PL210201B1 - Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania - Google Patents

Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania

Info

Publication number
PL210201B1
PL210201B1 PL376168A PL37616805A PL210201B1 PL 210201 B1 PL210201 B1 PL 210201B1 PL 376168 A PL376168 A PL 376168A PL 37616805 A PL37616805 A PL 37616805A PL 210201 B1 PL210201 B1 PL 210201B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
trimethyl borate
weight
methanol
azeotrope
volatile
Prior art date
Application number
PL376168A
Other languages
English (en)
Other versions
PL376168A1 (pl
Inventor
Lidia Lewicka
Jacek Cybulski
Anna Kulig-Adamiak
Anna Wiśniewska
Jarosław Kamiński
Original Assignee
Inst Chemii Przemysłowej Im Prof Ignacego Mościckiego
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Chemii Przemysłowej Im Prof Ignacego Mościckiego filed Critical Inst Chemii Przemysłowej Im Prof Ignacego Mościckiego
Priority to PL376168A priority Critical patent/PL210201B1/pl
Publication of PL376168A1 publication Critical patent/PL376168A1/pl
Publication of PL210201B1 publication Critical patent/PL210201B1/pl

Links

Description

Zastosowanie lotnego topnika w procesie lutowania pozwala uzyskać idealnie czyste powierzchnie łączonych metali, eliminuje powstawanie tzw. żużla potopnikowego, którego usuwanie z powierzchni lutowiny jest niezwykle uciążliwe.
Znany sposób wytwarzania lotnego topnika zawierającego boran trimetylowy, przedstawiony w Polskim opisie patentowym nr 102499, polega na tym, ż e kwaśny fluorek z grupy potasowców, w ilości do 0,07% wagowych, rozdrabnia się i rozpuszcza w wodzie użytej w ilości do 0,90%, po czym miesza się z alkoholem metylowym, użytym w ilości 25-64%, i dodaje się boran trimetylowy w ilości 30-70% i glikol etylenowy w iloś ci 5-8% wagowych. Podstawowym aktywnym skł adnikiem tego topnika jest boran trimetylowy. Składniki zawarte w mniejszej ilości: glikol etylenowy i fluorek stanowią substancje pomocnicze, wpływające na trwałość topnika i zwiększenie jego właściwości zwilżających powierzchnię lutowanych metali.
Przy stosowaniu lotnego topnika, zawierającego jako główny składnik boran trimetylowy, zużycie topnika w procesie lutowania jest tym mniejsze im większa jest zawartość w nim boranu trimetylowego.
Celem wynalazku jest bezpośrednie wytworzenie lotnego topnika o dużej zawartości boranu trimetylowego, który przy zmniejszonym zużyciu spełnia swoją funkcję w procesie twardego lutowania. Cel ten osiągnięto przez wytworzenie azeotropu boranu trimetylowego z metanolem, zawierającego 50-70% wagowych boranu trimetylowego.
Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania, zawierającego 50-70% wagowych boranu trimetylowego, według wynalazku polega na tym, że mieszaninę kwasu borowego i metanolu doprowadza się do wrzenia a następnie poddaje się destylacji frakcjonowanej przy temperaturze oparów 51-59°C i jako destylat odbiera się azeotrop boranu trimetylowego z metanolem o zawartości 50-70% wagowych boranu trimetylowego, do którego ewentualnie dodaje się substancje pomocnicze, korzystnie bezwodny fluorek potasowy i/lub glikol etylenowy.
Korzystnie jest destylację frakcjonowaną prowadzić w kolumnie o zdolności rozdzielczej powyżej 10 półek teoretycznych.
Korzystnie jest do otrzymanego azeotropu boranu trimetylowego z metanolem dodać bezwodny fluorek potasowy w ilości 0,8-1,0% wagowych.
Korzystnie jest do otrzymanego azeotropu boranu trimetylowego z metanolem dodać glikol etylenowy w ilości 0,8-1,5% wagowych.
Lotny topnik wytworzony sposobem według wynalazku można stosować z lutami srebrnymi i mosiężnymi do twardego lutowania płomieniem acetylenowo-tlenowym stali węglowych i nisko stopowych oraz miedzi, mosiądzu i brązu cynkowego. Dobre efekty daje zastosowanie topnika w procesie lutowania wymienionych materiałów w temperaturze 700-1100°C.
Sposób według wynalazku wytwarzania lotnego topnika do lutowania przedstawiono w przykładach.
P r z y k ł a d I
Do reaktora wyposażonego w kolumnę rektyfikacyjną o zdolności rozdzielczej 5 PT (półek teoretycznych) załadowano 250 g kwasu borowego i 500 g metanolu. Zawartość reaktora doprowadzono do temperatury wrzenia i stabilizowano cieplnie kolumnę przy całkowitym orosieniu przez 0,5 godziny. Następnie w zakresie temperatur oparów 55-57°C odebrano jako destylat 320 g azeotropu boranu trimetylowego z metanolem o zawartości 50% wagowych boranu trimetylowego.
P r z y k ł a d II
Do reaktora wyposażonego w kolumnę frakcjonującą o zdolności rozdzielczej 20 PT załadowano 750 g kwasu borowego i 1500 g metanolu. Zawartość reaktora doprowadzono do temperatury wrzenia i stabilizowano cieplnie kolumnę przy całkowitym orosieniu przez 1 godzinę. Następnie w zakresie temperatur oparów 52-57°C odebrano 1200 g azeotropu boranu trimetylowego z metanolem o zawartości 70% wagowych boranu trimetylowego. Do otrzymanego destylatu dodano 9,6 g bezwodnego fluorku potasowego i 12 g glikolu etylenowego.

Claims (4)

1. Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania, zawierającego 50-70% wagowych boranu trimetylowego, znamienny tym, że mieszaninę kwasu borowego i metanolu doprowadza się do wrzenia a następnie poddaje się destylacji frakcjonowanej przy temperaturze oparów 51-59°C i jako destylat odbiera się azeotrop boranu trimetylowego z metanolem o zawartości 50-70% wagowych boranu trimetylowego, do którego ewentualnie dodaje się substancje pomocnicze, korzystnie bezwodny fluorek potasowy i/lub glikol etylenowy.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że destylację frakcjonowaną prowadzi się w kolumnie o zdolności rozdzielczej powyżej 10 półek teoretycznych.
3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że do otrzymanego azeotropu boranu trimetylowego z metanolem dodaje się bezwodny fluorek potasowy w ilości 0,8-1,0% wagowych.
4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że do otrzymanego azeotropu boranu trimetylowego z metanolem dodaje się glikol etylenowy w ilości 0,8-1,5% wagowych.
PL376168A 2005-07-12 2005-07-12 Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania PL210201B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL376168A PL210201B1 (pl) 2005-07-12 2005-07-12 Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL376168A PL210201B1 (pl) 2005-07-12 2005-07-12 Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL376168A1 PL376168A1 (pl) 2007-01-22
PL210201B1 true PL210201B1 (pl) 2011-12-30

Family

ID=40561641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL376168A PL210201B1 (pl) 2005-07-12 2005-07-12 Sposób wytwarzania lotnego topnika do lutowania

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL210201B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL376168A1 (pl) 2007-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2272619B1 (en) Iron-base heat- and corrosion-resistant brazing filler metals
KR102341140B1 (ko) 질소 함유 하이드로플루오로에테르 및 이의 제조 방법
Furter Salt effect in distillation: a literature review II
ITVI20120121A1 (it) Lega per la saldobrasatura
CN103060797A (zh) 一种等离子熔覆高熵合金涂层的制备方法
CA2526667A1 (en) Use of quaternary ammonium carbonates and bicarbonates as anticorrosive agents, method for inhibiting corrosion and anticorrosive coatings using these agents
CN103692112A (zh) 适用于碳钢、不锈钢、铜及铜合金银钎焊用钎剂
JP2011152572A (ja) ステンレス鋼フラックス入りワイヤ
US9862694B1 (en) Method for the synthesis and purification of ethers
ATE327968T1 (de) Verbesserte ozeanwasserentsaltzung
JP5336142B2 (ja) はんだ合金
Elrefaie et al. Phase equilibria in the subsolidus region of the NiO-α-Al2O3 system between 1000 and 1920 C
TW200538431A (en) The method of synthesizing the compounds with the functional group CHF2C(O)- or CHFC(O)
CN102689105B (zh) 含铟的活性铜基钎料
ATE486833T1 (de) Aufreinigung von 1,1,1,3,3,3-hexafluorisopropanol
HUP0401746A2 (hu) Szubsztituált 6-(2-tolil)-triazolopirimidinek mint fungicidek
CN106825996B (zh) 含纳米稀土氟化物的CsF-RbF-AlF3钎剂
Luger et al. Ethyl p-methoxycinnamate from Kaempferia galanga L. in Vietnam
CN106047455A (zh) 一种防锈透明切削液的配方
Ak Ağlar Separation of Zirconium and Hafnium Tetrachloride from the Nuclear Power Reactors using a Distillation Column with NaCl-KCl Salt Mixtures
Auer et al. The Vienna Temperature Series: Strengths and weaknesses for the use in climate change analyses
JP2020079223A (ja) トランス−2,5−二置換−1,3−ジオキサン誘導体の製造方法
RU2126027C1 (ru) Антифриз
IE48682B1 (en) Cleaning composition and its preparation and method of cleaning
TH69670A (th) สารประกอบอิมิดาโซลชนิดใหม่ และการใช้ของมัน

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20130712