PL223249B1 - Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika - Google Patents

Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika

Info

Publication number
PL223249B1
PL223249B1 PL394906A PL39490611A PL223249B1 PL 223249 B1 PL223249 B1 PL 223249B1 PL 394906 A PL394906 A PL 394906A PL 39490611 A PL39490611 A PL 39490611A PL 223249 B1 PL223249 B1 PL 223249B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
silica
poss
parts
weight
octasilsesquioxane
Prior art date
Application number
PL394906A
Other languages
English (en)
Other versions
PL394906A1 (pl
Inventor
Teofil Jesionowski
Karolina Szwarc
Michał Dutkiewicz
Hieronim Maciejewski
Bogdan Marciniec
Original Assignee
Politechnika Poznańska
Univ Im Adama Mickiewicza W Poznaniu
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Poznańska, Univ Im Adama Mickiewicza W Poznaniu filed Critical Politechnika Poznańska
Priority to PL394906A priority Critical patent/PL223249B1/pl
Publication of PL394906A1 publication Critical patent/PL394906A1/pl
Publication of PL223249B1 publication Critical patent/PL223249B1/pl

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika, mających zastosowanie jako napełniacze polimerów m.in. poliolefin, polimetakrylanów, żywic epoksydowych.
Silseskwioksany znane były już w połowie XIX wieku. Jednakże w ostatnich latach związki typu POSS, czyli wielościenne oligomeryczne silseskwioksany znalazły się w centrum zainteresowania wielu ośrodków badawczych. Materiały te stosuje się m.in. jako napełniacze polimerów, w głównej mierze, ze względu na możliwość otrzymywania ich w skali nanometrycznej (wielkości cząstek rzędu
1-3 nm), co zostało przedstawione w publikacji S. lyer, A. Abu-AIi, A. Detwiler, D. A. Sehiraldi, Transparent polymer-polyhedral oligomeric silsesquioxane composites, ACS Symposium Series (Science and Technology of Silicones and Silicone-Modified Materials), Cleveland, 2007, 313-325.
POSS to nowa klasa nanohybryd, o polepszonych właściwościach termicznych, mechanicznych i elektrycznych, co zostało scharakteryzowane w następującej publikacji K. Madhavan, D. Gnanasekaran, B. S. R. Reddy, Synthesis and characterization of poly(dimethylsiloxaneurethane) nanocomposites: Effect of (in)completely condensed silsesquioxanes on thermal, morphological, and mechanical properties, Journal of Applied Polymer Science, 2009, 114, 3659-3667. Powstają w wyniku hydrolitycznej kondesacji trifunkcyjnych organosiloksanów (RSi(OR')3, gdzie R i R' zdefiniowane są jako różne grupy organiczne). Oligosilseskwioksany charakteryzują się wzorem ogólnym (RSiO3/2)n i posiadają strukturę pośrednią pomiędzy krzemionkami (SiO2), a silikonami (R2SiO)n co zostało opisane m.in. w publikacji X. Z. Zhang, Y. J. Song i Y. D. Huang, Properties of silsesquioxane coating modified carbon fibre/polyarylacetylene composites, Composites Science and Technology, 2007, 67, 3014-3022. Są zazwyczaj bezbarwnymi substancjami i wykazują tendencję do krystalizacji już w temperaturze pokojowej, co powoduje jeden rodzaj separacji faz. Większość produkowana jest w postaci białych proszków. Zdarza się jednak, że mogą mieć one również formę bezbarwnego oleju, bądź smaru, o czym napisano w publikacji L. Liu, M. Tian, W. Zhang, L. Zhang, E. M. James, Crystallization and morphology study of blending, Polymer, 2007, 48, 3201-3212.
Krzemionki strącane należą do cennych napełniaczy piasto- i elastomerów, a wprowadzenie ich do układu z tworzywem sztucznym przyczynia się do wyraźnej poprawy parametrów wytrzymałościowych krzemionka-polimer, co przedstawili A. Krysztafkiewicz, B. Rager, T. Jesionowski, The effect of surface modification on physicochemical properties of precipitated silica, Journal of Materials Science. 1997, 32, 1333-1339. Y. Kawakami w swojej publikacji Y. Kawakami, Structural control and functionalization of oligomeric silsesquioxanes, Reactive and Functional Polymers, 2007, 67, 1 1 37-1 1 47] udowadnia, że krzemionka posiada niską mieszalność ze związkami organicznymi, dopiero modyfikacja powierzchni krzemionki silanowymi związkami wiążącymi przyczynia się do znacznego polepszenia mieszalności. Oligosilseskwioksany cieszą się dużą atrakcyjnością. F. Rataboul i inni D. B. Cordes, P. D. Lickiss, F. Rataboul, Recent developments in the chemistry of cubic polyhedral oligosilsesquioxanes, Chemical Review, 2010, 110, 2081-2173 potwierdzili, że związki o budowie klatkowej posiadają stabilny termicznie nieorganiczny fragment Si-O-Si oraz reaktywny fragment R-Si łatwo ulegający funkcjonalizacji. Z tego też powodu znajdują zastosowanie jako samodzielne prekursory powierzchni, ale mogą również z powodzeniem posłużyć jako modyfikatory tradycyjnych napełniaczy, m.in. krzemionki. W wyniku połączenia tych dwóch materiałów, z których POSS charakteryzuje się wymiarem nanometrycznym (~100 nm) powstają nanokompozyty, o których napisano J. Raghunath, G. Georgiou, D. Armitage, S. N. Nazhat. K. M. Sales, P. E. Butle, A. M. Saifalian, Degradation studies on biodegradable nanocomposite based on polycaprolactone/polycarbonate (80:20%) polyhedral oligomeric silsesquioxane, Journal of Biomedical Materials Research Part A, 2008, 86 A, 987-995. Funkcjonalizacja tworzyw sztucznych przy pomocy układów hybrydowych SiO2-POSS powinna przyczynić się przede wszystkim do zlikwidowania problemów powstałych w trakcie tworzenia specyficznych materiałów polimerowych, a znaczne polepszenie parametrów mechanicznych i fizykochemicznych kompozytów: zredukowania tarcia, lepkości i obniżenia gęstości, jak również do wzrostu modułu Younga, wytrzymałości na rozciąganie, o których pisali Y. R. Liu, Y. D. Huang, L. Liu, Thermal stability of POSS/methylsilicone nanocomposites, Composites Science and Technology, 2007, 67, 2864-2876.
Istotą wynalazku jest sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika polegający na tym, że na nośnik którego stanowi krzemionka uwodniona, lub emulsyjna, lub krzemionka otrzymana metodą zol-żel lub krzemionka pirogenna, nanosi się w temperaturze otoczenia mieszaninę składającą się z 0,1-70 części wagowych, korzystnie 10 części wagowych
PL 223 249 B1 klatkowych silseskwioksanów, o wzorze przedstawionym na rysunku, gdzie R oznacza grupę reaktywną: alkoksy-, lub metakryloksy-, lub glicydoksy-, lub amino-, lub ich mieszaninę, bądź niereaktywną: fluoro-, lub perfluorową, lub ich mieszaninę i rozpuszczalników organicznych, korzystnie toluenu, lub tetrahydrofuranu, lub heksanu, lub alkoholu, a następnie odparowuje się rozpuszczalnik w obniżonej temperaturze i pod obniżonym ciśnieniem, dalej suszy konwekcyjnie w temperaturze 90-150°C, korzystnie 120°C.
Dzięki zastosowaniu rozwiązania według wynalazku uzyskano następujące efekty techniczno-użytkowe:
> kompozyt krzemionka - klatkowe silseskwioksany (SiO2-POSS) otrzymany proponowaną metodą przejawia charakter zdecydowanie hydrofobowy, co korzystne jest w napełnianiu polimerów, > możliwość dobrego zdyspergowania kompozytu SiO2-POSS w matrycy polimerowej, > dobra mieszalność układu napełniacz hybrydowy-polimer prowadzi do poprawy wytrzymałości mechanicznej materiału, > modyfikowanie powierzchni krzemionki oligosilseskwioksanami poprawia adhezję ponieważ stosowany POSS nie tylko reaguje z napełniaczem, ale również z polimerem, > możliwość zastosowania otrzymanego produktu m.in. jako nanonapełniacza wybranych polimerów, biokompatybilizatora, nośnika katalizatorów czy materiału ciekłokrystalicznego, > możliwość zastosowania kompozytu SiO2-POSS do produkcji tworzyw na bazie m.in. poliolefin, poliestrów, polimetakrylanów i żywic.
Wynalazek ilustrują poniższe przykłady:
P r z y k ł a d I
A. Otrzymywanie nośnika - krzemionki uwodnionej
Do reaktora umieszczonego w łaźni wodnej nagrzanej do temperatury 85°C, zawierającego 3
200 cm3 wodnego roztworu czynnika hydrofobizującego (nienasycony alkohol tłuszczowy C1-C4 3 o średnim stopniu oksyetylenowania 7), dozowano 60 cm3 5-proc. roztworu krzemianu sodu z 19,6 g 3 siarczanu(VI) sodu. W drugim stadium dozowano 740 cm3 krzemianu sodu ze stałą szybkością 3 3 3 cm3/min oraz 420 cm3 roztworu kwasu siarkowego(VI) z zadaną szybkością 4 cm3/min. Układ intensywnie mieszano. Krzemionkę odsączono pod zmniejszonym ciśnieniem i przemywano kilkakrotnie gorącą wodą, a następnie suszono konwekcyjnie w temperaturze 105°C w czasie 24 h.
B. Sposób modyfikacji
Krzemionkę poddano procesowi modyfikacji. Do reaktora wprowadzono 5 g krzemionki uwod3 nionej. Po czym dozowano mieszaninę składającą się z 10 cm3 toluenu i 5 cz. wag. oktakis(dimetylosiloksy,3-glicydoksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami glicydoksy-), przy intensywnym mieszaniu. Następnie usunięto rozpuszczalnik na wyparce próżniowej, po czym suszono konwekcyjnie w temperaturze 120°C przez 48 h.
Na Fig. 1 przedstawiono rozkład wielkości cząstek uwzględniający udział objętościowy krzemionki uwodnionej niemodyfikowanej, z kolei na Fig. 2 zademonstrowano rozkład wielkości cząstek uwzględniający udział objętościowy krzemionki modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-glicydoksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 3 zamieszczono rozkłady wielkości cząstek uwzględniające udział objętościowy krzemionki uwodnionej niemodyfikowanej oraz krzemionki modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-glicydoksypropylo)oktasilseskwioksanu (Mastersizer 2000), natomiast na Fig. 4 przedstawiono zdjęcie mikroskopowo-elektronowe TEM układu hybrydowego SiO2-POSS, uzyskanego według powyższego sposobu. W tabeli 1 przedstawiono powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanych próbek.
P r z y k ł a d II
Zastosowano 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)-oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami metakryloksy-) jako czynnik modyfikujący powierzchnię krzemionki uwodnionej, którą otrzymano jak w przykładzie I.
Na Fig. 5 przedstawiono rozkład wielkości cząstek krzemionki uwodnionej modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 6 zademonstrowano rozkład wielkości cząstek uwzględniający udział objętościowy uwodnionej krzemionki modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Mastersizer 2000). Fig. 7 prezentuje zdjęcie mikroskopowo-elektronowe
PL 223 249 B1
TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS. Z kolei w tabeli 1 przedstawiono powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d III
Użyto 5 części wagowych mono(etylotrietoksysililo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu (POSS z niereaktywnymi grupami etylotrietoksysililio-) jako modyfikatora powierzchni krzemionki uwodnionej, którą otrzymano jak w przykładzie I. Proces otrzymywania hybrydy przeprowadzono analogicznie jak w przykładzie I.
Na Fig. 8 przedstawiono rozkład wielkości cząstek krzemionki uwodnionej modyfikowanej 5 części wagowych mono(etylotrietoksysililo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu, (Zetasizer Nano ZS), natomiast na Fig. 9 zademonstrowano rozkład wielkości cząstek uwzględniający udział objętościowy krzemionki uwodnionej modyfikowanej 5 części wagowych mono(etylotrietoksysililo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu (Mastersizer 2000). Obraz mikroskopowo-elektronowy TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu zamieszczono na Fig. 10, a w tabeli 1 przedstawiono powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d IV
Otrzymywanie kompozytu SiO2-POSS prowadzono w reaktorze stosując metodę odparowania rozpuszczalnika. Funkcjonalizację powierzchni krzemionki prowadzono w wyparce próżniowej. Do 3 reaktora wprowadzono 5 g krzemionki uwodnionej oraz mieszaninę złożoną z 20 cm3 tetrahydrofuranu (THF) i 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-glicydoksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami glicydoksy-). Całość intensywnie mieszano. Proces prowadzono w atmosferze obniżonego ciśnienia i obniżonej temperatury. W ostatnim etapie próbkę pozostawiono do wysuszenia w warunkach atmosferycznych przez 48 h.
P r z y k ł a d V
Zastosowano 10 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy-1,1',2,2',3,3',4,4'-oktafluoropentyloksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z niereaktywnymi grupami oktafluoroalkilowymi-) jako promotora adhezji powierzchni amorficznej krzemionki uwodnionej, którą otrzymano jak w przykładzie I. Proces otrzymywania układów hybrydowych przeprowadzono analogicznie jak w przykładzie I.
Na Fig. 11 przedstawiono rozkład wielkości cząstek krzemionki uwodnionej modyfikowanej 10 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy-1,1',2,2',3,3',4,4',-oktafluoropentyloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 12 zademonstrowano obraz SEM, z kolei na Fig. 13 zaprezentowano obraz mikroskopowo-elektronowy TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS. Powierzchnię właściwą BET, objętość i średnicę porów otrzymanej próbki przedstawiono w tabeli 1.
P r z y k ł a d VI
Użyto 10 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami metakryloksy-) jako modyfikatora powierzchni krzemionki płomieniowej (pirogennej). Proces otrzymywania układów hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika przeprowadzono jak w przykładzie I.
Na Fig. 14 zamieszczono rozkład wielkości cząstek krzemionki płomieniowej modyfikowanej 10 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 15 przedstawiono obraz SEM, natomiast na Fig. 16 zaprezentowano obraz TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS. W tabeli 1 przedstawiono powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d VII
A. Otrzymywanie nośnika - krzemionki emulsyjnej
Kolejny układ hybrydowy typu SiO2-POSS uzyskano przy zastosowaniu krzemionki emulsyjnej. Otrzymywanie krzemionki polega na przygotowaniu emulsji E1 (alkalicznej) oraz emulsji E2 (kwasowej). Emulsję E1 przygotowano w następujący sposób: do reaktora dozowano 20-proc. roztwór krze3 mianu sodu w objętości 100 cm3 oraz mieszaninę złożoną z emulgatorów (eterów nonylofenylopolio3 ksyetylenoglikolowych) NP3 w ilości 6,0 g oraz NP6 w ilości 4,0 g oraz 340 cm3 cykloheksanu. Mieszaninę cykloheksanu i surfaktantów porcjami dozowano do krzemianu sodu, dalej całość poddano homogenizacji przez okres 15 min. Emulsję E2 przygotowywano w analogiczny sposób jak emulsję E1. Przygotowano w osobnym naczyniu mieszaninę emulgatorów, eterów nonylofenylopolioksyety3 lenoglikolowych, w ilości 2,0 g NP3 oraz 1,2 g NP6, którą zalano 140 cm3 cykloheksanu. Emulgator 3 porcjami dozowano do 132 cm3 5-proc. kwasu solnego. Całość homogenizowano przez 15 min.
PL 223 249 B1
Po połączeniu emulsji, kolejno układ destabilizowano w temperaturze 80°C, następnie oddzielano cykloheksan, a otrzymaną próbkę sączono pod zmniejszonym ciśnieniem. Powstały osad suszono.
B. Sposób modyfikacji
Otrzymaną krzemionkę poddano modyfikacji przy użyciu 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-glicydoksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami glicydoksy-). Proces otrzymywania kompozytów metodą odparowania rozpuszczalnika przeprowadzono dalej analogicznie jak w przykładzie I.
Na Fig. 17 przedstawiono rozkład wielkości cząstek niemodyfikowanej krzemionki emulsyjnej, z kolei na Fig. 18 zademonstrowano rozkład wielkości cząstek krzemionki emulsyjnej modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Fig. 19 prezentuje zdjęcie mikroskopowo-elektronowe SEM, a Fig. 20 przedstawia zdjęcie mikroskopowo-elektronowe TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS. W tabeli 2 przedstawiono indeks polidyspersyjności (PdI), powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d VIII
Zastosowano 5 cz. wag. oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami metakryloksy-) jako modyfikatora powierzchni krzemionki emulsyjnej, którą otrzymano jak w przykładzie VII. Proces otrzymywania kompozytu hybrydowego przeprowadzono jak w przykładzie I.
Na Fig. 21 przedstawiono rozkład wielkości cząstek sferycznej krzemionki emulsyjnej modyfikowanej 5 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy,3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Obraz mikroskopowo-elektronowy SEM zademonstrowano na Fig. 22, z kolei zdjęcie TEM otrzymanej w powyższy sposób hybrydy przedstawiono na Fig. 23. W tabeli 2 zestawiono wartość współczynnika polidyspersyjności, powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d IX
Układ hybrydowy typu SiO2-POSS wytworzono metodą odparowania rozpuszczalnika. Do reaktora wprowadzono 5 g krzemionki emulsyjnej, otrzymanej analogicznie jak w przykładzie VII. Po czym 3 dozowano mieszaninę składającą się z 10 cm3 metanolu i 3 części wagowych mono(3-(2-aminoetyloamino)propylo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami amino-), przy intensywnym mieszaniu. W kolejnym etapie usunięto rozpuszczalnik na wyparce próżniowej, po czym produkt wysuszono konwekcyjnie w temperaturze 120°C przez 48 h.
P r z y k ł a d X
Jako modyfikatora powierzchni krzemionki emulsyjnej, otrzymanej jak w przykładzie VII, użyto 5 części wagowych mono(etylotrietoksysililo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu (POSS z niereaktywnymi grupami etylotrietoksysililo-). Proces otrzymywania kompozytu SiO2-POSS przeprowadzono jak w przykładzie I.
Na Fig. 24 przedstawiono rozkład wielkości cząstek krzemionki emulsyjnej modyfikowanej 5 części wagowych mono(etylotrietoksysililo)hepta(izobutylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS), natomiast na Fig. 25 zademonstrowano zdjęcie mikroskopowo-elektronowe SEM. Obraz TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu zamieszczono na Fig. 26, a w tabeli 2 przedstawiono wartość indeksu polidyspersyjności, powierzchnię właściwą BET, objętość oraz średnicę porów otrzymanej próbki.
P r z y k ł a d XI
Użyto 10 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy-1,1',2,2',3,3',4,4'-oktafluoropentylo ksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z niereaktywnymi grupami oktafluoroalkilowymi-) jako modyfikatora powierzchni krzemionki emulsyjnej, otrzymanej analogicznie jak w przykładzie VII. Proces otrzymywania układów hybrydowych przeprowadzono jak w przykładzie I.
Na Fig. 27 przedstawiono rozkład wielkości cząstek krzemionki uwodnionej modyfikowanej 10 części wagowych oktakis(dimetylosiloksy-1,1',2,2',3,3',4,4'-oktafluoropentyloksy-propylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 28 zaprezentowano obraz SEM, z kolei na Fig. 29 zademonstrowano obraz TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS. W tabeli 2 zestawiono wartość współczynnika polidyspersyjności (PdI), powierzchnię właściwą BET, objętość a także średnicę porów otrzymanej próbki.
PL 223 249 B1
P r z y k ł a d XII
Kolejny układ hybrydowy typu SiO2-POSS wytworzono przy zastosowaniu krzemionki uzyskanej metodą zol-żel (zmodyfikowaną metodą Stobera) oraz 10 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami metakryloksy-). Proces otrzymywania kompozytów metodą odparowania rozpuszczalnika przeprowadzono jak w przykładzie I.
P r z y k ł a d XIII
Użyto 3 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu jako modyfikato3 ra powierzchni krzemionki pirogennej oraz 10 cm3 heksanu. Proces otrzymywania układów hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika przeprowadzono analogicznie jak w przykładzie I.
Na Fig. 30 zamieszczono rozkład wielkości cząstek krzemionki płomieniowej modyfikowanej 3 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (Zetasizer Nano ZS). Na Fig. 31 przedstawiono obraz TEM otrzymanego w powyższy sposób kompozytu SiO2-POSS.
P r z y k ł a d XIV
Zastosowano 60 części wagowych oktakis(3-metakryloksypropylo)oktasilseskwioksanu (POSS z reaktywnymi grupami metakryloksy-) jako modyfikatora powierzchni krzemionki emulsyjnej, otrzymanej jak w przykładzie VII. Proces otrzymywania kompozytu hybrydowego przeprowadzono jak w przykładzie I.

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika, znamienny tym, że na nośnik którego stanowi krzemionka uwodniona, lub emulsyjna, lub krzemionka otrzymana metodą zol-żel lub krzemionka pirogenna, nanosi się w temperaturze otoczenia mieszaninę składającą się z 0,1-70 części wagowych, korzystnie 10 części wagowych klatkowych silseskwioksanów, o wzorze przedstawionym na rysunku, gdzie R oznacza grupę reaktywną alkoksy-, lub metakryloksy-, lub glicydoksy-, lub amino-, lub ich mieszaninę, bądź niereaktywną: fluoro-, lub perfluorową, lub ich mieszaninę i rozpuszczalników organicznych, korzystnie toluenu, lub tetrahydrofuranu, lub heksanu, lub alkoholu, a następnie odparowuje się rozpuszczalnik w obniżonej temperaturze i pod obniżonym ciśnieniem, dalej suszy konwekcyjnie w temperaturze 90-150°C, korzystnie 120°C.
PL394906A 2011-05-17 2011-05-17 Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika PL223249B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL394906A PL223249B1 (pl) 2011-05-17 2011-05-17 Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL394906A PL223249B1 (pl) 2011-05-17 2011-05-17 Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL394906A1 PL394906A1 (pl) 2012-11-19
PL223249B1 true PL223249B1 (pl) 2016-10-31

Family

ID=47263983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL394906A PL223249B1 (pl) 2011-05-17 2011-05-17 Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL223249B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL394906A1 (pl) 2012-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102574693B (zh) 中孔二氧化硅细颗粒的制备方法、中孔二氧化硅细颗粒、中孔二氧化硅细颗粒的液体分散体、含中孔二氧化硅细颗粒的组合物和含中孔二氧化硅细颗粒的模制品
US9388314B2 (en) Surface modified silicon dioxide particles
Ramezani et al. Preparation of silane-functionalized silica films via two-step dip coating sol–gel and evaluation of their superhydrophobic properties
US6830811B2 (en) Method of preparing hydrophobic partially aggregated colloidal silica
Meera et al. Sol–gel network silica/modified montmorillonite clay hybrid nanocomposites for hydrophobic surface coatings
EP2317006A1 (en) Ultrahydrophobic powder, structure with ultrahydrophobic surface, and processes for producing these
US8815339B2 (en) Surface modifiers and process for surface modifications of particles of metal oxide using the same
US20130164444A1 (en) Manufacturing method for surface-modified titanium particles, dispersion of titanium particles, and resin having titanium particles dispersed therein
CN103874654B (zh) 经表面覆盖处理的无机粉体
CN104093667A (zh) 具有新型特征特性的二氧化硅球材料
Xu et al. Preparation of vinyl silica-based organic/inorganic nanocomposites and superhydrophobic polyester surfaces from it
EP1893684B1 (en) Process for modifying inorganic oxygen-containing particulate material, product obtained therefrom, and use thereof
JP2004025167A (ja) ヒドロキシル基含有無機ポリマーによって安定化したナノ酸化亜鉛分散体の製造方法
JP2011144272A (ja) ジルコニアナノ粒子を含むシリコーン樹脂組成物
JP5426869B2 (ja) メソポーラスシリカ微粒子の製造方法、メソポーラスシリカ微粒子含有組成物、及びメソポーラスシリカ微粒子含有成型物
Arkhireeva et al. Preparation of Silsesquioxane Particles via a Nonhydrolytic Sol− Gel Route
US20040068047A1 (en) Filled silicone composition and cured silicone product
JP2012214340A (ja) シリカ粒子の製造方法
PL223249B1 (pl) Sposób otrzymywania nanonapełniaczy hybrydowych metodą odparowania rozpuszczalnika
KR101244205B1 (ko) 산화알루미늄 및 주기율표의 제ⅰ 및 제ⅱ 주족 원소의산화물로부터의 표면-개질 나노입자 및 이의 제법
JP4503091B2 (ja) 超疎水性粉体、これを用いる超疎水性表面を有する構造体及びそれらの製造方法
EP1554219A1 (en) Filled silicone composition and cured silicone product
JP2004107470A (ja) ポリカーボネート樹脂組成物、それからなる成形体およびその製造方法
Hikake et al. Silica-based hybrid materials formed by surface grafting with necklace polymers containing POSS–DMS structures
CN1508198A (zh) 纳米级粒子表面改性剂的制备方法和纳米无机氧化物分散体及其应用