzejsze lub mniejsze czasteczki i t. d., a w strefie ostatniej — czasteczki najlzejsze lub naj¬ mniejsze.Jezeli maja byc osadzone substancje ciekle lub osadzeniu sie substancji towa¬ rzyszy oplukiwanie powierzchni odbojo¬ wej, wówczas zachowanie zasady, na któ¬ rej oparty jest wynalazek niniejszy, natra¬ fia na trudnosci w tych przypadkach, w których wielkie znaczenie posiada potrze¬ ba posiadania odpowiedniego miejsca do przeprowadzenia tego osiadania, np. w ra¬ zie uzycia do osadzania kanalów pozio¬ mych. W tym przypadku przeplywowi glównemu strumienia gazu nalezy nadac ogólny kierunek pionowy lub pochyly. Aby wiec przy przeplywie strumienia gazu w kierunku odmiennym od poziomego zacho¬ wac z jednej strony odpowiednie po¬ chylenie, niezbedne do wydzielania sub¬ stancji przy utrzymaniu zasady wy¬ nalazku niniejszego, z drugiej zas stro¬ ny nie wplynac szkodliwie na wyniki procesu osadzania, zalezne w duzej mierze od zabiegu splukiwania, oplukiwane po¬ wierzchnie odbójowe rozmieszcza sie we¬ dlug wynalazku tak, aby ciecz pluczaca nie mogla z nich sciekac kroplami i przedosta¬ wac sie do strumienia gazu, a wiec usta¬ wia sie je pod katem 90° do 270° wzgledem plaszczyzny poziomej. Jezeli zapobiega sie sciekaniu cieczy pluczacej kroplami, wy¬ nik procesu osadzania jest zalezny juz tyl¬ ko od zabiegu splukiwania; jezeli nato¬ miast zachodzi sciekanie cieczy splukuja¬ cej kroplami, to czesci powierzchni odbo¬ jowych pozostana niezroszonymi i na tych czesciach powierzchni odbojowych nie na¬ stapi proces osadzania. Ponadto zapobiega sie pochlanianiu wilgoci przez strumien ga¬ zu, co zachodzi w razie sciekania cieczy splukujacej kroplami. Przy takim rozmie¬ szczeniu powierzchni odbojowych wzgledem powierzchni poziomej kanal umieszcza sie pod pewnym odpowiednim katem do ogól¬ nego kierunku przeplywu strumienia gazu, dzieki czemu zachowuje sie wlasciwe na¬ chylenie powierzchni odbojowych wzgle¬ dem kierunku przeplywu tego strumienia i strumien gazu plynie droga zygzakowata wzdluz linii srubowej.Przyklady wykonania urzadzenia ostat¬ nio wymienionego rodzaju sa przedstawio¬ ne na fig. 3— 5.Na fig. 3 uwidoczniono krancowe polo¬ zenia powierzchni odbojowych. Powierzch¬ nia odbojowa w polozeniu; /jest nachylona wzgledem poziomu pod katem 90° (w przy¬ blizeniu), a w polozeniu // — pod katem 270° (okolo). Wychylenie powierzchni od¬ bojowej poza polozenie / lub // w kierun¬ ku strzalki U lub V prowadziloby do scie¬ kania cieczy pluczacej kroplami, wobec czego w takim przypadku trzeba byloby stosowac szczególnie przywierajaca ciecz splukujaca lub ciecz o szczególnie duzej lepkosci. Wobec powyzszego nie mozna z góry ustalic dokladnej wartosci tego kata.Gaz podlegajacy obróbce wplywa do kanalu z dolu i plynie nastepnie do góry.Wskutek zwezenia przekroju przeplywo¬ wego w dolnej czesci kanalu wytwarza sie — 3 —przyspieszenie przeplywu gazu przez ka¬ nal. Nastepnie strumien gazu plynie ze zwiekszona szybkoscia az do przekroju przeplywowego Qx (w przyblizeniu). Od tego miejsca kierunek strumienia gazu zmienia sie, podczas gdy czasteczki podle¬ gajace wydzieleniu zachowuja dzieki swej bezwladnosci daznosc do dalszego prze-, plywu w kierunku poprzednim az do po¬ wierzchni odbojowej scianki K, która jest polewana z góry z rury a ciecza splukuja¬ ca. Czasteczki osadzone zostaja odprowa¬ dzone przez ciecz splukujaca z powierzchni powyzszej do koryta 6. Za przekrojeni przeplywowym Q2 powtarza sie to samo zjawisko, co i za przekrojem Qr W przykladach wykonania wedlug fig. 4 i fig. 5 scianki 5 kanalu, przeciwlegle do powierzchni odbojowych, sa wygiete luko¬ wo, co posiada znaczenie istotne. Za pomo¬ ca tych wygietych scianek kanalu po¬ wierzchnie odbojowe K zostaja zasloniete od przeciwleglych tym powierzchniom przestrzeni 6, które przy szybkosci prze¬ plywu strumienia, niezbednej do osadzania czastek wskutek ich energii kinetycznej, dzialaja szkodliwie na wyniki procesu osa¬ dzania. Gdyby nie bylo tych scianek zasla¬ niajacych, w przestrzeniach lezacych na¬ przeciw powierzchni odbojowych K wy¬ twarzalyby sie liczne wiry nieprawidlowe, jak to uwidoczniono na fig. 1. Jezeli jed¬ nak te przestrzenie martwe 6 zostaja za¬ sloniete, np. za pomoca wygietych lukowo scianek 5 kanalu, to ruchy wirowe gazu zo¬ staja uregulowane i w kazdej z tych prze¬ strzeni strumien glówny wytwarza, jak wi¬ dac z fig. 1, swoisty ruch wirowy dookola srodka m. Nieprawidlowe zas ruchy wiro¬ we odbywaja sie w ten sposób, ze czastecz¬ ki substancji, podlegajace wydzielaniu i przedostajace sie do takiego wiru, nie osa¬ dzaja sie, lecz przedostaja sie z powrotem do strumienia glównego. Takie nieprawidlo¬ we ruchy wirowe sa bardzo szkodliwe pod tym wzgledem, ze nie tylko pochlaniaja duzo energii, lecz ponadto tamuja i utrud¬ niaja przeplyw strumienia glównego oraz powoduja znaczny spadek cisnienia w urza¬ dzeniu. Wszystkie te niedogodnosci zosta¬ ja usuniete przez wzmiankowane zaslonie¬ cie przestrzeni martwych.W razie wykonania urzadzenia w posta¬ ci osadnika o pierscieniowym przekroju poprzecznym, jak przedstawiono np. na fig. 5, poszczególne najwezsze przekroje prze¬ plywowe Q19 Q2 i t. d., znajdujace sie przed poszczególnymi strefami osadzania, musza byc równe pod wzgledem swej wielkosci. Wskutek zygzakowatego ksztal¬ tu drogi strumienia gazu najwezsze prze¬ kroje przeplywowe sa rozmieszczone w stosunku do osi srodkowej x — x osadni¬ ka (fig. 5) blizej lub dalej. Na przyklad, srednia odleglosc rx przekroju przeplywo¬ wego Oi jest wieksza od sredniej odleglo¬ sci r2 najwezszego przekroju przeplywo¬ wego Q2. Jezeli wiec pozadane jest zacho¬ wanie zasady jednakowej wielkosci naj¬ wezszych przekrojów przeplywowych na¬ stepujacych po sobie kolejno w kierunku przeplywu strumienia gazu, to szerokosc tych przekrojów przeplywowych nalezy zmieniac odpowiednio, t. j. obierac ja tak, aby przy mniejszej odleglosci sredniej r od osi srodkowej x — x szerokosc ta byla wieksza, a przy wiekszej odleglosci sred¬ niej r od osi srodkowej x — x — mniejsza.Jednakowa wielkosc najwezszych prze¬ krojów przeplywowych jest pozadana zwlaszcza wtedy, gdy z substancji, uno¬ szonych gazem, nalezy wydzielic czastecz¬ ki, posiadajace wielkosc nie mniejsza od wielkosci okreslonej z góry. Jezeli jed¬ nak chodzi o wydzielenie mozliwie wszyst¬ kich, a wiec nawet najmniejszych czaste¬ czek substancji, to jest rzecza celowa, aby najwezsze przekroje przeplywowe, naste¬ pujace po sobie kolejno w kierunku prze¬ plywu gazu, byly co raz to mniejsze, t. j. — 4 —przekrój przeplywowy byla najwieksza.Wówczas proces wydzielania obejmuje co raz to drobniejsze czasteczki substancji, przez co osiaga sie moznosc sortowania tych substancji. Na przyklad, w urzadzeniu wedlug fig. 5 drugi z kolei przekrój Q2 jest mniejszy od pierwszego przekroju prze¬ plywowego 0^ Aby gaz, pare lub ciecz w postaci mgly mozna bylo doprowadzic do osadnika z mozliwie malymi stratami (z uwzglednie¬ niem tarcia), oba narzady zamykajace g, znajdujace sie na koncach cylindra e, wy¬ posaza sie w powierzchnie zewnetrzne do¬ stosowane ksztaltem do strumienia prze¬ plywajacego, aby przeplyw po tych po¬ wierzchniach mógl sie odbywac bez ude¬ rzen i wirów. Cylinder e równiez moze byc wyzyskany jako przewód. Na przyklad, przez ten cylinder mozna przepuszczac gaz wówczas, gdy proces wydzielania sub¬ stancji z tego gazu z jakichkolwiek powo¬ dów ma ulec przerwie. W tym przypadku wlasciwe komory robocze urzadzenia sta¬ nowia otoczenie zewnetrzne cylindra, przy czym narzady zamykajace g osadza sie ruchomo lub odejmowalnie. Oczywiscie, doplywy lub odplywy do poszczególnych stref osadzania zostaja wyposazone w od¬ powiednie zamkniecia, np. w miejscu i moze byc umieszczone zamkniecie w po¬ staci pierscienia przesuwnego (fig. 5).Wykonanie urzadzenia do osadzania substancji wedlug fig. 3 —-5 posiada po¬ nadto te zalete, ze moze byc uzywane bez potrzeby jakichkolwiek zmian jako nasada kdminowa, jako jedno z ogniw kominowych lub tez jako ogniwo dowolnego przewodu rurowego, ustawionego pionowo, np. prze¬ wodu odprowadzajacego gazy wielkopieco¬ we.W osadnikach pracujacych przy wiek¬ szych lub mniejszych szybkosciach prze¬ plywu gazu powstaja zjawiska zwiazane z pr&eplywem^gaatt r fciwpjywaj^cel ffekodfiwie zarówno na sam przeplyw tego gazu, jak i na doprowadzanie cieczy splukujacej lub jej odprowadzanie oraz odprowadzanie wydzielonych substancji. Powstawanie tych zjawisk pogarsza bieg procesu, a w niektó¬ rych przypadkach nawet proces calkowicie wstrzymuje. Mianowicie, ciecz splukujaca, a wraz z nia i osadzone juzJ Substancje, zo* staja ponownie porwane strumieniem gazu i zatrzymane w kanale roboczym i kanalach przylegajacych don, wskutek czego proces osadzania musi byc podjety na nowo cze¬ sciowo lub nawet calkowicie. Powyzsze zja¬ wisko jest wywolywane zwlaszcza tym, ze przy duzych szybkosciach przeplywu gazu tworza sie wiry skierowane odwrotnie do kierunku przeplywu cieczy splukujacej i powodujace rozpylanie sie tej cieczy, zwlaszcza w poblizu miejsc doplywu lub odplywu tej cieczy, a nawet na samych powierzchniach odbojowych.Niedogodnosc powyzsza wedlug wyna¬ lazku niniejszego usuwa sie w ten sposób, ze oddzialywanie strumieni skierowanych odwrotnie lub wirów na przeplyw cieczy splukujacej lub tez powstawanie takich strumieni lub wirów zostaje uniemozliwio¬ ne.Takie strumienie, skierowane odwrot¬ nie, lub wiry tworza sie w rozmaitych miej¬ scach. Urzadzenie, bedace przykladem wy¬ konania wynalazku i przedstawione na fig. 6 — 8, jest zaopatrzone w osadnik, który sklada sie z kanalu przeplywowego 1 oraz powierzchni odbojowych 2, wystajacych skosnie do jego wnetrza, po których sply¬ wa ciecz splukujaca. Gazy, pary lub ciecz w postaci mgly, podlegajace oczyszczeniu, przeplywaja przez kanal w kierunku strzal¬ ki 7 z taka szybkoscia, ze unoszone przez nie substancje podlegajace wydzieleniu zostaja przy zmianie kierunku strumienia skierowane ku powierzchniom odbojowym 2 i zostaja mocno na nich zatrzymane. t- 5 —Zbiornik 9, zawierajacy ciecz spluku¬ jaca, jest umieszczony na sciance górnej 8 kanalu, a wiec znajduje sie zewnatrz te¬ go kanalu z tego wzgledu, aby kanal ro¬ boczy byl calkowicie wolny, a poza tym aby w zbiorniku 9, jak i w kanalach lacza¬ cych go z kanalem / nie tworzyly sie zad¬ ne szkodliwe wiry i prady. W tym celu obok powierzchni odbojowej 2 w odleglo¬ sci, odpowiadajacej grubosci warstwy cie¬ czy splukujacej, umieszczona jest po¬ wierzchnia 10 równolegla do powierzchni odbojowej 2. Górny koniec powierzchni 10 oraz górny koniec powierzchni odbojowej 2 siegaja az do wnetrza zbiornika 9. Dolny koniec powierzchni (przegrody) 10 jest sciety skosnie w tyl w kierunku powierzch¬ ni odbojowej 2, a górny koniec powierzchni odbojowej 2 jest równiez sciety skosnie w tyl tak, iz oba te sciecia sa równolegle so¬ bie. Dzieki temu zapobiega sie odrywaniu sie warstwy cieczy od powierzchni odbojo¬ wej 2 i powierzchni przegrody 10 oraz osa¬ dzaniu sie obcych cial stalych, które tamo¬ walyby przeplyw cieczy splukujacej, na górnej krawedzi powierzchni odbojowej 2.Wprowadzenie powierzchni odbojowej' 2 do zbiornika 9 ma ponadto na celu utwo¬ rzenie komory osadowej, w której moga gromadzic sie ciala obce, doprowadzone do zbiornika wraz z ciecza splukujaca.W celu zachowania na calej dlugosci szczeliny, która doprowadza sie ciecz splu¬ kujaca, jednakowego odstepu pomiedzy powierzchnia odbojowa 2 a powierzchnia przegrody 10, co jest rzecza wazna do utrzymania równomiernego splukiwania powierzchni odbojowej 2, pomiedzy po¬ wierzchnia odbojowa 2 i przegroda 10 u- mieszcza sie wkladki rozporowe //, np. zeberka, umieszczone na powierzchni od¬ bojowej 2 lub na przegrodzie 10 i przebie¬ gajace w kierunku przeplywu cieczy. Przez równomierne rozmieszczenie tych rozporek na calej szerokosci powierzchni odbojowej 2 wytwarza sie na tej powierzchni specjal¬ ne dogodne warunki rozdzialu cieczy. Prze¬ groda 10 lub powierzchnia odbojowa 2 mo¬ ze przylegac bezposrednio do wzmiankowa¬ nych rozporek.Jezeli w urzadzeniu tym krawedz gór¬ na powierzchni odbojowej 2 zostanie za¬ ostrzona, to pewne niedogodnosci powstaja wówczas, gdy dolny brzeg przegrody 10 zaledwie przykrywa wolne konce zeberek rozporowych, wystajacych z powierzchni odbojowej 2.W tym przypadku ciecz splukujaca wy¬ kazuje daznosci zbierania sie na dolnej krawedzi przegrody 10 zwlaszcza wtedy, gdy dolna krawedz tej przegrody jest równiez scieta skosnie i sciekanie cieczy z tej krawedzi nastepuje kroplami. Aby za¬ pobiec temu, przegrode przykrywajaca po¬ wierzchnie odbojowa 2 dobiera sie tak, aby wystawala poza powierzchnie odbojowa na odleglosc wieksza od rzutu lub rzutów sze¬ rokosci czolowych powierzchni scietych brzegów powierzchni odbojowej 2.W celu osiagniecia równomiernego do¬ plywu cieczy splukujacej jest równiez rze¬ cza wazna, aby górna krawedz powierzchni odbojowej 2 byla ustawiona dokladnie po¬ ziomo, poniewaz nawet nieznaczne odchy¬ lenie jej od linii poziomej wplywa nieko¬ rzystnie na proces splukiwania. Do do¬ kladnego ustawiania tej krawedzi w kierun¬ ku pionowym moga byc zastosowane np. sruby nastawcze 12 lub podobne narzady, naciskajace od dolu na dolny brzeg po¬ wierzchni odbojowej. Ilosc cieczy prze¬ plywajaca przez górna ostra krawedz po odbojowej powierzchni 2 jest tym wieksza, im wyzszy jest poziom cieczy w zbiorniku.Dzieki powyzszemu mozna regulowac ilosc cieczy zraszajacej odbojowa powierzchnie przez regulowanie tego poziomu cieczy.Regulowanie poziomu cieczy mozna prze¬ prowadzac w znany sposób za pomoca ply¬ waka. — 6 —; .';* Gazy;' pary lub I ciecze W* postal irigty, przeplywajace wzdluz powierzchni odbo¬ jowej 2, posiadaja daznosc do porywania ze soba cieczy splukujacej, splywajacej w dól po tej powierzchni. Wzmiankowane srodki na ogól przeciwdzialaja temu zja¬ wisku, lecz w waskiej strefie przylegajacej do krawedzi przegrody odbojowej 2, w której gazy opuszczaja te powierzchnie, srodki powyzsze nie dzialaja. Odchylenie kierunku strumienia, zachodzace przy tej krawedzi, powoduje oderwanie sie stru¬ mienia, a przez to — wytworzenie silniej¬ szych wirów i rozpraszanie sie strumienia, Z tego powodu waskie paski 2', przylega¬ jace do krawedzi powierzchni odbojowych 2, przy których gazy opuszczaja te po¬ wierzchnie, pozostawia sie wedlug wyna¬ lazku bez splukiwania ich ciecza i bez spe¬ cjalnego uksztaltowania ich powierzchni w odróznieniu od pozostalej czesci powierzch¬ ni odbojowych 2.Podobne trudnosci, jak przy doprowa¬ dzaniu cieczy splukujacej z przestrzeni wypelnionej mgla, ujawniaja sie przy od¬ prowadzaniu cieczy splukujacej z kanalu L Równiez i w tym miejscu ciecz spluku¬ jaca odprowadza sie wedlug wynalazku bez wytwarzania szkodliwych wirów i pra¬ dów do komory 13, oddzielonej od kanalu 1 i nachylonej w jedna strone. Do wnetrza tej komory powierzchnie odbojowe usta¬ wione pionowo siegaja swymi dolnymi kon¬ cami 2", dzieki czemu ciecz splukujaca przedostaje sie do tej komory plynac jesz¬ cze po powierzchni odbojowej i dopiero w tej komorze opuszcza powierzchnie odbo¬ jowa.Dno 14 kanalu 1 jest przerwane i po¬ siada szczeline 15 umozliwiajaca przeplyw cieczy splukujacej do komory 13 tuz przy powierzchni odbojowej, przy czym po¬ wierzchnie odbojowa tworzy jedna z bocz¬ nych scianek tej szczeliny 15. Obrzeze 14a dna 14 kanalu, stanowiace druga scianke szczeliny* $5 jest •» sciete'skosnie, zaokrajglo* ne tub tez nawet odgiete wdól, aby zapew¬ nic przeplyw cieczy przez szczeline bez wszelkich trudnosci.Powstawaniu wirów lub odwrotnie skie¬ rowanych pradów w komorze 13 zapobie¬ ga sie wedlug wynalazku przez wprowa¬ dzenie tej komory do naczynia zbiorczego 16 przylaczonego do komory 13. Przez to osiaga sie latwy i wolny odplyw cieczy splukujacej przede wszystkim wtedy, gdy w tym naczyniu zbiorczym panuje cisnienie mniejsze od cisnienia panujacego w kanale 1 przed powierzchnia odbojowa.Ciecz splukujaca moze odplywac z na¬ czynia tego w dól przez otwór wypustowy 17, podczas gdy gaz odplywa przez drugi otwór wypustowy 18 do góry. Otwór 18 w przykladzie przedstawionym na rysunku prowadzi z powrotem do kanalu 1, miano¬ wicie, w miejscu, w którym panuje cisnie¬ nie nizsze.Niezaleznie od tego, która ze specjal¬ nych odmian urzadzenia powyzszego za* mierza sie zastosowac, jest rzecza celowa zaopatrzenie powierzchni odbojowych w specjalne uksztaltowanie ich powierzchni roboczych, np. w wystepy, zeberka, wycie¬ cia, naciecia, otworki. Zaleca sie to zwlasz¬ cza w tych przypadkach, w których sub* stancje wydzielone posiadaja korzystne wlasciwosci zwilzania i moga byc wydzie¬ lane równiez bez zastosowania cieczy splu¬ kujacej. W tych wlasnie przypadkach, przede wszystkim w razie duzych szybko¬ sci przeplywu gazu, zaleca sie przestrzenie wolne, utworzone pomiedzy wystepami, ze¬ berkami, i t. d. powierzchni odbojowej, u- czynic tak waskimi, aby oprócz oddzialy¬ wania powierzchniowego, wywolywanego przez swoiste uksztaltowanie powierzchni odbojowej, zachodzilo równiez zjawisko wloskowatosci, które powoduje tak isilne przyleganie warstwy substancji wydzielo¬ nej do tej swoiscie uksztaltowanej po- «- 7 -skutecznie przeciwstawia sie scieraniu wzmiankowanej warstwy strumieniem ga¬ zu. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Urzadzenie do osadzania lub roz¬ dzielania rozmaitych substancji z gazów, pary lub cieczy w postaci mgly, z wyzyska¬ niem bezwladnosci czasteczek tych sub¬ stancji przez uzycie powierzchni odbojo¬ wych wystajacych skosnie w stosunku do kierunku strumienia gazu, par lub cieczy (mgly), znamienne tym, ze powierzchnie odbojowe, nastepujace po sobie kolejno li¬ czac w kierunku przeplywu gazu, par lub cieczy, sa rozmieszczone tak, iz przekroje przeplywowe — mierzone pomiedzy kra¬ wedzia zewnetrzna kazdej powierzchni od¬ bojowej z jednej strony a przeciwlegla scianka kanalu lub nastepna powierzchnia odbojowa z drugiej strony — stale wzra¬ staja az do krawedzi zewnetrznej tej dru¬ giej powierzchni odbojowej., 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, zna¬ mienne tym, ze powierzchnie odbojowe sa ustawione pod katem 45° w stosunku do osi kanalu roboczego, przy czym plaszczyz¬ ny powierzchni odbojowych nastepujacych po sobie kolejno przecinaja scianki kanalu W przyblizeniu w tych samych miejscach. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 lub 2, znamienne tym, ze zarówno wystajace po¬ wierzchnie odbojowe, jak i przylegajace do nich czesci scianek kanalu roboczego, w które uderzaja wydzielane czasteczki, sa zaopatrzone w przyrzady zraszajace. 4. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, 2 i 3, znamienne tym, ze przekroje przeplywo¬ we pomiedzy krawedziami zewnetrznymi powierzchni odbojowych a sciankami ka¬ nalu zmniejszaja sie kolejno w kierunku przeplywu gazu. 5. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 — 4 dostosowane do przeplywu gazówr - przez zbiornik w kierunku odbiegajacym od kie¬ runku poziomego, a zwlaszcza w kierunku wznoszacym sie do góry, znamienne tym, ze zraszane powierzchnie odbojowe sa u- stawione pod katem od 90° do 270° do po¬ ziomu. 6. Urzadzenie wedlug zastrz. 5, zna¬ mienne tym, ze kanal roboczy urzadzenia posiada pierscieniowy przekrój poprzecz¬ ny i jest umieszczony pomiedzy dwiema o- slonami, ustawionymi jedna wewnatrz drugiej, zwlaszcza oslonami posiadajacymi ksztalt bryl obrotowych. 7. Urzadzenie wedlug zastrz. 5 i 6, znamienne tym, ze szerokosci przekrojów przeplywowych sa zmniejszone kolejno od¬ powiednio do zwiekszenia sredniego pro¬ mienia przekroju pierscieniowego w taki sposób, iz najwezsze przekroje przeply¬ wowe, znajdujace sie przed miejscami zmiany kierunku przeplywu gazu, sa rów¬ ne sobie. 8. Urzadzenie wedlug zastrz. 4— 7, znamienne tym, ze szerokosci przekrojów przeplywowych sa zmniejszone w ten spo¬ sób, iz najwezsze przekroje przeplywowe zmniejszaja sie kolejno w kierunku prze¬ plywu gazu, 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, zna¬ mienne tym, ze jest wykonane w postaci nasady kominowej, posredniego ogniwa ru¬ ry kominowej lub podobnej czesci komina. 10. «10. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 — 9A znamienne tym, ze przestrzenie lezace na¬ przeciw powierzchni odbojowych i powo¬ dujace tworzenie sie wirów sa osloniete, np. za pomoca scianek wygietych lukowo* dzieki czemu w kazdej z nich powstaje tylko jeden wir staly i nieprzerwanie obra¬ cajacy sie. 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 1 — 10, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w na¬ rzady, które chronia przeplyw cieczy splu¬ kujacej lub wydzielonej od wplywu wiruja- — 8 —cych fcrAdów traktowanych gazów lub par, skierowanych nati odwrotnie, wzglednie zapobiegaja tworzeniu sie takich pradów. 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, znamienne tym, ze pomiedzy powierzchnia odbojowa i równolegla do niej przegroda, której brzeg dolny jest sciety skosnie w kierunku powierzchni odbojowej, utwo¬ rzony jest kanal, przez który przeplywa ciecz, wyplywajaca z komory, znajdujacej sie poza obrebem strumienia gazu, i plyna¬ ca po powierzchniach odbojowych. 13. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze obrzeze górne po¬ wierzchni odbojowej jest sciete skosnie w kierunku równoleglej do niej przegrody. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze pomiedzy powierzchnia odbojowa i równolegla do niej przegroda umieszczone sa wkladki rozporowe., 15. Urzadzenie wedlug zastrz. 14, znamienne tym, ze jako wkladki rozporo¬ we sluza zeberka przebiegajace w kierun¬ ku przeplywu cieczy splukujacej i tworza¬ ce jednoczesnie czesc powierzchni odbojo¬ wej lub równoleglej do niej przegrody. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 12 i 14, znamienne tym, ze wzajemne zachodzenie za siebie powierzchni odbojowej i równo¬ leglej do niej przegrody jest wieksze od rzutu lub rzutów ich krawedzi scietych. 17. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze górna krawedz po¬ wierzchni odbojowej jest nastawna w kie¬ runku poziomym, np. za pomoca srub na- stawczych. 18. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, 13 i 15, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w narzad do regulowania ilosci doplywajacej cieczy splukujacej, regulujacy wysokosc slupa cieczy nad krawedzia przelewowa powierzchni odbojowej. 19. Urzadzenie wedlug zastrz, 11, znamienne tym, ze obrzeze powierzchni odbojowej w poblizu krawedzi, przy której przeplywa gaz, jest gladkie i nie jest splu¬ kiwane ciecza. 20. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w ko¬ more, znajdujaca sia poza kanalem robo¬ czym, wewnatrz której odbywa sie odpro¬ wadzanie cieczy splukujacej, plynacej z powierzchni odbojowej. 21. Urzadzenie wedlug zastrz. 20, znamienne tym, ze jest zaopatrzone w szczeline, której jedna scianke boczna sta¬ nowi Sama powierzchnia odbojowa i do której odprowadzana jest ciecz splukujaca. 22. Urzadzenie wedlug zastrz. 20 i 21, znamienne tym, ze powierzchnia odbojo¬ wa swym dolnym obrzezem jest umieszczo¬ na wewnatrz komory znajdujacej sie poza obrebem kanalu roboczego., 23. Urzadzenie wedlug zastrz. 20 — 22, znamienne tym, ze obrzeze scianki szczeliny, przeciwlegle do powierzchni od¬ bojowej, jest sciete w kierunku tej po¬ wierzchni, zaokraglone lub odgiete. 24. Urzadzenie wedlug zastrz. 20, znamienne tym, ze komora znajdujaca sie poza obrebem kanalu roboczego jest wpro¬ wadzona swym koncem do specjalnego na¬ czynia zbiorczego, w którym panuje ci¬ snienie mniejsze od cisnienia panujacego w kanale roboczym przed powierzchnia od¬ bojowa. Marta Zander, ur. Kloas. Zastepca: Inz. M. Zmigryder, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 25326. Ark. 1. Fig. 1. H Fig*. i i i •fr- hDo opisu patentowego Nr 25326. Ark.
  2. 2.Do opisu patentowego Nr 25326. Ark.
  3. 3. 1b Druk L. Boguslawskiego i Ski. Warszawa. PL
PL25326A 1935-06-13 Urzadzenie do osadzania lub rozdzielania rozmaitych substancji z gazów, par lub cieczy w postaci mgly. PL25326B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL25326B1 true PL25326B1 (pl) 1937-09-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2673451A (en) Apparatus for separating suspended material from a fluid stream
US3200568A (en) Flash separator
DE602004012420T2 (de) Gas/flüssigkeits-abscheider
KR880000800B1 (ko) 기액 혼합물 처리장치
US4045524A (en) Installations for washing a polluted gas
JP3787153B2 (ja) 気体と液体とを向流接触させる塔
US3841061A (en) Gas cleaning apparatus
US3463464A (en) Fluid contact tray
US2718900A (en) Valve mechanism for fluid and liquid contact apparatus
NO322385B1 (no) Trefaseseparator
SE432360B (sv) Sett och anordning for avlegsnande av fasta och flytande fororeningar fran gaser, serskilt for fergsprutboxar
JPS6316966B2 (pl)
JP2000511112A (ja) 液体分配装置
US4299602A (en) Device for washing a polluted gas and installation equipped with such a device
KR20010023801A (ko) 기액 접촉 트레이용 강수관
US5584993A (en) Settling unit with plate separator
SI9620108A (sl) Postopek in priprava za mokro izločanje kislih plinov
RU2397001C2 (ru) Входное устройство для текучей среды, его использование и способ модернизации
US3524631A (en) Means for carrying out gas scrubbing operations
US3130024A (en) Apparatus for separating foreign matter from air
US3699748A (en) Wet scrubber dust collector
JPH09512480A (ja) 蒸気−液体接触トレイと降水管組立体及びその使用方法
US2642950A (en) Deaerating a suspension of cellulosic fibers
US3332214A (en) Method and apparatus for collecting contaminants from gases
US4514196A (en) Absorption tower for gas washing