PL22906B1 - , oraz urzadzenie do przeprowadzania tego sposobu. - Google Patents

Description

Wynalazek niniejszy, ogólnie biorac, dotyczy odparowywania i ochladzania cie¬ czy, a zwlaszcza udoskonalonego sposobu stezania roztworów i podobnych cieczy przez ich odparowywanie oraz wydziela¬ nie z roztworów krysztalów, powodowane przez obnizenie sie temperatury, towarzy¬ szace takiemu odparowywaniu cieczy.

Jest rzecza znana, ze do ochladzania i stezania cieczy lub roztworów proponowa¬ no juz liczne odmiany aparatów do odpa- rowywajnia. Ogólna zasade, na której o- parte jest dzialanie takich aparatów do odparowywania, stanowi wprowadzanie goracego roztworu, podlegajacego ochlo¬ dzeniu lub stezeniu, do komory, w której utrzymuje sie ciinienie zmniejszone.

W pewnych przypadkach czyniono juz próby ochladzania lub stezania roztworów przez wprowadzanie goracego roztworu w sposób ciagly do komory prózniowej oraz usuwania z niej roztworu ochlodzonego lub stezonego równiez w sposób ciagly.

Przy przeprowadzaniu kazdego proce¬ su tego rodzaju do osiagniecia pomyslnych wyników jest rzecza niezbedna zapobieze¬ nie osadzaniu sie krysztalków na wewnetrz¬ nej powierzchni scianki oislony komory ro¬ boczej oraz w przewodach, prowadzacych do tej komory lub odprowadzajacych z niej roztwór stezany.

Aczkolwiek niebezpieczenstwo groma¬ dzenia sie krysztalów w otworze wypusto- wym aparatu tego rodzaju jest male, ist-nieje stale niebezpieczenstwo tworzenia; sie krysztalów w otworze wpustowym, co lacznie z osadzaniem sie krysztalów na wewnetrznej powierzchni scianki oslony aparatu stanowilo glówna trudnosc, na która natrafiano przy stosowaniu aparatów tegoi rodzaju.

Ceche znamienna znanych dotychczas sposobów i urzadzen, z któremi ma sie zwykle do czynienia przy tym sposobie, stanowi wprowadzanie goracej cieczy do oslony wyparnika w, taki sposób, iz wywo¬ luje isie krazenie cieczy, przy którem ciecz styka sie bezposrednio ze sciankami oslo¬ ny wypairnika.

Doswiadczenie wykazalo, ze w tych warunkach przy sciankach oslony wypar¬ nika wytwarzaja sie wiry, którym towarzy¬ szy zmniejszenie sie cisnienia w danem miejscu oraz miejscowe wrzenie cieczy.

Doswiadczenie wykazalo ponadto, ze w razie odparowywania roztworu lub cieczy, zawierajacej niewielka ilosc rozpuszczo¬ nej w niej jakiejkolwiek soli, stanowiacej zanieczyszczenie tej cieczy, procesowi two¬ rzenia sie wirów i miejscowemu wrzeniu w strefie tych wirów towarzyszy wydzielanie sie soli z roztworu, przyezem tworzenie sie krysztalków wzmaga ruch wirowy cieczy oraz przyspiesza dalsze wydzielanie sie krysztalków.

Ponadto, stykanie sie goracej cieczy z zimnie jsza od niej scianka oslony wy- pamika powoduje nawet wtedy, gdy ta scianka jest odizolowana od zewnatrz pod wzgledem cieplnym, miejscowe obnizenie sie temperatury w strefach, stykajacych sie bezposrednio ze sciankami oslony wypar¬ nika, co równiez sprzyja osadzaniu sie krysztalów na powierzchni tych scianek.

Inna ceche znamienna znanych urza¬ dzen tego rodzaju, z któremi ma sie zwy¬ kle do czynienia, stanowi ta okolicznosc, ze wprowadzaniu goracej cieczy do komo¬ ry roboczej wyparnika towarzyszy, w ra¬ zie istnienia wiekszej róznicy pomiedzy ci¬ snieniem cieczy a cisnieniem w komorze, ozywione wrzenie cieczy w przewodzie, doprowadzajacym ciecz do tej komory.

Wrzeniu temu zkolei towarzyszy, oczywi¬ scie, tworzenie sie krystalicznego osadu wewnatrz wzmiankowanego przewodu, co bardzo szybko powoduje obnizenie sie skutecznosci dzialania aparatu.

Glównym celem wynalazku niniejszego jest wlasnie zapobiezenie osadzaniu sie krysztalów na sciankach oslony wyparni¬ ka oraz zapobiezenie wrzeniu i powodowa¬ nemu przez nie osadzaniu sie krysztalów w przewodzie doprowadzajacym.

Sposób, stanowiacy przedmiot wyna¬ lazku niniejszego, polega, ogólnie biorac, na wprowadzaniu przerabianej cieczy go¬ racej do pewnej masy cieczy nieco zimniej- szej, umieszczonej w zamknietym zbiorni¬ ku lub komorze. Jezeli sposób tenj jest sto¬ sowany do ochladzania lub odparowywania cieczy, to w tej komorze zaleca sie utrzy¬ mywac cisnienie mniejsze od cisnienia cie¬ czy doprowadzanej.

Masa tej cieczy zimniejszej w komorze roboczej wykonywa nieprzerwany ruch obrotowy, w który jest oma wprawiana za- pomoca narzadów, calkowicie uniezalez¬ nionych od wprowadzanego do komory roztworu goracego. Do podtrzymywania tego ruchu obrotowego moga byc zastoso¬ wane odpowiednie narzady, np, mieszadlo mechaniczne, lub ruch ten mozna wywoly¬ wac przez usuwanie z komory czesci cie¬ czy i ponowne wprowadzaniel jej do komo¬ ry w kierunku stycznej do obwodu komo¬ ry na poziomie, znajdujacym sie ponizaj poziomu cieczy w komorze wyparnika, Osadzaniu sie krysztalów na sciankach oslony wyparnika ponizej poziomu cieczy zapobiega sie przez wprowadzanie cieczy goracej do cieczy zimniejszej w pewnej znaczniejszej odleglosci od poziomu tej cieczy ponizej tego poziomu oraz w pew¬ nej znaczniejszej odleglosci od scianek wyparnika, najlepiej w kierunku strefy — 2 —zmniejszonego cisnienia, zawierajacej oraz otaczajacej bezposrednio obracajaca sie mase cieczy.

W celu zapobiezenia wrzeniu cieczy w przewodzie doprowadzajacym w przypad¬ ku, gdy cisnienie w komorze wyparnika jest niskie w stosunku do punktu wrzenia tej cieczy, przewód, doprowadzajacy go¬ raca ciecz, jest zaopatrzony w dysze, któ¬ ra jest uksztaltowana tak, iz cieczy, prze¬ plywajacej przez dysze, moze nadawac szybkosc, wystarczajaca do podtrzymywa¬ nia zarówno wewnatrz samej dyszy, jak i w przewodzie, przylaczonym do niej, ci¬ snienia, zapobiegajacego wrzeniu cieczy w tym przewodzie. Jest rzecza jasna, ze sta¬ tyczne cisnienie warstwy cieczy, znajdu¬ jacej sie w wyparniku nad otworem wylo¬ towym dyszy, bedzie wspóldzialalo z ci¬ snieniem, wytwarzajacem sie wskutek przeplywu cieczy przez te dysze, w celu utrzymywania wewnatrz dyszy cisnienia, zapobiegajacego wrzeniu cieczy w przewo¬ dzie doprowadzajacym.

W zwiazku z tern jest rzecza istotnej wagi, aby szybkosc cieczy w wierzcholku dyszy oraz zwiazane z nia cisnienie byly wystarczajace do nalezytego wspóldziala¬ nia ze wzmiankowaniem powyzej cisnie¬ niem statycznem cieczy w utrzymywaniu wewnatrz dyszy cisnienia ogólnego, wy¬ starczajacego do zapobiezenia wrzeniu roztworu w temperaturze, która on posia¬ da podczas wplywania do wyparnika, nie¬ zaleznie od cisnienia, bezwzglednego, pa¬ nujacego wewnatrz wyparnika.

Powyzej zostalo juz zaznaczone, ze jednym z najdogodniejszych sposobów u- trzymywania ruchu obrotowego masy cie¬ czy w wyparniku jest usuwanie czesciowe cieczy z wyparnika oraz ponowne wprowa¬ dzanie jej do wyparnika w kierunku stycznej do jego obwodu w miejscu, znaj- dujacem sie ponizej poziomu cieczy w wy¬ parniku. i !; j "MiJ-r; W zwiazku z tern, do rozdzielania cie¬ czy, wprowadzanej nastepnie zpowrotem do wyparnika, zastosowano urzadzenie po¬ mocnicze. Zadaniem tego urzadzenia jest umozliwienie usuniecia z roztworu* odpro¬ wadzonego z wyparnika, wiekszych kry¬ sztalów, które zdazyly juz utworzyc sie podczas ochladzania i stezania roztworu, przed ponownem wprowadzeniem tego roztworu zpowrotem do wyparnika. Cel powyzszy osiaga sie przez zastosowanie przewodu odprowadzajacego, który najle¬ piej jest umiescic w srodkowej czesci dna wyparnika i który posiada zagiete do gó¬ ry odgalezienie, polaczone za posrednic¬ twem pompy i odpowiedniej rury z otwo¬ rem, przez który ciecz wprowadza sie do wyparnika zpowrotem.

Jednym z celów wynalazku niniejsze¬ go jest równiez utrudnienie tworzenia sie wirów miejscowych w obracajacej sie ma¬ sie cieczy; w zwiazku z czem dysze, przez która goracy roztwór jest wprowadzany do wyparnika, zaopatruje sie w powloke, której ksztalt zewnetrzny jest dostosowa¬ ny do kierunku strumieni cieczy, plynacej dookola tej powloki.

Ponadto, w celu zapobiezenia osadza¬ niu sie krysztalów wewnatrz tej dyszy za¬ leca sie wykonac te powloke z materjalu izolacyjnego.

Wynalazek niniejszy ma równiez na ce¬ lu zapobieganie gromadzeniu sie kryszta¬ lów na sciankach wyparnika powyzej po¬ ziomu cieczy w wyparniku. Cel ten osiaga sie przez wprowadzanie do wyparnika strumienia cieczy splókujacej, utworzonej ze skroplin rozpuszczalnika lub dowolnej innej cieczy odpowiedniej, kierowanego na wewnetrzna powierzchnie scianek wy¬ parnika w dosc znacznej odleglosci od po¬ ziomu cieczy i powyzej tego poziomu.

Szczególy budowy aparatu wedlug wy¬ nalazku sa przedstawione na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia widok zboku oraz czesciowy przekrój pionowy przy¬ kladu wykonania urzadzenia; fig. 2 — — 3 —przekrój poziomy wzdluz Knji 2 — 2 na fig, 1; fig, 3 — przekrój czesciowy, uwi¬ doczniajacy najwlasciwsza] postac wykona¬ nia dyszy; fig. 4 —¦ czesciowy przekrój wzdluz Kujij 4—4 na fig. 3, a fig. 5 — prze¬ krój, przedstawiajacy inny przyklad wyko¬ nania urzadzenia pomocniczego, utrzymuja¬ cego ciecz w wyparnjkuw ruchuobrotowym, Liczba 11 oznacza scianke wyparnika, wyposazonego w pokrywe 12, zaopatrzona w przewód odprowadzajacy 13, przyla¬ czony do skraplacza 14. Przewód odpro¬ wadzajacy i skraplacz sa skojarzone z do- wolnem odpowiedniem urzadzeniem, slu- zacem do usuwania par cieczy z wyparni¬ ka lub do wytwarzania w wyparniku próz¬ ni (urzadzenie to nie jest uwidocznione na rysunku). Do skraplacza 14 przylaczona jest rura odprowadzajaca 15, posiadajaca np. postac rurki barometrycznej i prowa¬ dzaca do zbiornika 16 na skropliny.

Czesc dolna 17 scianki 11 wyparnika najlepiej jest wykonac w postaci leju, po¬ laczonego zapomoca odpowiedniego zawo¬ ru 18 z przewodem wypustowym 19. Prze¬ wód wypustowy 19 zapomoca krócca 20 jest polaczony z rura 21, prowadzaca do pompy lub rurki barometrycznej, nieuwi- docznionej na rysunku.

Przewód wypustowy 19 jest równiez zaopatrzony w odgalezienie 22, skierowa¬ ne ku górze i polaczone zapomoca krzywki 23 z rura 24, przylaczona do otworu ssaw- czego pompy 25. Otwór tloczny pompy 25 jest polaczony rura 26 z nasada wlotowa 27 scianki 11 wyparnika. Przez te nasade ochlodzony roztwór wplywa do wyparnika w kierunku stycznej do jego obwodu w miejscu, znajdujacem sie w stosunkowo znacznej odleglosci od poziomu L cieczy w wyparniku i ponizej tego poziomu.

Z opisanej powyzej konstrukcji urza¬ dzenia wynika, ze podczas dzialania pom¬ py 25 masa cieczy, znajdujaca sie w wy¬ parniku, zostaje wprawiona w ruch obro¬ towy i ruch ten jest podtrzymywany w sposób ciagly, przyczem obracanie sie cie¬ czy powoduje wytwarzanie sie w wyparnl- ku strefy srodkowej1 o cisnieniu zmnieJazo¬ nem oraz strefy obwodowej o cisnieniu zwiekszeniem.

We wstepie opisu bylo* juz zaznaczone, ze jedna z najwazniejszych cech wynalaz¬ ku niniejszego stanowi sposób wprowa¬ dzania goracego roztworu do masy cieczy zimniejszej, znajdujacej sie w wyparniku.

Urzadzenie pomocnicze, stosowane w tym przypadku do wprowadzania roztwo¬ ru goracego, jest uwidocznione na rysun¬ ku w postaci dyszy 30, polaczonej z kon¬ cówka rurowa 31, której koniec górny znajduje sie znacznie ponizej poziomu L cieczy (poziomu cieczy nieobracajacej sie) w wyparniku. Dysza jest przylaczona do rury, 32, polaczonej z pompa 33 lub do- wolnem innem, odpowiedniem zródlem roztworu goracego, mogacem doprowadzac goracy roztwór do dyszy pod iadanem cisnieniem.

Wobec tego, ze roztwór, znajdujacy sie w wyparniku i otaczajacy dysze, jest znacznie zimniejszy od roztworu, doply¬ wajacego do! wyparnika przez dysze, dysze te zaleca sie wykonac w postaci, uwidocz¬ nionej na fig. 3, na której koncówka ruro¬ wa 31 jest zaopatrzona w powloke izola¬ cyjna 34.

Przekrojowi poprzecznemu tej powlo¬ ki najlepiej jest nadac ksztalt, odpowia¬ dajacy kierunkowi strumieni cieczy, oply¬ wajacych te koncówke (ksztalt ten uwi¬ doczniono na fig. 4), aby zapobiec two¬ rzeniu sie wirów w masie cieczy, oplywa¬ jacej powloke izolacyjna koncówki 31.

Jak widac z rysunku, dysza 30 jest umieszczona mimosrodowo wzgledem srodka) wyparnika, wskutek czego strumien goracego roztworu, wytrysku jacy z niej, nie jest skierowany wprost do góry przez strefe najmniejszego cisnienia, zesrodko- wana przy osil obracania sie cieczy, W razie umieszczenia dyszy w sposób, — 4 —opisany oetatauo, moze ona wylrydriwac strumien goracego roztworu az do gor&ej, pustej czesci komory roboczej wyparnika, qo w pewnych okoliczno$ciach nie jest po¬ zadane.

Aby ciecz, doplywajaca do wyparnika, niemogla zetknac sie ze sciankami wypar- nika bezposrednio, dysze najlepiej jest ustawic pionowo, Jak uwidoczniono na ry¬ sunku, jako zas dodatkowy srodek ostroz¬ nosci mozna zastosowac koncówke rurowa z koncem, odgietym nieco w kierunku o- brolu cieczy lub tez w kierunku odwrot¬ nym- W ten sposób goracy roztwór jest kierowany wewnatrz masy obracajacej sie cieczy w kierunku, odchylonym od kierun¬ ku! pionowego o niewielki kat, do strefy, w której roztwór zacznie wrzec przed ze¬ tknieciem sie z powierzchnia scianek wy¬ parnika. Krysztaly, które podczas odpa¬ rowywania moga wydzielic sie z roztworu sa pociagane wdól do przewodu wypusto- wego, przyczem w chwili, w której goracy roztwór, wprowadzony swiezo do wypar¬ nika, dosiega scianek wyparnika, roztwór ten jest juz ochlodzony do temperatury, w której nie moze wrzec w warunkach, panu¬ jacych w strefie, przylegajacej do scianek wyparnika/ W kazdym aparacie tego rodzaju za¬ wsze w tak zwanej „strefie wrzenia" na sciankach wyparnika tworzy sie pewna ilosc osadu krystalicznego. W celu zapo¬ biezenia gromadzeniu sie tych krysztalów, wedlug wynalazku stosuje sie pierscienio¬ wa rure wytryskowa 35, umieszczona po¬ nad strefa wrzenia i posiadajaca wieksza liczbe otworków, przez które ciecz splóku- jaca jest wytryskiwana na scianki wyparni¬ ka od wewnatrz. Te ciecz splókujaca mo¬ ze stanowic czysta woda lub tez (w przy¬ kladzie, przedstawionym na rysunku), skropliny, pobierane ze zbiornika 16 i do¬ prowadzane do rury 35 zapomoca pom¬ py 36.

Na fig. 5 przedstawiono wyparnik po¬ dobny do przestawionego na fig. 2; lecz rózniacy sie tem, ze do podtrzymywania ruchu obrotowego cieczy w wyparniku jest on zaopatrzony w nieco odmienna po¬ stac urzadzenia pomocniczego, zawieraja¬ ca sruby 40, których walki sa przesuniete przez dlawnice 41, umieszczone w scian¬ kach wyparnika i zaopatrzone na swych zewnetrznych koncach w narzady napedo¬ we, np. kola pasowe, które moga byc nape¬ dzane zapomoca dowolnego zródla nape¬ du, np. silnika elektrycznego, nieuwidbcz- nicnego na rysunku.

Z powyzszego opisu wynika jasno, ze proces, stanowiacy przedmiot wynalazku, zapewnia szybkie ochladzanie i odparo¬ wywanie goracej cieczy w taki sposób, iz wszystkie sole, wydzielajace sie z cieczy, zostaja usuniete calkowicie z komory ro¬ boczej wyparnika, w której odbywa sie ochladzanie i odparowywanie cieezy, wskutek odpowiedniego obrania miejsca, w którem odbywa sie wydzielanie wzmian¬ kowanych krysztalów.

Aparat do przeprowadzania powyzsze¬ go sposobu, przedstawiony na rysunku, posiada niezlozony ksztalt i nieztezona bu¬ dowe, dzialanie zas tego aparatu daje sie kontrolowac z latwoscia.

Jest rzecza jasna, ze aparat opisanejgo powyzej rodzaju moze byc wykonany w postaci zespolu, skladajacego sie z kilku wyparników, w którym roztwór, wyplywa¬ jacy z jednego wyparnika^ jest doprowa¬ dzany do dyszy wtryskujacej nastepnego wyparnika, przyczem w wyparnikachj na¬ stepujacych kolejno po sobie, stosuje sie próznie w coraz to wiekszym stopniu.

Z a s t r z ei e n i a pa t e n tow e. 1. Sposób odparowywania i ochladza¬ nia cieczy (roztworów), znamienny tern, ze pewna ilosc ochlodaaaego roztworu w wyparniku utrzymuje sie w ruchu obroto¬ wym pod zmniej*zonem cisaieniena i do — 5 —tef obracajacej sie masy ochlodzonego roz¬ tworu w miejscu, znajduj acem sie we¬ wnatrz tej masy w pewnej odleglosci od scianek wyparnika, wprowdza sie roztwór goracy* 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tern, ze miejsce, do którego wprowadza sie goracy roztwór, znajduje sie zboku osi obrotu wirujacej masy roztworu. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 lub 2, znamienny tern, ze goracy roztwór wpro¬ wadza sie do masy ochlodzonego! roztworu w postaci strumienia, skierowanego pod katem do plaszczyzny obrotu masy roz¬ tworu. 4. Sposób wedlug dowolnego z zastrz. 1 — 3, znamienny tern, ze goracy roztwór wprowadza sie do masy ochlodzonego roztworu w postaci strumienia, skierowa¬ nego w przyblizeniu prostopadle do pla¬ szczyzny obrotu masy roztworu. 5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamien¬ ny tern, ze goracy roztwór wprowadza sie do masy ochlodzonego roztworu w miej¬ scu, znajduj acem sie znacznie ponizej po¬ ziomu roztworu w wyparniku. 6. Sposób wedlug dowolnego z zastrz. 1 — 5, znamienny tern, ze goracy roztwór jest poddawany dzialaniu zwiekszonego cisnienia w miejscu, w którem wplywa do obracajacej sie masy ochlodzonegoi roz¬ tworu, przez co zapobiegaj sie wrzeniu roz¬ tworu, doprowadzanego pod zmniejszonem cisnieniem, oraz wydzielaniu sie kryszta¬ lów. 7. Sposób wedlug dowolnego z zastrz. 1 — 6, znamienny tern, ze masa ochlodzo¬ nego roztworu jest wprawiana w ruch ob¬ rotowy niezaleznie od ruchu, wytwarza¬ nego przez wprowadzany roztwór go¬ racy. 8. Sposób wedlug zastrz, 7, znamien¬ ny tern, ze masa ochlodzonego roztworu jest utrzymywana w ruchu obrotowym przez usuwanie czesci cieczy z dolnej cze¬ sci wyparnika i ponetne doprowadzanie tej cieczy w kierunku stycznej do obwodu tej masy. 9. Sposób wedlug dowolnego z zastrz. 1 — 8, znamienny tern, ze krysztaly, wy¬ dzielajace sie z roztworu wraz z czescia roztworu, sa usuwane z dolnej czesci wy¬ parnika, przyczem krysztaly zostaja usu¬ niete, a roztwór zostaje doprowadzony zpowTotem do pozostalej masy roztworu w kierunku stycznej do tej masy. 10. Sposób wedlug dowolnego z zastrz. 1 — 9, znamienny tern, ze na scian¬ ki wyparnika od wewnatrz wyparnika w strefie wrzenia roztworu kierowany jest strumien cieczy, zapobiegajacy osadzaniu sie krysztalów na tych sciankach. 11. Urzadzenie do ochladzania cieczy sposobem wedlug zastrz. 1 — 10, znamien¬ ne tern, ze zawiera wyparnik, wyposazony w przewód, odprowadzajacy pary cieczy, urzadzenie pomocnicze do usuwania par -z tego wyparnika, urzadzenie pomocnicze do utrzymywania masy ochlodzonego roztwo¬ ru, znajdujace sie w tym wyparniku, w ru¬ chu obrotowym, oraz dysze, sluzaca do wprowadzenia goracegoi roztworu do ma¬ sy roztworu chlodzonego w miejscu, znaj¬ dujacem sie ponizej poziomu cieczy w wy¬ parniku pomiedzy osia obrotu masy cieczy i sciankami wyparnika. 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, znamienne tern, ze dysza jest ustawiona pod katem doi plaszczyzny obrotu wzmian¬ kowanej masy roztworu chlodzonegoi 13. Urzadzenie wedlug zastrz. 11 lub 12, znamienne tern, ze dysza jest umie¬ szczona znacznie ponizej poziomu ze¬ wnetrznej powierzchni obracajacej sie masy ochlodzonego roztworu. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 11, 12 lub 13, znamienne tern, ze koncówka dyszy jest zaopatrzona w powloke, izolujaca ja pod wzgledem cieplnym, w celu utrzyma¬ nia niezmiennej temperatury goracegoi roz¬ tworu, przeplywajacego przez dysze. 15. Urzadzenie wedlug dowolnego z — 6 —zastrz. 11 — 14, znamienne tern, ze prze¬ krój poprzeczny koncówki dyszy lub jej powloki jest dopasowany ksztaltem do kierunku strumieni roztworu, oplywaja¬ cych te koncówke, w celu zmniejszenia daznosci wytwarzania sie wirów w ochlo¬ dzonym roztworze, oplywajacym dysze. 16. Urzadzenie wedlug dowolnego z zastrz. 11 — 15, znamienne tean, ze do oslony wyparnika przylaczony jest prze¬ wód, przez który z dolnej czesci wyparni¬ ka usuwa sie czesc chlodzonego roztworu, oraz przewód, doprowadzajacy ponownie te usunieta poprzednio czesc roztworu pod cisnieniem do oslony wyparnika w kierun¬ ku stycznej do jego obwodu, w celu spo¬ wodowania obrotowego ruchu masy roz¬ tworu ochlodzonego. 17. Urzadzenie wedlug dowolnego z zastrz. 11 — 16, znamienne tern, ze oslona wyparnika posiada stozkowa czesc dolna oraz urzadzenie pomocnicze do usuwania krysztalów, wydzielajacych sie ze wzmian¬ kowanego roztworu ochlodzonego i opada¬ jacych do tej stozkowej czesci oslony. 18. Urzadzenie wedlug zastrz. 16 i 17, znamienne tern, ze do stozkowej dolnej czesci oslony wyparnika przylaczony jest przewód, przez który usuwana jest czesc wzmiankowanego ochlodzonego roztworu wraz z krysztalami, które wydzielily sie z niego, urzadzenie zas jest wyposazone w urzadzenie pomocnicze do oddzielania kry¬ sztalów z tego roztworu i doprowadzania go do wyparnika. 19. Urzadzenie wedlug dowolnego z zastrz. 11 — 18, znamienne tern, ze jest wyposazone w narzady, np. sruby, zanu¬ rzone w masie ochlodzonego roztworu i osadzone na walkach, napedzanych w do¬ wolny odpowiedni sposób znany. 20. Urzadzenie wedlug dowolnego z zastrz. 11 — 19, znamienne tern, ze posia¬ da przewód, umieszczony wewnatrz wy¬ parnika i biegnacy przy jego sciankach dookola obwodu wyparnika powyzej obra¬ cajacej sie masy ochladzanego roztworu, przyczem przez otworek lub otworki tego przewodu wytryskiwana jest ciecz splóku- jaca, kierowana na wewnetrzna powierzch¬ nie scianek wyparnika, w celu zapobieze¬ nia osadzaniu sie na nich krysztalów* Pacific Coast Borax Company.

Zastepca: I. Myszczynski, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 22906.

FIGA Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa.