PL205317B1 - Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metals - Google Patents
Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metalsInfo
- Publication number
- PL205317B1 PL205317B1 PL373632A PL37363205A PL205317B1 PL 205317 B1 PL205317 B1 PL 205317B1 PL 373632 A PL373632 A PL 373632A PL 37363205 A PL37363205 A PL 37363205A PL 205317 B1 PL205317 B1 PL 205317B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- evaporator
- protective layer
- chemically active
- active metals
- vaporization
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 title description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 title description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- BLOIXGFLXPCOGW-UHFFFAOYSA-N [Ti].[Sn] Chemical compound [Ti].[Sn] BLOIXGFLXPCOGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Opis wynalazkuDescription of the invention
Przedmiotem wynalazku jest sposób wykonania parownika do parowania metali chemicznie aktywnych, wykorzystywanego do naparowywania powłok metalicznych na różne podłoża w warunkach wysokiej próżni, zwłaszcza powłok z metali o wysokiej temperaturze topnienia.The subject of the invention is a method of making an evaporator for the evaporation of chemically active metals, used for the vaporization of metallic coatings on various substrates under high vacuum conditions, in particular coatings made of metals with a high melting point.
Znany sposób wykonania parownika do parowania metali aktywnych chemicznie polega na wykonaniu znanym sposobem metalowego parownika w kształcie łódki z metali wysokotopliwych takich jak wolfram, molibden, tytan lub wanad, a następnie pokrywaniu jego wewnętrznej powierzchni obojętną chemicznie warstwą ochronną o grubości co najmniej 2 μm z tlenku aluminium o temperaturze topnienia 2072°C, którą nanosi się metodą naparowywania reaktywnego albo reaktywnego rozpylania jonowego. We wnętrzu otrzymanego parownika umieszczany jest metal aktywny chemicznie, przykładowo aluminium, przeznaczony do naparowywania powłoki na danym podłożu w warunkach wysokiej próżni.A known method of making an evaporator for the evaporation of chemically active metals consists in making a metal boat-shaped evaporator from high-melting metals such as tungsten, molybdenum, titanium or vanadium, and then covering its inner surface with a chemically inert protective layer at least 2 μm thick with an oxide aluminum with a melting point of 2072 ° C, which is applied by reactive vapor deposition or reactive sputtering. Inside the obtained evaporator, a chemically active metal, for example aluminum, is placed, intended to vaporize the coating on a given substrate under high vacuum conditions.
Niedogodnością znanego rozwiązania jest to, że temperatura topnienia stosowanej warstwy ochronnej parownika nie jest wystarczająco wysoka do parowania materiałów o wysokiej temperaturze topnienia.A disadvantage of the known solution is that the melting point of the protective evaporator layer used is not high enough to vaporize the high melting point materials.
Sposób, według wynalazku, polegający na wykonaniu znanym sposobem metalowego parownika w kształcie łódki z metali o wysokiej temperaturze topnienia, a następnie pokryciu jego powierzchni obojętną chemicznie warstwą ochronną co najmniej 2 um z wykorzystaniem prądu elektrycznego charakteryzuje się tym, że na powierzchnię wewnętrzną parownika uprzednio wykonanego znanym sposobem korzystnie z molibdenu nanosi się metodą elektrycznego wyładowania łukowego za pomocą parownika łukowego obojętną chemicznie warstwę ochronną stanowiącą znany azotek tytanu TiN. Proces nanoszenia warstwy ochronnej prowadzi się do czasu uzyskania warstwy o znanej grubości równej co najmniej 2 um.The method according to the invention, consisting in making a boat-shaped metal evaporator from metals with a high melting point, and then covering its surface with a chemically inert protective layer of at least 2 µm with the use of electric current, characterized in that the internal surface of the evaporator is previously made In the known method, preferably molybdenum is applied by electric arc discharge with an arc evaporator, a chemically inert protective layer consisting of the known titanium nitride TiN. The protective layer application process is carried out until a layer with a known thickness of at least 2 µm is obtained.
Zaletą rozwiązania, według wynalazku, jest jego prostota. Ponadto umożliwia ono otrzymywanie parowników do parowania metali zwłaszcza o wysokiej temperaturze topnienia o powłoce ochronnej obojętnej chemicznie i odznaczającej się dużą twardością oraz wysoką temperaturą topnienia, co wpływa na zmniejszenie awaryjności urządzeń do nanoszenia powłok na różne podłoża.The advantage of the solution according to the invention is its simplicity. Moreover, it makes it possible to obtain metal evaporators, especially with a high melting point, with a chemically inert protective coating, characterized by high hardness and high melting point, which reduces the failure rate of devices for applying coatings to various substrates.
Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykładzie wykonania. Sposób, według wynalazku, polega na tym, że w znany sposób mechanicznie wykonuje się parownik w kształcie łódki z molibdenu, a następnie pokrywa się jego wewnętrzną powierzchnię obojętną chemicznie warstwą ochronną w postaci znanego azotku tytanu TiN. Nanoszenie powłoki ochronnej realizuje się metodą elektrycznego wyładowania łukowego za pomocą parownika łukowego, do którego katody w postaci pręta tytanowego Ti doprowadza się prąd o natężeniu 100 A i napięciu +30 V, a do parownika pokrywanego warstwą ochronną doprowadza się potencjał -200 V. Wyładowanie łukowe prowadzi się w atmosferze azotu N. W tych warunkach powstaje azotek tytanu TiN, który pokrywa powierzchnię parownika warstwą ochronną. Proces prowadzi się do czasu uzyskania warstwy ochronnej o żądanej grubości równej lub większej niż 2 um.The subject of the invention is presented in an exemplary embodiment. The method according to the invention consists in mechanically producing a molybdenum boat-shaped evaporator and then covering its inner surface with a chemically inert protective layer in the form of the known titanium nitride TiN. The protective coating is applied by electric arc discharge with the use of an arc evaporator, to which the cathode in the form of a Ti titanium rod is supplied with a current of 100 A and a voltage of +30 V, and a potential of -200 V is applied to the evaporator covered with a protective layer. carried out under nitrogen N atmosphere. Under these conditions, TiN titanium nitride is formed, which covers the evaporator surface with a protective layer. The process is carried out until the protective layer is obtained with the desired thickness equal to or greater than 2 µm.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL373632A PL205317B1 (en) | 2005-03-14 | 2005-03-14 | Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metals |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL373632A PL205317B1 (en) | 2005-03-14 | 2005-03-14 | Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metals |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL373632A1 PL373632A1 (en) | 2006-09-18 |
PL205317B1 true PL205317B1 (en) | 2010-04-30 |
Family
ID=39592385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL373632A PL205317B1 (en) | 2005-03-14 | 2005-03-14 | Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metals |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
PL (1) | PL205317B1 (en) |
-
2005
- 2005-03-14 PL PL373632A patent/PL205317B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL373632A1 (en) | 2006-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5856148B2 (en) | PVD hybrid method for depositing mixed crystal layers | |
JP2008522026A5 (en) | ||
ATE10953T1 (en) | DEPOSITION PROCESS FOR A HARD METAL LAYER AND DEPOSITION METHOD FOR SUCH PROCESS, ESPECIALLY A JEWELRY WITH SUCH LAYER. | |
JP7679312B2 (en) | PVD COATINGS COMPRISING MULTIANIONIC HIGH ENTROPY ALLOY OXYNITRIDES - Patent application | |
CN1986889A (en) | Platinum modified nicocraly bondcoat for thermal barrier coating | |
JP2008522026A (en) | Coated product and method for producing the same | |
JPH02138459A (en) | Laminated hard material and production thereof | |
KR20150053959A (en) | Method for manufacturing a metal-borocarbide layer on a substrate | |
US4281041A (en) | Hard solderable metal layers on ceramic | |
KR20230093316A (en) | cloth cutting tool | |
JPH0541694B2 (en) | ||
Alfonso et al. | Influence of the substrate bias voltage on the crystallographic structure and surface composition of Ti6A14V thin films deposited by rf magnetron sputtering | |
Wu et al. | Ir-based multi-component coating on tungsten carbide by RF magnetron sputtering process | |
PL205317B1 (en) | Method for the fabrication of an evaporator for vaporization of chemically active metals | |
US11466356B2 (en) | Optical element having metallic seed layer and aluminum layer, and method for producing same | |
KR20120059255A (en) | Coating Material Comprising Titanium, Silver, and Nitrogen and Coating Method of the Same | |
RU2020114577A (en) | TURBINE DETAIL FROM SUPER ALLOY WITH RHENIUM CONTENT AND METHOD OF ITS PRODUCTION | |
Zhang et al. | Microstructure and mechanical properties of (Ti, Al, Nb) N hard films with N-gradient distributions | |
RU2020111277A (en) | COATED METAL SUBSTRATE | |
RU2329333C1 (en) | Method of preparation of quasi-crystalline films on basis of aluminium | |
US5013274A (en) | Process for restoring locally damaged parts, particularly anticathodes | |
US20160002767A1 (en) | Method for structuring layer surfaces and device therefor | |
JPS5944386B2 (en) | Method for producing heat-resistant metal thin film | |
JP2022505221A (en) | PVD barrier coating for superalloy substrates | |
JP3775273B2 (en) | Electromagnetic shielding film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20080314 |