PL234891B1 - Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych - Google Patents
Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych Download PDFInfo
- Publication number
- PL234891B1 PL234891B1 PL408763A PL40876314A PL234891B1 PL 234891 B1 PL234891 B1 PL 234891B1 PL 408763 A PL408763 A PL 408763A PL 40876314 A PL40876314 A PL 40876314A PL 234891 B1 PL234891 B1 PL 234891B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- polymer
- substrate
- laser light
- solution
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 4
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 abstract description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 8
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
- C03C17/328—Polyolefins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
- B05D3/0254—After-treatment
- B05D3/0263—After-treatment with IR heaters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/75—Hydrophilic and oleophilic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerów na podłożach stałych charakteryzujący się tym, że na podłoże w szczególności takie jak szkło, kwarc, szkło z warstwą ITO, folie polimerowe oraz mika nanosi się warstwę roztworu lub zawiesiny polimeru. Następnie wytwarza się warstwę stałą za pomocą światła laserowego tworzącego linię o jednorodnym natężeniu światła, przy czym linia ta przesuwa się w kierunku prostopadłym do swojej osi.
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych, z wykorzystaniem do tego celu światła laserowego, na podłożach stałych, w szczególności szklanych i z tworzyw sztucznych. Sposób według wynalazku znajduje zastosowanie do funkcjonalizowania powierzchni podłoży celem otrzymania pożądanych właściwości fizykochemicznych takich jak: tworzenie warstwy przewodzącej na podłożu dielektrycznym, hydrofobizacja lub hydrofilizacja powierzchni podłoża, warstwy absorbujące promieniowanie.
Znanych jest wiele metod wytwarzania cienkich warstw polimerowych z roztworu, mających zastosowanie zarówno do celów badawczych jak i produkcji wielkoskalowej, żadna jednak z nich nie pozwala na jednoczesne nakładanie cienkiej warstwy na podłoża o dużej powierzchni z zachowaniem jednorodnej grubości i wysokiej gładkości powierzchni.
Znane są z amerykańskich opisów patentowych nr US8617313 B1, US8445365 B2 oraz z amerykańskiego zgłoszenia nr US20090242805 A1 metody modyfikacji cienkiej warstwy materiału nieorganicznego na stałym podłożu wykorzystujące światło laserowe w postaci ciągłej, poruszającej się linii. W/w zgłoszenia opisują sposoby rekrystalizacji warstwy amorficznego materiału w wyniku czego powstaje uporządkowana warstwa polikrystaliczna (np. krzemu). W rozwiązaniach tych światło lasera miejscowo topi warstwę amorficzną w temperaturach rzędu 1000°C, która następnie ulega powolnej krystalizacji, a dzięki temu, że strefa stopiona się porusza, otrzymane kryształy są uporządkowane.
Z amerykańskiego zgłoszenia patentowego nr US5143533 A znana jest także metoda laserowego wytwarzania warstwy amorficznego materiału poprzez strefowe topienie stałego roztworu koloidalnego, zakres temperatur roboczych wynosi około 1000°C.
Znane są także rozwiązania, w których światło laserowe w postaci linii jest wykorzystywane do suszenia mokrych warstw nanoszonych materiałów. W amerykańskim zgłoszeniu US20140059878 A1 oraz opisie patentowym US8485096 B2 warstwa nanoszonego materiału absorbuje promieniowanie laserowe po czym ulega lokalnemu podgrzaniu i wysycha. Na uwagę zasługuje fakt, że podgrzaniu nie ulega podłoże, na które jest nanoszony przedmiotowy materiał.
Istota sposobu wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych według wynalazku polega na tym, że na podłoże w szczególności: szkło, kwarc, szkło z warstwą ITO, folie polimerowe oraz mika nanosi się warstwę roztworu lub zawiesiny polimeru i następnie wytwarza się warstwę stałą za pomocą światła laserowego tworzącego linię o jednorodnym natężeniu światła, przy czym linia ta przesuwa się w kierunku prostopadłym do swojej osi, co prowadzi do obniżenia napięcia powierzchniowego w warstwie roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru, odpływu nadmiaru roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru i pozostawienia jego cienkiej warstwy, następnie odparowywania rozpuszczalnika z pozostałej cienkiej warstwy roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru i jej wysuszenia.
Korzystnie wykorzystuje się światło laserowe o długości fali przypadającej na pasmo absorpcji podłoża, na które nanoszona jest wa rstwa polimeru.
Korzystnie wykorzystuje się światło laserowe o długości fali nie powodującej degradacji nanoszonego polimeru.
Korzystnie wiązka światła laserowego jest ukształtowana w linię o długości większej lub równej szerokości podłoża.
Korzystnie natężenie światła na całej długości linii jest jednakowe.
Korzystnie natężenie światła i szybkość przesuwu są tak dobrane aby temperatura podłoża nie przekraczała temperatury degradacji nanoszonego polimeru jak i podłoża.
Korzystnie stosuje się rozpuszczalniki o tak dobranej lotności, aby warstwa roztworu nie ulegała wyschnięciu zanim podłoże zostanie podgrzane światłem lasera.
Korzystnie nanosi się warstwę roztworu mieszaniny polimerów.
Korzystnie nanosi się warstwę polimeru domieszkowanego związkami niskocząs teczkowymi.
Korzystnie nanosi się warstwę polimeru domieszkowanego nanocząstkami.
Korzystnie nanosi się warstwę zawiesiny polimeru lub mieszaniny polimerów.
Długość fali światła laserowego jest tak dobrana, aby absorbowana była przez podłoże, na które nanoszona jest substancja, dzięki czemu podłoże ulega lokalnemu podgrzaniu. Skutkuje to
PL 234 891 B1 obniżeniem napięcia powierzchniowego w ciekłej warstwie i, w efekcie, odpływem nadmiaru roztworu oraz odparowywaniem rozpuszczalnika z pozostałej cienkiej warstwy roztworu i jej wysuszeniem.
Zaletą sposobu według wynalazku jest możliwość otrzymania warstw o bardzo jednorodnej grubości i wysokiej gładkości na podłożach o dużych powierzchniach.
Przedmiot wynalazku przedstawiony jest bliżej w przykładach wykonania.
P r z y k ł a d 1
Otrzymywanie warstw polimetakrylanu metylu na podłożu szklanym.
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane naniesiono warstwę roztworu polimetakrylanu metylu w chlorobenzenie o stężeniu 50 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 7,2W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 2 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość 98 nm.
P r z y k ł a d 2
Otrzymywanie warstw polimetakrylanu metylu na podłożu szklanym z warstwą ITO (tlenku indowo-cynowego).
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane z ITO naniesiono warstwę roztworu polimetakrylanu metylu w chlorobenzenie o stężeniu 50 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 7,2W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 2 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość 90 nm.
P r z y k ł a d 3
Otrzymywanie warstw polimetakrylanu metylu domieszkowanego nanocząstkami PbS na podłożu szklanym z warstwą ITO (tlenku indowo-cynowego).
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane z ITO naniesiono warstwę roztworu polimetakrylanu metylu w chlorobenzenie o stężeniu 50 mg/ml z dodatkiem 25% obj. roztworu nanocząstek PbS w toluenie o stężeniu 5 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 7,2W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 2 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość 60 nm.
P r z y k ł a d 4
Otrzymywanie warstw rozpuszczalnego fluoropolimeru na podłożu szklanym.
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane naniesiono warstwy roztworu fluoropolimeru o stężeniach wagowych 1; 3 i 9%. Następnie warstwy te oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła odpowiednio 4,8; 4,8 oraz 12W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością odpowiednio 2; 2 oraz 0,5 mm/s. Otrzymane warstwy miały grubości odpowiednio 3,5; 11 i 270 nm.
P r z y k ł a d 5
Otrzymywanie warstw poli(3-heksylotiofenu) na podłożu szklanym.
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane naniesiono warstwy roztworu poli(3-heksylotiofenu) w chloroben zenie o stężeniach 5 i 10 mg/ml. Następnie warstwy tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 12W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 2 mm/s. Otrzymane warstwy miały grubości ok. 1,5 i 6 nm.
P r z y k ł a d 6
Otrzymywanie warstw PEDOT:PSS (polietylenodioksytiofen : sulfonian polistyrenu) na podłożu szklanym.
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże szklane z hydrofilową powierzchnią naniesiono warstwę zawiesiny PEDOT:PSS o stężeniu wagowym 2% w wodzie. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (któr a jest absorbowana przez szklane podłoże) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła
PL 234 891 B1
12W, wymiary wiązki 24 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 0,5 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość 150 nm.
P r z y k ł a d 7
Otrzymywanie warstw poli(3-heksylotiofenu) na podłożu z polinaftalanu etylenu (PEN).
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże PEN o grubości 125 mikrometrów naniesiono warstwę roztworu poli(3-heksylotiofenu) w chlorobenzenie o stężeniu 5 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez folię PEN) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 9,6W, wymiary wiązki 47 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 4 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość ok. 2 nm.
P r z y k ł a d 8
Otrzymywanie warstw poli(3-heksylotiofenu) na podłożu poliestrowym.
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże poliestrowe o grubości 125 mikrometrów naniesiono warstwę roztworu poli(3-heksylotiofenu) w chlorobenzenie o stężeniu 5 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez folię poliestrową) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 9,6W, wymiary wiązki 47 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 4 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość ok 2 nm.
P r z y k ł a d 9
Otrzymywanie warstw poli(3-heksylotiofenu) na podłożu z politereftalanu etylenu (PET).
Sposób wytworzenia warstwy polega na tym, że na podłoże PET o grubości 125 mikrometrów naniesiono warstwę roztworu poli(3-heksylotiofenu) w chlorobenzenie o stężeniu 5 mg/ml. Następnie warstwę tę oświetlono linią światła laserowego o długości fali 10,6 mikrometra (która jest absorbowana przez folię PET) pochodzącą z lasera gazowego na dwutlenku węgla. Moc lasera wynosiła 12W, wymiary wiązki 40 x 0,15 mm. Wiązka ta poruszała się z szybkością 2 mm/s. Otrzymana warstwa miała grubość 6 nm.
Claims (11)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerów na podłożach stałych znamienny tym, że na podłoże w szczególności szkło, kwarc, szkło z warstwą ITO, folie polimerowe oraz mika nanosi się warstwę roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru i następnie wytwarza się warstwę stałą za pomocą światła laserowego tworzącego linię o jednorodnym natężeniu światła, przy czym linia ta przesuwa się w kierunku prostopadłym do swojej osi, co prowadzi do obniżenia napięcia powierzchniowego w warstwie roztwor u polimeru lub zawiesiny polimeru, odpływu nadmiaru roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru i pozostawienia jego cienkiej warstwy, następnie odparowywania rozpuszczalnika z pozostałej cienkiej warstwy roztworu polimeru lub zawiesiny polimeru i jej wysusze nia.
- 2. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że stosuje się światło laserowe o długości fali przypadającej na pasmo absorpcji podłoża, na które nanoszona jest warstwa polimeru.
- 3. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że stosuje się światło laserowe o długości fali nie powodującej degradacji polimeru.
- 4. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że wiązka światła laserowego jest ukształtowana w linię o długości większej lub równej szerokości podłoża.
- 5. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że natężenie światła na całej długości linii jest jednakowe.
- 6. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że natężenie światła i szybkość przesuwu są tak dobrane aby temperatura podłoża nie przekraczała temperatury degradacji nanoszonego polimeru jak i podłoża.
- 7. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że stosuje się rozpuszczalniki o tak dobranej lotności, aby warstwa roztworu nie ulegała wyschnięciu zanim podłoże zostanie podgrzane światłem lasera.
- 8. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że nanosi się warstwę roztworu mieszaniny polimerów.PL 234 891 B1
- 9. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że nanosi się warstwę polimeru domieszkowa- nego związkami niskocząsteczkowymi.
- 10. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że nanosi się warstwę polimeru domieszkowa- nego nanocząstkami.
- 11. Sposób według zastrz. 1 znamienny tym, że nanosi się warstwę zawiesiny polimeru lub mieszaniny polimerów.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL408763A PL234891B1 (pl) | 2014-07-04 | 2014-07-04 | Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych |
| PCT/PL2015/000110 WO2016003301A1 (en) | 2014-07-04 | 2015-07-02 | Method for preparing of thin and ultrathin polymer films on solid substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL408763A PL234891B1 (pl) | 2014-07-04 | 2014-07-04 | Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL408763A1 PL408763A1 (pl) | 2015-04-13 |
| PL234891B1 true PL234891B1 (pl) | 2020-04-30 |
Family
ID=52782001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL408763A PL234891B1 (pl) | 2014-07-04 | 2014-07-04 | Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL234891B1 (pl) |
| WO (1) | WO2016003301A1 (pl) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3880621A1 (fr) * | 2018-11-14 | 2021-09-22 | Saint-Gobain Glass France | Procede de gravure selective d'une couche ou d'un empilement de couches sur substrat verrier |
| JP7538611B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-08-22 | 大王製紙株式会社 | 連結式使い捨て着用物品 |
| WO2024188831A1 (fr) * | 2023-03-10 | 2024-09-19 | Aurys Industries | Procédé et système de fabrication d'un panneau de verre feuilleté revêtu |
| FR3146469A1 (fr) * | 2023-03-10 | 2024-09-13 | Aurys Industries | Procédé et système de fabrication d’un panneau de verre feuilleté revêtu |
| FR3146468A1 (fr) * | 2023-03-10 | 2024-09-13 | Aurys Industries | Procédé et système de fabrication d’un panneau de verre feuilleté revêtu |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2025122C3 (de) * | 1969-07-17 | 1974-07-25 | Vianova-Kunstharz Ag, Wien | Verfahren zur Härtung von Anstrichstoffen und Überzügen mittels von einem Laser emittierter Infrarot-Strahlung |
| US5143533A (en) | 1991-08-22 | 1992-09-01 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Method of producing amorphous thin films |
| US7311778B2 (en) | 2003-09-19 | 2007-12-25 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Single scan irradiation for crystallization of thin films |
| US8221544B2 (en) | 2005-04-06 | 2012-07-17 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Line scan sequential lateral solidification of thin films |
| TW200713423A (en) | 2005-08-16 | 2007-04-01 | Univ Columbia | Systems and methods for uniform sequential lateral solidification of thin films using high frequency lasers |
| DE102008056237B4 (de) | 2007-12-07 | 2019-04-25 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Verfahren zum Trocknen von Druckfarbe und Druckfarbe |
| FR2971960B1 (fr) | 2011-02-25 | 2013-02-22 | Saint Gobain | Traitement thermique de revetement par laser |
-
2014
- 2014-07-04 PL PL408763A patent/PL234891B1/pl unknown
-
2015
- 2015-07-02 WO PCT/PL2015/000110 patent/WO2016003301A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL408763A1 (pl) | 2015-04-13 |
| WO2016003301A1 (en) | 2016-01-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL234891B1 (pl) | Sposób wytwarzania cienkich i ultra cienkich warstw polimerowych na podłożach stałych | |
| Leith et al. | Dynamically controlled electronic behavior of stimuli‐responsive materials: exploring dimensionality and connectivity | |
| Jaafar et al. | Fabrication and tuning the morphological and optical characteristics of PMMA/PEO/SiC/BaTiO3 newly quaternary nanostructures for optical and quantum electronics fields | |
| Zhou et al. | Photoswitching of glass transition temperatures of azobenzene-containing polymers induces reversible solid-to-liquid transitions | |
| Zhong et al. | Helical ribbons for molecular electronics | |
| Park et al. | Enhanced thermoelectric properties of PEDOT: PSS nanofilms by a chemical dedoping process | |
| Chen et al. | Assembly and fiber formation of a gemini-type hexathienocoronene amphiphile for electrical conduction | |
| Chapi et al. | Enhanced electrochemical, structural, optical, thermal stability and ionic conductivity of (PEO/PVP) polymer blend electrolyte for electrochemical applications | |
| Bi et al. | Arbitrary shape designable microscale organic light-emitting devices by using femtosecond laser reduced graphene oxide as a patterned electrode | |
| In et al. | Rational molecular design of electrochromic conjugated polymers: Toward high-performance systems with ultrahigh coloration efficiency | |
| JP6760264B2 (ja) | 斜め延伸フィルムの製造方法 | |
| Lin et al. | Nonvolatile organic field effect transistor memory devices using one-dimensional aligned electrospun nanofiber channels of semiconducting polymers | |
| Liu et al. | Photothermally actuated interfacial hydration for fast friction switch on hydrophilic polymer brush modified PDMS sheet incorporated with Fe 3 O 4 nanoparticles | |
| CN108321297A (zh) | 一种印刷的柔性钙钛矿光电探测器及制备方法 | |
| Memon et al. | Alignment of Organic Conjugated Molecules for High‐Performance Device Applications | |
| Li et al. | Highly aligned organic microwire crystal arrays for high-performance polarization-sensitive photodetectors and image sensors | |
| JP2020179671A (ja) | 斜め延伸フィルムの製造方法 | |
| Ouyang et al. | The fabrication and enhanced nonlinear optical properties of electrostatic self-assembled film containing water-soluble chiral polymers | |
| Biswas et al. | Electric field induced tunable bistable conductance switching and the memory effect of thiol capped CdS quantum dots embedded in poly (methyl methacrylate) thin films | |
| Habibi et al. | Facile and low-cost mechanical techniques for the fabrication of solution-processed polymer and perovskite thin film transistors | |
| Miyajima et al. | Electrophoretic deposition onto an insulator for thin film preparation toward electronic device fabrication | |
| Kitagawa et al. | Photoinduced micropatterning by polymorphic crystallization of a photochromic diarylethene in a polymer film | |
| Palacios et al. | β-Phase morphology in ordered poly (9, 9-dioctylfluorene) nanopillars by template wetting method | |
| Sathish et al. | Dip and spin coated nanoscale transparent PMMA thin films for field effect thin film transistors and optoelectronic devices | |
| ES2272172B1 (es) | Procedimiento para la obtencion de patrones en un sustrato organico conductor y material de naturaleza organica asi obtenido. |