PL227173B1 - na osnowie srebra - Google Patents

na osnowie srebra

Info

Publication number
PL227173B1
PL227173B1 PL412061A PL41206115A PL227173B1 PL 227173 B1 PL227173 B1 PL 227173B1 PL 412061 A PL412061 A PL 412061A PL 41206115 A PL41206115 A PL 41206115A PL 227173 B1 PL227173 B1 PL 227173B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
silver
based composite
composite
weight
graphene
Prior art date
Application number
PL412061A
Other languages
English (en)
Other versions
PL412061A1 (pl
Inventor
Jan Dutkiewicz
Original Assignee
Akademii Nauk Im Aleksandra Krupkowskiego
Inst Metalurgii I Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk Im Aleksandra Krupkowsk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akademii Nauk Im Aleksandra Krupkowskiego, Inst Metalurgii I Inżynierii Materiałowej Polskiej Akademii Nauk Im Aleksandra Krupkowsk filed Critical Akademii Nauk Im Aleksandra Krupkowskiego
Priority to PL412061A priority Critical patent/PL227173B1/pl
Publication of PL412061A1 publication Critical patent/PL412061A1/pl
Publication of PL227173B1 publication Critical patent/PL227173B1/pl

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest kompozyt na osnowie srebra i sposób wytwarzania kompozytu na osnowie srebra z przeznaczeniem zwłaszcza na styki elektryczne.
Dotychczas na styki elektryczne stosuje się stopy na osnowie srebra z dodatkami pierwiastków takich, jak Ni, Cd, Pd, Pt posiadające przewodnictwo stanowiące 30-70% przewodnictwa czystego srebra i twardość 50-150% wyższą od twardości czystego srebra. (ASM Handbook wyd. ASM International ASM Metals Park Ohio).
Ponadto proponuje się na styki kompozyty na osnowie srebra. Kompozyty z dodatkiem wolframu lub węglika wolframu WC mają podobne własności, jednak występuje znaczny spadek przewodnictwa (do 50%) przy wzroście twardości do około 150%. (Fehim Findik, Huseyin Uzun Materials and Design 24 (2003) 489-492). Stąd w ostatnich latach prowadzi się próby wytwarzania (?) kompozytów z dodatkiem nanografitu, (Bharati R. Rehani, P.B. Joshi V.K. Kaushik, nanostructured electrical, Indian Journal of Engineering & Materials Science vol. 16 (2009) p281-287) lub nanorurek węglowych (Hemant Pal and Vimal Sharma, International Journal of Minerals, Metallurgy and Materials Vol. 21, (2014), Page 1132). W pracach tych bada się przewodnictwo elektryczne i właściwości mechaniczne kompozytów na osnowie srebra z dodatkiem różnych odmian alotropowych węgla wytwarzanych metodami metalurgii proszków i przeznaczonych na styki elektryczne.
Dotychczas nie znane są prace na temat kompozytów na osnowie srebra z dodatkiem grafenu lub grafenu płatkowego z przeznaczeniem na styki elektryczne.
Celem wynalazku jest wytworzenie kompozytu na osnowie czystego srebra który posiada znakomite przewodnictwo elektryczne, znacznie lepsze od przewodnictwa srebra lub miedzi i wysoką wytrzymałość (przewyższającą kilkukrotnie wytrzymałość stali stopowych).
Zgodnie z wynalazkiem kompozyt na osnowie srebra zawiera od 0,5 do 5% wagowych grafenu płatkowego o wyjściowej grubości płytek 2-4 nm oraz 95 do 99,5% wagowych proszku srebra.
Sposób wytwarzania kompozytu na osnowie srebra według wynalazku polega na tym, że proszek osnowy (srebra) miele się z dodatkiem grafenu płatkowego o grubości płytek 2 do 4 nm, w ilości 0,5-5% wagowych, w kulowym młynku ceramicznym przez okres od 0,2 godziny do 5 godzin, po czym konsoliduje się na gorąco w temperaturze 400-800°C przez prasowanie przy ciśnieniu w przedziale
20-600 MPa w pojemnikach metalowych w próżni co najmniej 10-2 bar.
Zalety kompozytu na osnowie srebra według wynalazku - to bardzo dobre przewodnictwo elektryczne zbliżone do przewodnictwa dla czystego srebra, lecz znacznie wyższa wytrzymałość mechaniczna.
Przedmiot wynalazku jest pokazany na rysunku, a którym fig. 1 przedstawia mikrostrukturę uzyskaną za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego SEM kompozytu na osnowie srebra z dodatkiem 1% wag. grafenu płatkowego FLRGO, fig. 2 przedstawia fotografię dysku z kompozytu na osnowie srebra z dodatkiem 1% grafenu płatkowego FLRGO po 50 000 operacjach łączeń przy prądzie 10 A i napięciu 500 V, fig. 3 przedstawia mikrostrukturę uzyskaną przy pomocy mikroskopu skaningowego przedstawiająca kompozyt na osnowie srebra z dodatkiem 2% wagowego grafenu płatkowego FLRGO, a fig. 4 przedstawia fotografię dysku z kompozytu na osnowie srebra o zawartości 2% grafenu płatkowego FLRGO po 50 000 operacjach łączeń przy prądzie 10 A i napięciu 500 V.
Sposób wytwarzania zobrazowano w przykładach wykonania:
P r z y k ł a d 1
Fig. 1 przedstawia mikrostrukturę SEM kompozytu uzyskanego przez jednoosiowe prasowanie na gorąco w temperaturze 490°C przy ciśnieniu 550 MPa w pojemnikach miedzianych w próżni
10-2 b., proszku srebra mielonego wcześniej przez okres 2 godzin w młynku kulowym przy użyciu pojemnika i kul tlenku cyrkonu z dodatkiem 1% wagowego grafenu płatkowego wytworzonego w firmie Nanomaterials z Warszawy, oznaczonego przez wytwórcę jako FLRGO. Wyjściowa grubość płytek grafenu była 2-4 nm, a ich szerokość do kilku mikrometrów. Kompozyt posiadał po prasowaniu wymiary dysku o średnicy 20 mm i grubości 5 mm. Widocznym jest, że kompozyt ma bardzo niską porowatość poniżej 0,3% oraz dość równomierny rozkład grafenu płatkowego, jakkolwiek widać niewielką tendencję do aglomeracji grafenu na granicach cząstek proszku srebra. Zmierzona oporność elektryczna kompozytu wynosiła 1,88 Ω m 10-8, co w porównaniu do oporności czystego srebra (1,59 Ω m 10-8) stanowi wzrost oporności i spadek przewodnictwa o 18%, a twardość 37 HV w porównaniu do 29 HV dla czystego srebra w stanie odlewanym i wyżarzonym.
PL 227 173 B1
Fig. 3 przedstawia fotografię próbki kompozytu z dodatkiem 1% grafenu FLRGO po 50 000 operacjach łączeń przy napięciu 500 V i prądzie 10 A. Widoczne są po jednej stronie efekty zużycia i utleniania jednakże całkowity ubytek masy wyniósł tylko 4,3 mg, co na tle innych kompozytów ((jak np. srebro z dodatkami faz ceramicznych SnO2 czy WC)) stanowi bardzo dobry wynik i w połączeniu z bardzo dobrym przewodnictwem elektrycznym i wynikami badań twardości potwierdza wysoką przydatność kompozytu jako materiału na wysokoprądowe styki elektryczne.
P r z y k ł a d 2
Fig. 2 przedstawia mikrostrukturę SEM kompozytu uzyskanego poprzez jednoosiowe prasowanie na gorąco (w temperaturze 490°C) przy ciśnieniu 550 MPa w pojemnikach miedzianych w próżni
10-2 b., proszku srebra mielonego wcześniej przez okres 2 godzin w młynku kulowym przy użyciu pojemnika i kul tlenku cyrkonu) z dodatkiem 2% wagowych grafenu płatkowego wytworzonego w firmie Nanomaterials z Warszawy, oznaczonego przez wytwórcę jako FLRGO. Kompozyt posiadał po prasowaniu wymiary dysku o średnicy 20 mm i grubości 5 mm. Widocznym jest, że czy rozkład grafenu płatkowego, jakkolwiek w porównaniu do kompozytu przedstawionego na fig. 1 pasma grafenu są częściej rozmieszczone, tak z uwagi na ich większą ilość jak i większe utwardzenie próbki podczas mielenia. Zmierzona oporność elektryczna kompozytu wynosiła 1,88 Ω m 10-8, co w porównaniu do oporności czystego srebra (1,59 Ω m 10-8) stanowi wzrost oporności i spadek przewodnictwa o 18%, a twardość 41 HV w porównaniu do 29 HV dla czystego srebra w stanie odlewanym i wyżarzonym. Przyrost twardości stanowi około 40%, co niewątpliwie przyczynia się do wzrostu trwałości styków.
Fig. 4 przedstawia fotografię próbki kompozytu z dodatkiem 2% grafenu FLRGO po 50 000 operacjach łączeń przy napięciu 500 V i prądzie 10 A. Widoczne są po jednej stronie efekty zużycia i utleniania jednakże całkowity ubytek masy zestyku nieruchomego wyniósł tylko 4,2 mg, co na tle innych kompozytów (jak np. srebro z dodatkami faz ceramicznych SnO2 czy WC) stanowi bardzo dobry wynik i w połączeniu z bardzo dobrym przewodnictwem elektrycznym i wynikami badań twardości potwierdza wysoką przydatność kompozytu jako materiału na wysokoprądowe styki elektryczne.

Claims (2)

1. Kompozyt na osnowie srebra, znamienny tym, że zawiera od 0,5 do 5% wagowych grafenu płatkowego o wyjściowej grubości płytek od 2 do 4 nm oraz 95 do 99,5% wagowych proszku srebra.
2. Sposób wytwarzania kompozytu na osnowie srebra, znamienny tym, że proszek osnowy (srebra) w ilości 95 do 99,5% wagowych miele się z dodatkiem grafenu płatkowego o grubości płytek od 2 do 4 nm, w ilości 0,5-5% wagowych, w kulowym młynku ceramicznym przez okres od 0,2 godziny do 5 godzin, po czym konsoliduje się na gorąco w temperaturze
400-800°C przez prasowanie przy ciśnieniu w przedziale 20-600 MPa w pojemnikach meta-2 lowych w próżni co najmniej 10- bar.
PL412061A 2015-04-20 2015-04-20 na osnowie srebra PL227173B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL412061A PL227173B1 (pl) 2015-04-20 2015-04-20 na osnowie srebra

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL412061A PL227173B1 (pl) 2015-04-20 2015-04-20 na osnowie srebra

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL412061A1 PL412061A1 (pl) 2016-10-24
PL227173B1 true PL227173B1 (pl) 2017-11-30

Family

ID=57821700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL412061A PL227173B1 (pl) 2015-04-20 2015-04-20 na osnowie srebra

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL227173B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL412061A1 (pl) 2016-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Efe et al. An investigation of the effect of SiC particle size on Cu–SiC composites
Rajkovic et al. Processing, characterization and properties of copper-based composites strengthened by low amount of alumina particles
Lin et al. Excellent anti-arc erosion performance and corresponding mechanisms of a nickel-belt-reinforced silver-based electrical contact material
Varo et al. Effect of the CNT content on microstructure, physical and mechanical properties of Cu-based electrical contact materials produced by flake powder metallurgy
Shahzad et al. Mechanical, tribological, and electrochemical behavior of hybrid aluminum matrix composite containing boron carbide (B4C) and graphene nanoplatelets
Safari et al. Wear behavior of copper matrix composites reinforced by γ-Cu5Zn8 nanoparticles
Ćosović et al. Comparison of properties of silver-metal oxide electrical contact materials
CN104117676B (zh) 稀土改性钨基结合剂金刚石磨头、其制造方法及稀土改性钨基结合剂
Mallikarjuna et al. Microstructure and microhardness of carbon nanotube-silicon carbide/copper hybrid nanocomposite developed by powder metallurgy
Tsakiris et al. W-Cu composite materials for electrical contacts used in vacuum contactors
CN104362015A (zh) 一种铜钨触头材料的制备方法
KR20150103569A (ko) 차단기용 은-카본계 전기접점재료 및 이의 제조방법
KR102109227B1 (ko) 저 바인더의 내마모성 경질 금속
PL227173B1 (pl) na osnowie srebra
CN101709422B (zh) 一种碳化钨铝-镍硬质合金及其制备方法
RU2522584C1 (ru) Способ изготовления материала для дугогасительных и разрывных электрических контактов и материал
Fida Hassan et al. Effect of powder processing on microstructure and mechanical properties of a high-entropy Al24. 2Si3. 2Cu24. 2Ti24. 2Ni24. 2 alloy
Hamid et al. Synthesis and evaluation of strengthened copper with 3 wt.% TiC and/or Al2O3 prepared by SPS technique
WO2009112192A2 (de) Verbundwerkstoff auf basis von übergangsmetalldiboriden, verfahren zu dessen herstellung und dessen verwendung
RU2368971C1 (ru) Материал для сильноточного скользящего электроконтакта
CN109477164B (zh) 导电性支持构件及其制造方法
CN104148640A (zh) 稀土改性钨基结合剂金刚石切割片及其制造方法
Nakayama et al. Carbon-Dispersed WC–FeAl Hard Material Fabricated by Mechanical Milling and Subsequent Pulsed Current Sintering
JP4603841B2 (ja) 耐酸化性を有するタングステン合金とその製造方法
JP4511300B2 (ja) 耐酸化性を有するタングステン合金とその製造方法