PL21715B1 - Sposób wytwarzania dwutlenku siarki z odpowiednich gazów. - Google Patents

Sposób wytwarzania dwutlenku siarki z odpowiednich gazów. Download PDF

Info

Publication number
PL21715B1
PL21715B1 PL21715A PL2171534A PL21715B1 PL 21715 B1 PL21715 B1 PL 21715B1 PL 21715 A PL21715 A PL 21715A PL 2171534 A PL2171534 A PL 2171534A PL 21715 B1 PL21715 B1 PL 21715B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
mixture
water
sulfur dioxide
organic bases
absorption process
Prior art date
Application number
PL21715A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL21715B1 publication Critical patent/PL21715B1/pl

Links

Description

Wiadomo, ze dwutlenek siarki mozna wytwarzac z odpowiednich gazów przez dzialanie na nie mieszanina amin aroma¬ tycznych i wody i nastepnie ogrzewanie produktu reakcji, a pozostala mieszanine absorbcyjna mozna stosowac ponownie w celu dzialania nia na gaz, zawierajacy dwu¬ tlenek siarki.Stwierdzono, ze przy tego rodzaju po- wtórnem stosowaniu zabiegu absorbowania powstaja zaklócenia w pracy wskutek tego, ze masa absorbcyjna staje sie zbyt gesto- plynna i pieni sie. Te wlasciwosci masy absorbcyjnej z biegiem czasu tak sie wzma¬ gaja, ze normalne prowadzenie mieszaniny absorbcyjnej przez przewody, pompy i apa¬ raty absorbcyjne oraz dalsze uzywanie jej w obiegu kolowym staje sie niemozliwe.Badania wykazaly, ze te zaklócenia, wy¬ kluczajace moznosc wielokrotnego stosowa¬ nia mieszaniny absorbcyjnej, nalezy przy¬ pisac tworzeniu i osadzaniu sie siarczanów zasad organicznych wskutek utleniania sie dwutlenku siarki, gdyz siarczany te sa trud¬ niej rozpuszczalne od siarczanów tychze za¬ sad, utworzonych pierwotnie.Okazalo sie, ze tworzeniu sie wspomnia¬ nych osadów mozna przeciwdzialac, a w zwiazku z tern zapobiec skutecznie zakló¬ ceniom w pracy przez to, ze do mieszani¬ ny absorbcyjnej przed czynnoscia absorbo¬ wania lub po niej lub tez w czasie wyko-nywwwi te^ «aytMKHsci 4«4frj?fe nich cial, jak np. tlenków, wodorotlenków, weglanów i siarczanów obojetnych lub kwav- snych, lub innych soli slabszych^ kwasów metali potasowcowych oraz aitiehu i magne¬ zu. Siarczany, wytworzone w mieszaninie absorbcyjnej (ewentualnie dopiero w wyz¬ szych temperaturach, stosowanych podczas wypedzania absorbowanego dwutlenku siar¬ ki), dzialaniem dodanych cial powyzszycfe sa przeprowadzane w siarczany nieorganicz¬ ne, rozpuszciafti^ v^ wódiie, '¦£ wytwarzaja roztwory wodne. Jednoczesnie zasady or¬ ganiczne, zwiazane uprzednia z kwasem* siarkowym, powracaja* dh stanu, wolaega L moga byc znowu uzyte do dalszych czyn¬ nosci absórbcyjnych.Przy dodawaniu zasad do mieszaniny absorbcyjnej przed dzialaniem lub podczas dzialania na nia gazu, zawierajacego dwu»- tlenek siarki, wytwarzaja sie siarczyny, które po pózniejszem ogrzewaniu mieszani¬ ny absorbcyjnej, nasyconej S02f wchodza w reakcje z siarczanami zasad organicznych, utworzonemi wtkj mieszaninie, wydzielajac so2.Przy uwalnianiu zasad, poza usunieciem: przyczyny gestnienia i pienienia sie miesza¬ niny absorbcyjnej, osiaga sie te korzysc, ze rozpuszczalnosc zasad organicznych, u- zywanycb dfr absci:bej i, zmniejsza sie znacz¬ nie w fazie wodnej Mianowibki, wediuf prób, pczepn)wadz(mych w wodzie w tem¬ peraturze 4ft;.-r* SO^Gr z surowa ksyiidyatófc o zawartosci okok» 66% ksylidyny rozpu¬ szcza; sie; w litrze 6# g ksylidyny, natomiast w roztworze- Na^S04 o zawartosci 2©c g sikrki w litrze rozpuszcza sie 1,5 g ksylidy¬ ny w litrze, a w roztworze Nt%S&4. o zawar¬ tosci 50 g siarki w litrze — (Wr g ksylidy¬ ny w litrze^ Ta wlasciwosc wysalania roz¬ tworu solnegri ma duze znaczenie z tc§& wigledu^ ze zawsze odr czasu do czaaa) czesc Fóztworu wodiiego trzeba usunac, a wy¬ wolywana przez tor strata stosunkowa dro¬ gich: zasad organicznych zostaje zftrtiie^sK- na do minimum przez obecnosc soli w tym roztworze. llastepna korzysc stosowania wymienio¬ nych cial dodatkowych polega na tern, ze wraz ze wzrastajacem stezeniem soli w roz- twwze wodnym obniza sie zdolnosc pochla¬ niania tlenu i utrudnia sie przez lo tworze¬ nia sie siarczanów wskutek utleniajacego dzialania tlenu, zawartego w gazie trakto¬ wanym.Siarczany rozpuszczalne,, które w fazie wodnej prieslzfrjf da rozifwdru;. z chwila, gdy stezenie ich na tyle wzroslo, ze zdolnosc pochlaniania dwufcUnlriL siarki w mieszani¬ nie aBsferbcyfoej* zobta^e w znacznym stop¬ niu zmniejszona, mozna latwo wydzielic przez krystalizacje, np. w postaci soli glau- berskiej, zawierajacej wode krystaliczna, i powstalego roztworu wodnego mozna uzy¬ wac p^nowni^ w polaczeniu np. z ksylidyna do nowej czynnosci absorbowania. Zamiast tego, po kazdej czynnosci absorbowania lub po wielu takich czynnosciach, roztwór, zbyt wzbogacony np. w siarczan sodu, mozna czesciowo Tub calkowicie zastapic woda.Jako srodki absorbcyjne wchodzic moga w gre zasady organiczne, w szczególnosci aminy aromatyczne i tluszfcTfówe; szeregu cyklicznego i acyklicznego, np. anilina i jej homologi, toluidyny, ksylidyny, pirydyny, zasaaty pirydynowe, chinolina, frójefanolo- amina, hydt«ksyteaitiinav hydrazyna i po* dobne, jak równiez mieszaniny tych zasad- lub mieszaniny cial, zawierajiacych te zstett- dy, lub mieszaniny zasad, dostepne za sto¬ sunkowo niska-cene, np. k«ylidyiM teeftaiez- na,. jako. techniczny sUMWtec lub pólpro¬ dukt.Proces absorbeyjny moze byc pwwadzo- nyr w znany sposób w tefflperaturach uaifett^ kovmnych, korzystnie nieprz^kraczajacych! mniej' wiecej 35°€, ew«fttualiii^ podt zwlete* szonem cisnieniem^ Stosuncrk ilfcidSowy n&e~ dzy srodki^n-ab^dirbu^^W i wofda moze sie^ waható w sz«rokfclt gfatfiicstófei w zateznOBttfe od< toóaaym srodfea dtoOTteyfae^ Vmipm&* — 2 —tucy, cisnienia i innych warunków pracy.Przy uzyciu surowej ksylidyny uzycie ksy¬ lidyny i wody w równych, mniej wiecej cze¬ sciach okazalo sie koreystnem. Przy uzy¬ ciu gazu o zawartosci 7 % objetosciowych S02 1 mol ksylidyny moze pochlonac oko¬ lo 1 mola S02.Rozklad siarczanów zasad organicznych, utworzonych przy procesie absorbcyjnym, uskutecznia sie w podwyzszonych tempera¬ turach, np. miedzy 65° — 105°C w naczy¬ niu destylacyjnem lub w kolumnie do odpe¬ dzania, przyczem odzyskuje sie wolne za¬ sady* Przy stosowaniu cisnienia zmniejszo¬ nego rozklad mozna przeprowadzac w tem¬ peraturach odpowiednio nizszych. W razie wlaczenia chlodnic, aparatów skraplajacych i podobnych pary srodka absorbcyjnego, za¬ warte w gazie, mozna skraplac i odprowa¬ dzac zpowrotem do mieszaniny absorbcyj¬ nej; Z mieszaniny absorbcyjnej podczas kaz¬ dej czynnosci przy prawidlowem prowadze¬ niu procesu rozkladu mozna odciagac okolo 9%% S02, uprzednio zaabsorbowanego.Pozostajaca mieszanina srodka absorb¬ cyjnego i wody moze byc uzyta do nowego procesu absorbcyjnego w obiegu kolowym.Ilosc dodatków moze byc obliczona tak, zeby wystarczyla akurat do rozlozenia siar¬ czanów zasad organicznych, zawartych w mieszaninie absorbcyjnej. Te ilosc mozna jednak równiez obliczyc tak, ze wystarczy ona równiez i do rozlozenia niewielkich ilo¬ sci siarczynów, powstajacych ewentualnie przy odpedzaniu S02. Przy kazdej czyn¬ nosci mozna zatem osiagac otrzymywanie zaabsorbowanego S02 zpowrotem bez re¬ szty. W szczególnosci aby to osiagnac, cia¬ lo, dodawane w zadanym nadmiarze, mozna domieszac do mieszaniny absorbcyjnej je¬ szcze przed absorbeja, przyczem wodoro¬ tlenek sodowy lub weglan sodowy, znajdu¬ jacy sie poczatkowo w roztworze, przemie¬ nia sie pod dzialaniem dwutlenku siarki w odpowiedni siarczyn, który nastepnie przy ogrzewaniu mieszaniny reakcyjnej, w celu odpedzenia zaabsorbowanego dwutlenku siarki, wchodzi w reakcje z siarczanem za¬ sady organicznej, pierwotnie utworzonym* wytwarzajac wolna zasade oraz dwutlenek siarki.Przy pracy w sposób opisany, mozna zapobiegac zaklóceniom i do wznawianych czynnosci absorbcyjnych uzywac stale te sama ilosc zasad organicznych, nie ponoszac przytem godnych uwagi strat.Zgodnie z wynalazkiem osiaga sie je¬ szcze dalsze zmniejszenie strat zasad orga¬ nicznych przez to, ze gazem odlotowym z procesu absorbcyjnego i (lub) dwutlenkiem siarki, otrzymywanym: przy ogrzewaniu roz¬ tworu siarczynowego, otrzymanego podczas absorbeji, oddzialywa sie w obecnosci wo¬ dy na ciala, zdolne zgodnie z opisanym pro¬ cesem do przemiany siarczanów zasad orga¬ nicznych, utworzonych podczas procesu ab¬ sorbcyjnego, na wolne zasady i rozpuszczal¬ ne w wodzie siarczany nieorganiczne lub tez na mieszanine takich cial.Do tego celu, poza cialami, reagujacemi zasadowo, np, wodorotlenkami lub wegla¬ nami potasowcowemi, weglanem magnezu i podobnemi, nadaja sie równiez obojetne lub kwasne siarczyny potasowcowe, amonowe, lub tez siarczyny magnezu. Jesli z gazu, oprócz zawartych w nim jeszcze zasad orga¬ nicznych, nalezy równiez wydzielic znajdu¬ jacy sie jeszcze w nim dwutlenek siarki, wówczas na gaz dziala sie cialem, reaguja- cem zasadowo, np. weglanem, siarczynem obojetnym, siarczynem, zawierajacym wie¬ cej S02 od siarczynu normalnego, jednak nigdy siarczynem kwasnym, któryby, jak np. dwusiarczyn potasowcowy, zawieral za duzo kwasu siarkawego i przez to nie mógl pochlaniac z gazu pozostalosci SO^.Poniewaz, z drugiej strony, przy dziala¬ niu wymienionych odczynników na stezony dwutlenek siarki, otrzymywany przez ogrze¬ wanie roztworu absorbcyjnego, w miare zwiekszonej zasadowosci odczynników, od¬ ciagaja one coraz wiecej S02, tworzac dwu* — 3 -siarczyn, to, pragnac tego uniknac, nalezy uzywac kwasnych siarczynów wzglednie dwusiarczynów, które posiadaja wieksza zdolnosc pochlaniania zasad organicz¬ nych.W tych przypadkach, gdy wydzielanie C02, zwiazane z wymiana weglanów z siarczanami, mogloby szkodzic, np. przy na- stepnem traktowaniu stezonego dwutlenku siarki, który ma byc nastepnie przeprowa¬ dzany w stan plynny, nie uzywa sie wegla¬ nów potasowców, amonu i magnezu.Mozna postepowac w ten sposób, ze gaz, podlegajacy oczyszczaniu, przeprowadza sie przez wieze, zraszana roztworem lub za¬ wiesina odpowiedniego ciala, np. 25 % -owym roztworem wodorotlenku, weglanu, siarczy¬ nu lub dwusiarczynu potasowcowego, siar¬ czynu magnezowego lub zawiesina weglanu magnezu.Przy uzyciu cial, reagujacych nie kwa¬ sno, obok absorbcji pozostalosci zasad or¬ ganicznych, zawartych w traktowanym ga¬ zie, otrzymuje sie roztwór siarczynu przez pochloniecie dwutlenku siarki, np. jego po¬ zostalosci z odlocin procesu absorbcyjnego, ewentualnie wraz z pozostaloscia wolnego lugu lub kwasnego siarczynu.Roztwory te po dostatecznem ich wzbo¬ gaceniu zasadami organicznemi moga byc doprowadzane do procesu glównego, przy- czem siarczany zasad organicznych, utwo¬ rzone zapomoca nieorganicznego siarczynu, zawartego w roztworze, wskutek reakcyj ubocznych zostana rozlozone na wolne za¬ sady organiczne i rozpuszczalne w wodzie siarczyny nieorganiczne. Równoczesnie za¬ sada organiczna, zwiazana przez proces przemywania w postaci siarczynu, np. siar¬ czyn ksylidyny, uwalnia sie przy rozkladzie siarczynu i wydzielaniu sie dwutlenku siar¬ ki, dzieki czemu zuzytkowuje sie zarówno zasady organiczne, jak i kwas siarkawy, za¬ warte w roztworze.Wydalanie ostatnich sladów zasad orga¬ nicznych, poza otrzymywaniem zpowrotem odpowiednich ilosci zasad organicznych, da¬ je te korzysc, ze sa wykluczone jakiekol¬ wiek zaklócenia w pracy, które moglyby powstawac przy uzyciu dwutlenku siarki do celów specjalnych, np. do przeprowa¬ dzania go w stan plynny.Przy wykonywaniu sposobu wedlug wy¬ nalazku gaz, zawierajacy S02, np. gaz z pra¬ zenia, przepuszcza sie celowo zdolu do gó¬ ry przez uklad wielkiej liczby wiez z wy¬ pelnieniem, polaczonych jedna z druga, przez które przepompowuje sie mieszanine wody z ksylidyna. Gaz uchodzacy, w wy¬ sokim stopniu uwolniony od S02, przecho¬ dzi nastepnie przez wieze, zraszana 25%- owym roztworem sody, przyczem ze stru¬ mienia gazu usuniete zostaja slady ksylidy¬ ny i S02. Zamiast roztworu sody lub oprócz niego mozna uzywac równiez roztworu siar¬ czynu sodowego lub roztworu sody, wzbo¬ gaconego w siarczyn, który wiaze równiez resztki ksylidyny, zawarte w odlocinach, podczas gdy S02 zatrzymuje w postaci dwu¬ siarczynu sodowego. Siarczynu wzglednie dwusiarczynu sodowego lub roztworu sody, zawierajacego siarczyn, z pierwszej wiezy po zakonczeniu procesu absorbcji lub tez podczas wydalania S02, albo tez po zakon¬ czeniu tego wydalania dodaje sie do miesza¬ niny absorbcyjnej w ilosci, równowaznej za¬ wartosci w tym roztworze siarczynu, w ce^ lu wymiany siarczanów zasad organicznych w pozostalosciach podestylacyjnych. W kazdym przypadku osiaga sie to, ze S029 wymyty roztworem sody lub siarczynu, zo¬ staje wyzyskany.Przyklad I. Mieszanine gazowa, za¬ wierajaca 8% objetosciowych S02t 9% 02 (reszte mieszaniny stanowi N2), przepu¬ szczano przez wieze absorbcyjna w normal¬ nej temperaturze w przeciwpradzie poprzez mieszanine jednakowych czesci objetoscio¬ wych surowej ksylidyny i wody, prawie az do nasycenia S02. Pochlanianie odbywalo sie z poczatku calkowicie, a stopniowo coraz wolniej, przyczem mieszanina absorbcyjna — 4 -staifc sie-jed*w»^dna mi^zaaitna ó zawar¬ tosci 204 £ S02 w litrze Z otrzymanegp roztworu mieszaniny przfcz podniesienie temperatury ck* 8Q— 95£C przy jednoczesnem micsaatiiu wydak»- lUfr.SO* az do osiagniecia, zaw&ariosci 11,2 g SG# w^ litfcze ksylidyny i 2,9 g; SCkj w litrze roziwoitt* wodnego przyczem gft* uchodza¬ cy przeprdwadzJono przez chlodnice zwrotna w celu zatrzymania ksylidyny i par wo* dy: P»ze* ppfcosiatasc mieszaniny absorhcyj- nej, w której pa odstawieniu mieszadla na¬ stapilo* oddzielenie sie ksylidyny od rofctwo- ruvwodnego* t j. wytworzyly sie dwie war¬ stwy,* przepuszczono po ochlodzeniu w tem¬ peraturze normalnej znowuz mieszanine ga¬ zowa, wyzej^ opisana, az do osiagniecia sta- nur nasycenia mieszaniny absorJacyjnej, Po powtórnem odpedzeniu pochlonietej S02 przez ogrzewanie pozostalosc masy absorb- cyjnej zawierala jeszcze 8y0 g SQ2 w litrze ksylidyny i l,fr g S02 w litrze roztworu wodnego.Przy powtórzeniu procesu absorbcjr i rozkladu masy reakcyjnej oraz; pochlonieciu 189* g, S02 na litr mieszaniny absorbcyjnej masa? zgestniala zupelnie widocznie.Przy trzeciem zkolei pochlonieciu 125 g S02 na litr mieszaniny absorbcyjnej ma- sai reakcyjna byla tak gesta,, ze absorbcji juzf nie mozna bylo prowadzic dalej.Przyklad II. Powtórzono postepowanie wedlug przykladu I z ta tylko róznica, ze parzy powtórnej absorbcji i rozkladzie do mieszaniny ksylidyna-woda, zawierajacej siarczan ksylidyny, dodano weglanu sody ae dtr slabo aUcaliczaej reakcji, przyczem czesc ksykdyny przeszla w stan; wolnej' za¬ sady; a utworzony siarczan sodowy prze¬ szedl do roztworu.Przy szesnastokrotnem powtórzeniu pro- cfesu w obiegu kotewyrrt wedlug przykla¬ du I, dzieki dodawaniu weglanu sodowego co- najmniej po kazdem drugie^n powtórze- |)j^ mieszanina absorbcyjna podczas pro- cemr absorbcyjiregopnie wykarjwwlai zardnyair osadów, zachowujac niezmienna zdolnosc pochlaniania dwutlenku, siarki Przyklad: III. Gazy praielne o ztfwar^ tosci \% objetosciowych SQ% i 7% O^prze¬ mywano mieszanina ksylidynaKwodar zawie¬ rajaca na kazder 2 czescL ksylidyoy 1 czesc wody, przyczem mieszanina tat przy sianie jej nasycenia pochlonela 180r g S02 net¦]&&¦ Po odpedzeniu SOr, przez gotowanie nfte- szaniuy absorbcyjnej) uzyto do nowego pro¬ cesu absorbcyjnego. Po trzykrotneitt powtó¬ rzeniu absorbcji i wygotowaniu mselzanina* absorbcyjaa, rozdzielona n* dwie warstwy,, zawierala w litrze 9 & siarki w poftfeaci siar^ czanu ksylidyny;. podczas gdy zawautasc ksylidyny w wodzie wyimsila M5 g) wfitee;.Przy nowym procesie absorbcji mieszaflina^ gestoplynna siinie sie* pienila, wskutek cze¬ go procesu nie mozna bylo dalej prowadzic.W zwiazku z term na kazdy litr mieszani¬ ny absorbcyjnejs dodarto w 8(FG.30 & Sddy kalcynowej. Po- ódtudzenitt warshiwfc ksyli^ dyny byla: callcowtóie- wolna odr siatczanu,. podczas gdy woda zawierala 27 g, siarki w postaci siarczanu, sodu i 1,2 k*$kly- ny w litrzer Ftzy wznowieniu pmc&m absorbcyjnego przebiegal oni bez; prae&JtócL Poi kazdym trzecm. procesie ahsorheyjr nym do mieszaniny reakcyjnej: dbdawaoor taka ilosc sody, az zawartosc siarki w litrze wody wyniosla 45 g siarki w po* staci soli gladberskiej, Wfedy wode? sp**r szczono. Strata ksylidyny, zawartej w tej' wadzie,, wyniosla l^g ksylidyny na lite.Przykfccd W. Ga» prazeliay\o zawar¬ tosci 7,5% objetosciowych SOif i 8% Q* przemywano w mieszaninie ksylidywarw<»fci o skladzie: 1 czesc wotly + 1 czesc ksylhly- ny. Mieszanina ta zawierala po nasycewLu 220 g S02 w litrze. Gdy przy powt&fwm^ stosowaniu tej mieszaniny zawaritttó 8ia»- czanu w niej wzrosla do 12 g siarki w litrze i zaczely powstawac zakfócemia w prasce,! do¬ dano do niej podczas jej wygotowywania 126* j$ siate£$v&sodowe^o^Afa^SO^. 7 H20), - 5 -Po Wygotowaniu Só2 warstwa ksylidyny zawierala 0,8 g siarki w litrze, podczas gdy woda zawierala 25 g siarki w posta¬ ci S02 i 2,2 g ksylidyny w litrze. Przy na- stepnem stosowaniu absorbeji zadnych za¬ klócen w pracy nie bylo.Przyklad V. Mieszanina z 2 czesci wo¬ dy i 1 czesci aniliny, która byla parokrotnie uzywana do absorbeji S02, wzbogacila sie o 20 g siarki na litr w postaci siarczanu i ulegala silnemu pienieniu sie. Po wygoto¬ waniu S02 dodano 53 g weglanu magnezu na litr mieszaniny absorbcyjnej i siarczan aniliny rozlozono na wolna aniline i siar¬ czan magnezu, rozpuszczalny w wodzie.Regenerowana mieszanine absorbcyjna moz¬ na bylo stosowac w dalszym ciagu, az za¬ wartosc siarki w postaci SO± dosiegla w tej mieszaninie 40 g w litrze. Wtedy spuszczo¬ no wode, wraz z która stracono zawarta w niej aniline w ilosci 5 g w litrze.Przyklad VI. Z 40 kg mieszaniny, za¬ wierajacej w równych czesciach wode i ksy- lidyne techniczna, po zaabsorbowaniu przez nia dwutlenku siarki w ilosci 175 g na litr, odpedzano przez gotowanie w okolo 80 — 95°C w ciagu 8 godzin 7 kg S02 o objeto¬ sci 2,7 m3. Odpedzony dwutlenek siarki w chlodnicy zwrotnej ochlodzono do 20°C; pomimo tego zawieral on w sobie jeszcze 1,7 g (równe 0,013% objetosciowych) ksy¬ lidyny w postaci par. Dwutlenek siarki, za¬ wierajacy pary ksylidyny, przemywano w dwóch butlach, z których kazda zawierala 800 cm3 roztworu dwusiarczynu sodu, na¬ syconego w 20°C (350 g dwusiarczynu so¬ du w litrze).Po przemyciu 2,7 m3 SO2 stwierdzono, ze w pierwszej butli znajdowala sie cala ilosc ksylidyny, zawartej w gazie, t. j. 1,7 g, podczas gdy w drugiej butli nie bylo jej nawet sladu. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia pat ent o we. 1. Sposób wytwarzania dwutlenku siar¬ ki z gazów odpowiednich przez traktowa¬ nie ich mieszanina zasad organicznych, np. amin aromatycznych, i wody i nastepne ogrzewanie roztworów zawierajacych S02, znamienny tern, ze do roztworu dodaje sie tlenków, wodorotlenków, weglanów lub siarczynów potasowców, amonu lub magne¬ zu, które rozkladaja siarczany zasad orga¬ nicznych, powstale przy reakcjach ubocz¬ nych, na wolne zasady i siarczany rozpu¬ szczalne w ^wodzie.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tern, ze gazem odlotowym z procesu absorbeji lub dwutlenkiem siarki, uzyska¬ nym z ogrzewania roztworu siarczynowego, otrzymanego przy procesie absorbeji, ewen¬ tualnie obydwoma gazami, dziala sie w obecnosci wody na tlenki, wodorotlenki, weglany, siarczyny lub kwasne siarczyny potasowców, amonu lub magnezu lub tez na mieszanine tych cial, zdolnych do roz¬ kladania siarczanów.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tern, ze gazem odlotowym z procesu absorbeji lub tez dwutlenkiem siarki, otrzy¬ mywanym przez ogrzewanie uzyskiwanego przy procesie absorbeji roztworu siarczy¬ nowego, lub ewentualnie obydwoma temi gazami dziala sie w obecnosci wody na tle¬ nek, wodorotlenek, weglan, siarczyn " lub kwasny siarczyn potasowca wzglednie amo¬ nu lub tez magnezu, lub na mieszanine ta¬ kich cial, jakie zdolne sa rozkladac siarcza¬ ny zasad organicznych, i ciecz taka, nasy¬ cona pozostalosciami zasad organicznych, zawartemi w gazach odlotowych, jak rów¬ niez ewentualnie dwutlenkiem siarki, wpro¬ wadza sie do mieszaniny cieczy, stosowa¬ nej w procesie absorbcyjnym, w celu rozlo¬ zenia siarczanów zasad organicznych, utwo¬ rzonych w niej reakcja uboczna. Metallgesellschaft Aktiengesellschaft. Zastepca: Inz. J. Wyganowski, rzecznik patentowy. ?. Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL
PL21715A 1934-03-01 Sposób wytwarzania dwutlenku siarki z odpowiednich gazów. PL21715B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL21715B1 true PL21715B1 (pl) 1935-08-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3556722A (en) Process for treating sulfurous acid gas-containing exhaust gas
US2031802A (en) Recovery of sulphur dioxide from gas mixtures
CN106345136B (zh) 一种用于气—气反应的结晶塔
JPS59206031A (ja) ガスから窒素酸化物の除去方法
US2161056A (en) Process for recovering sulphur dioxide from waste gases
PL21715B1 (pl) Sposób wytwarzania dwutlenku siarki z odpowiednich gazów.
CS204962B2 (cs) Způsob regenerace chemikálií z odpadních louhů při výrobě buničiny
PL69777B1 (pl)
US2975026A (en) Removing hydrogen sulphide from gases
CN106587494A (zh) 一种改善h酸废水氨氮含量的方法
CN114887467B (zh) 气相二氧化硫尾气处理系统及处理方法
US2122544A (en) Process for the recovery of sulphur dioxide
CN216457963U (zh) 一种利用冶炼烟气制酸余热净化废水的系统
US4038368A (en) Process for removing oxides of nitrogen and sulfur from exhaust gases
CN106345254B (zh) 处理含硫化氢气体的方法及装置
ITMI950357A1 (it) Processo di abbattimento di so2 dai gas che la contengono con produzione diretta di zolfo elementare
PL146522B1 (en) Method of recovering elementary sulfur from sulfur dioxide or sulfur dioxide and hydrohen sulfide containing gases
US2148971A (en) Process for the recovery of pure, concentrated sulphur dioxide
CN102452674A (zh) 一种从乙烯装置废碱液中回收硫酸钠的处理方法
US3312525A (en) Process for separation of ammonia from gas mixtures
CN218358392U (zh) 一种综合危废焚烧烟气处理系统
CN106345135B (zh) 一种用于气相反应的结晶塔
CN111821844A (zh) 一种干法氧化和湿法氧化结合的脱硫工艺方法
PL158250B1 (en) Method for removing sulphur from weak gas containing sulphur dioxide
US5695727A (en) Process for removing sulfur dioxide and nitrogen oxides from a hot gaseous stream with ferrous chelate regeneration