Wynalazek niniejszy dotyczy sposobu nowych, a zwlaszcza ich zdolnosci odbija- nadawania powierzchniom przedmiotów nia swiatla, glinowych silnego polysku. Sposób wedlug wynalazku polega na ob- Nadawanie powierzchniom przedmiotów róbce powierzchni przedmiotów glinowych, glinowych silnego polysku stosuje sie w ce- która zwieksza wspólczynnik odbijania lach dekoracyjnych, a zwlaszcza w celu swiatla takiej powierzchni przez wytwo- silnego odbijania swiatla. rzenie na niej przezroczystej powloki och- Nadawanie powierzchniom przedmiotów ronnej. glinowych silnego polysku uskutecznia sie Czyniono juz przedtem próby majace badz przez wytrawianie w celu otrzymania na celu wytwarzanie na odbijajacych swia- powierzchni odbijajacych swiatlo rozpro- tlo powierzchniach przedmiotów glinowych szone, badz przez mechaniczne wygladza- przezroczystej powloki ochronnej w celu nie lub polerowanie w celu otrzymania po- utrwalenia ich zdolnosci odbijania swiatla wierzchni zwierciadlanych. oraz uczynienia ich bardziej wytrzymalymi Wynalazek niniejszy dotyczy przede przy uzywaniu tych przedmiotów, wszystkim sposobu spotegowania i utrwale- Wytwarza sie np. takie przezroczyste nia polysku powierzchni przedmiotów gli- powloki ochronne przez utlenianie powierz-dani przedmiotów glinowych stosowanych jako anoda w kapielach elektrolitycznych.W ogóte jednak próby te nie daly wy¬ ników zadowalajacych, poniewaz przy pe¬ wnej grubosci powloki tlenkowej, niezbed¬ nej do odpowiedniego zabezpieczenia i o- chróny tych powierzchni, Otrzymuje sie po¬ wloki tylko mniej lub bardziej swiecace lub zmetnione, a zdolnosc odbijania swiatla ta¬ kiej powierzchni znacznie sie zmniejsza.Zanieczyszczenie samego tworzywa, brud, tluszcz oraz: inne ciala obce znajdujace sie na powierzchni przedmiotów glinowych sa przypuszczalnie powodem slabego polysku i zmetnienia powlok tlenkowych. Ponadto niektóre powloki tlenkowe sa lekko zabar¬ wione, co jeszcze bardziej zmniejsza zdol¬ nosc obrobionej powierzchni do odbijania swiatla. Powloki, utworzone na przedmio¬ tach glino^yych jako anodzie w elektroli¬ tach zawierajacych np. kwas chromowy, posiadaja zwykle odcien zóltawy, wskutek czego byly uznawane za nie odpowiadaja¬ ce swemu celowi.Okazalo sie, ze przez dodanie do elek¬ trolitów zawierajacych kwas chromowy kwasu fluorowodorowego wlasciwe wzmian¬ kowanym elektrolitom dzialanie utleniaja¬ ce na przedmiot glinowy umieszczony w takim elektrolicie jako anoda moze byc zmienione na bardziej zlozone dzialanie powodujace zwiekszenie polysku powierz¬ chni oraz wytworzenie na niej cienkiej i bezbarwnej powloki ochronnej, przy czym zanieczyszczenia i ciala obce, które znaj¬ duja sie ewentualnie na powierzchni tego przedmiotu, zostaja z niej usuniete. W ten sposób otrzymuje sie bardziej trwala po¬ wierzchnie odbijajaca swiatlo i posiadaja¬ ca na ogól wiekszy niz zwykle wspólczyn¬ nik odbijania swiatla. Tak otrzymane bly¬ szczace, odbijajace swiatlo powierzchnie posiadajace powloke ochronna moga byc nastepnie poddane dalszej obróbce przez u- tlenienie ich jako anod w kapieli elektroli¬ tycznej bez znaczniejszego zmniejszenia ich zdolnosci odbijania swiatla. Na blyszczace, trwale, odbijajace swiatlo powierzchnie o- trzymane sposobem wedlug wynalazku mo¬ ga byc nakladane równiez wszelkie inne ro¬ dzaje powlok ochronnych, np. powloki z la¬ kieru przezroczystego lub zaprawy. Dodanie kwasu fluorowodorowego do elektrolitu za¬ wierajacego kwas chromowy zmienia zwy¬ kle dzialanie elektrochemiczne roztworu kwasu chromowego na powierzchnie przed¬ miotu glinowego zmniejszajac posiadana przez ten roztwór wlasciwosc wytwarzania powloki tlenkowej i nadajac elektrolito¬ wi wlasciwosc usuwania zanieczyszczen obecnych w, samym tworzywie przedmio¬ tu glinowego (pod jego powierzchnia) oraz na jego powierzchni. Ta wlasciwosc usu¬ wania zanieczyszczen jest powodowa¬ na przypuszczalnie spotegowaniem rozpu¬ szczajacego dzialania elektrolitu. Dzia¬ lanie rozpuszczajace jest jednak tak rów¬ nomierne pod dzialaniem doprowadzone¬ go pradu elektrycznego, ze nawet w ra¬ zie obróbki wedlug wynalazku niniejsze¬ go wypolerowanej zwierciadlanej po¬ wierzchni przedmiotu glinowego, jako ano¬ dy, w elektrolicie, zawierajacym kwas chromowy oraz niewielki dodatek kwasu fluorowodorowego, powierzchnia ta zosta¬ je oczyszczona, przy czym jej polysk zwie¬ ksza sie z jednoczesnym zwiekszeniem sie jej zdolnosci odbijania swiatla odpowied¬ nio do ilosci zanieczyszczen i brudu usu¬ nietej z tej powierzchni, a charakter zwier¬ ciadlany tej powierzchni ulega zaledwie bardzo nieznacznej zmianie.Wedlug wynalazku niniejszego zamiast kwasu fluorowodorowego mozna stosowac równowazne ilosci kwasu fluorokrzemowo- dorowego i innych zwiazków iluoru roz¬ szczepiajacych sie w roztworach kwasu chromowego z wydzieleniem kwasu fluoro¬ wodorowego, np. rozmaitych fluorków- ......Ilosc kwasu fluorowodorowego, niezbe¬ dna do nadania pozadanych wlasciwosci elektrolitom zawierajacym kwas chromo-:wy, waha sie w pewnych granicach. Juz bardzo male ilasci kwasu fluorowodorowe¬ go wprowadzone do roztworu kwasu chro¬ mowego nadaja mu pozadane wlasciwosci w pewnym odpowiednim stopniu. Na ogól jednak jest rzecza pozadana, aby w elek¬ trolicie nie bylo mniej niz 0,2% wagowych HF. Wraz ze wzrostem zawartosci kwasu fluorowodorowego wzrasta równiez mozli¬ wosc bezposredniego dzialania chemiczne¬ go elektrolitu na powierzchnie przedmiotu glinowego. W celu zapobiezenia temu bez¬ posredniemu dzialaniu chemicznemu wy¬ wolujacemu nieprawidlowosci otrzymywa¬ nej powierzchni nalezy zwiekszyc gestosc doprowadzanego pradu elektrycznego.Aczkolwiek bardziej stezony kwas fluo¬ rowodorowy moze byc zastosowany przy wiekszej gestosci pradu elektrycznego, zwykle nie jest rzecza pozadana, aby elek¬ trolit zawieral wiecej niz 1,5% wagowych HF, ze wzgledu na koniecznosc znacznego zuzycia pradu w celu osiagniecia zamierzo¬ nych wyników. W wiekszosci przypadków zaleca sie stosowac elektrolit zawierajacy 0,5 — 1,0% wagowych HF.Zadowalajace wyniki mozna otrzymac dodajac kwasu fluorowodorowego do elek¬ trolitów zawierajacych 1,0 — 25,0% wa¬ gowych Cr03. Aczkolwiek w granicach tych nie ma zadnej! krytycznej wartosci stezenia roztworu kwasu chromowego1 jednak zwy¬ kle najlepiej jest stosowac elektrolity za¬ wierajace 5 — 10% wagowych Cr03.Przy przeprowadzaniu obróbki elektro¬ litycznej najlepiej jest, aby temperatura elektrolitu byla nieco wyzsza od tempera¬ tury pokojowej, przy czym najodpowied¬ niejszymi okazaly sie temperatury 30 — 70°C. Przy utrzymywaniu kapieli elektro¬ litycznej w tych temperaturach zadowala¬ jace wyniki osiaga sie zwykle po uplywie 5 — 30 minut. W wiekszosci przypadków najlepiej jest prowadzic elektrolize w tem¬ peraturze 50°C w ciagu okolo 10 minut.Gestosc doprowadzanego pradu jest zmienna i zalezy od skladu elektrolitu i temperatury, w której przeprowadza sie e- lektrolize. Gestosc ta powinna byc dosc duza, aby zapobiegala bezposredniemu dzialaniu chemicznemu elektrolitu na glin, przy czym nie zaleca sie przekraczac pew¬ nej granicy tej gestosci. Przy wiekszej ge¬ stosci pradu maleje wplyw kwasu fluoro¬ wodorowego na wlasciwosc kwasu chromo¬ wego tworzenia powlok tlenkowych, W o- góle biorac, wieksza gestosc pradu jest nie¬ zbedna przy prowadzeniu obróbki elektro¬ litycznej w wyzszej temperaturze. Przy u- zyciu pradu stalego i elektrolitu zawiera¬ jacego 1 — 25% kwasu chromowego i 0,2 — 1,5% kwasu fluorowodorowego w tem¬ peraturach pomiedzy 30 — 70°C zadowa¬ lajace wyniki daja sie osiagnac w razie za¬ stosowania gestosci pradu mieszczacej sie w granicach 20 — 140 A na 0,1 m2. Przy mniejszej gestosci pradu zaleca sie zwykle przedluzyc nieco okres czasu elektrolizy.Przed obróbka odbijajacej swiatlo po¬ wierzchni przedmiotu glinowego sposobeiri wedlug wynalazku niniejszego w celu osia¬ gniecia najlepszych wyników jest czasem rzecza pozadana poddac powierzchnie tego przedmiotu obróbce wstepnej w celu usu¬ niecia tluszczu i brudu, który moze znaj" dowac sie na tej powierzchni po zabiegu polerowania. Do tego celu mozna zastoso¬ wac dowolne oczyszczanie wstepne, najle^ piej zmywanie powierzchni rozpuszczalni¬ kiem nie oddzialywajacym szkodliwie na metal i nie wymagajacym tak silnego scie¬ rania polerowanej powierzchni, które mo¬ globy zmienic wyglad tej powierzchni.Po obróbce elektrolitycznej odbijajacej swiatlo powierzchni przedmiotu glinowego w elektrolicie zawierajacym kwas chromo¬ wy i kwas fluorowodorowy powierzchnia ta moze byc poddana utlenieniu, jako anoda, w celu utworzenia na niej stosunkowo ge¬ stej powloki tlenkowej, która jest wtedy zasadniczo przezroczysta* Wyrazenie „po¬ wloka tlenkowa" uzyte w opisie i zastrze- — 3 —zeniach patentowych oznacza powloki na¬ zywane tak potocznie w tej dziedzinie przemyslu i utworzone w przewaznej swej czesci z tlenku glinu.Jest rzecza pozadana, aby otrzymywane powloki byly zasadniczo bezbarwne, czy¬ ste (niezmetnione) i przezroczyste w celu mozliwie najmniejszego obnizenia zdolno¬ sci odbijania swiatla przez taka blyszcza¬ ca powierzchnie przedmiotu glinowego.Aczkolwiek mozna uzywac dowolnego elektrolitu, za pomoca którego daje sie wy¬ tworzyc taka powloke tlenkowa, jednak do¬ swiadczenie wykazalo, ze najbardziej na¬ daja sie do tego celu kwas siarkowy i kwas szczawiowy.Stopien zmniejszenia zdolnosci odbija¬ nia swiatla, powodowanego nalozeniem po¬ wloki tlenkowej na powierzchnie przygo¬ towana w opisany powyzej sposób, zmienia sie w zaleznosci od grubosci powloki tlen¬ kowej oraz czystosci samej powierzchni.Powierzchnia zaopatrzona w powloke tlenkowa moze byc nastepnie potraktowa¬ na woda w temperaturze 80 — 100°C w ce¬ lu uczynienia tej powloki nieprzenikliwa.Jako obróbka ostateczna, zwlaszcza w ra¬ zie obróbki powierzchni goraca woda, mo¬ ze okazac sie pozadanym zabieg bardzo lekkiego polerowania umiarkowanie sciera¬ jacym materialem, np. magnezja, prosz¬ kiem do polerowania srebra lub proszkiem mydlanym, w celu usuniecia wszelkich osa¬ dów, które moglyby utworzyc sie na po¬ krytej powloka tlenkowa powierzchni od¬ bijajacej swiatlo podczas któregokolwiek z zabiegów poprzednich.Ponizej podaje sie przyklad przepro¬ wadzenia sposobu wedlug wynalazku ni¬ niejszego.Przedmiot z bardzo czystego glinu pod¬ dano mechanicznemu wygladzeniu w celu wytworzenia powierzchni zwierciadlanej, której wspólczynnik odbijania swiatla wy¬ nosil 74,9%. Przedmiot ten umieszczono na¬ stepnie, jako anode, w kapieli elektrolitycz¬ nej stanowiacej 10%-owy roztwór kwasu chromowego z dodatkiem 1% 48%-owego kwasu fluorowodorowego. Przez kapiel przepuszczano prad staly o gestosci mniej wiecej 46 — 52 A na 0,1 m2 przy napieciu 16 — 22 V w ciagu 10 minut, przy czym elektrolit utrzymywano w temperaturze 49 — 58°C. Po tej obróbce wspólczynnik odbijania swiatla tej powierzchni wyniósl 87,2%. Przedmiot poddano nastepnie, jako anode, utlenieniu w roztworze 7%-owego kwasu siarkowego utrzymywanego w tem¬ peraturze mniej wiecej 25°C w ciagu 10 minut doprowadzajac prad o gestosci oko¬ lo 12 A na 0,1 m2 przy napieciu 20 — 22 V. Powierzchnie otrzymana w ten spo¬ sób zaopatrzono w powloke tlenkowa, pod¬ dano obróbce czysta wrzaca woda w ciagu okolo 10 minut, po czym wypolerowano umiarkowanie scierajacym proszkiem my¬ dlanym. Wspólczynnik odbijania swiatla tej powierzchni zaopatrzonej w powloke tlenkowa wynosil okolo 85,3%. Przedmiot ten mozna bylo brac do rak bez pozosta¬ wiania trwalych sladów i plam; mozna go bylo z latwoscia myc i wycierac bez zmniejszania jego zdolnosci odbijania swiatla.Do mierzenia wspólczynników odbija¬ nia swiatla opisanych powierzchni stoso¬ wano reflektometr A. H. Taylor'a z Na¬ tional Bureau of Standards opisany w Scientific Papers of the Bureau of Stan¬ dards Nr. S. 391 i 405.Na ogól powierzchnie, odbijajace swia¬ tlo, wytworzone na przedmiotach ze sto¬ pów glinowych i obrobione wedlug wyna¬ lazku niniejszego za pomoca elektrolitu zawierajacego kwas chromowy i kwas fluorowodorowy, a nastepnie utlenione, ja¬ ko anody, za pomoca elektrolizy, nie posia¬ daja tak duzych wspólczynników odbija¬ nia swiatla, jakie udaje sie osiagnac przy takiejze obróbce powierzchni przedmiotów z czystego glinu. Jednak sposób wedlug wynalazku daje sie stosowac z korzyscia — 4 —przy obróbce wielu stopów, których glów¬ nym skladnikiem jest glin, w zwiazku z czym okreslenie „glin" uzyte w opisie wy¬ nalazku i zastrzezeniach patentowych ma obejmowac zarówno czysty glin, jak i sto¬ py, których glównym skladnikiem jest glin. PL