PL204434B1 - Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego - Google Patents

Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego

Info

Publication number
PL204434B1
PL204434B1 PL371768A PL37176802A PL204434B1 PL 204434 B1 PL204434 B1 PL 204434B1 PL 371768 A PL371768 A PL 371768A PL 37176802 A PL37176802 A PL 37176802A PL 204434 B1 PL204434 B1 PL 204434B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
dlc
coating
polishing
substrate
Prior art date
Application number
PL371768A
Other languages
English (en)
Other versions
PL371768A1 (pl
Inventor
Rudolph Hugo Petrmichl
Fabio Reis
Original Assignee
Guardian Industries
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guardian Industries filed Critical Guardian Industries
Publication of PL371768A1 publication Critical patent/PL371768A1/pl
Publication of PL204434B1 publication Critical patent/PL204434B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5886—Mechanical treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3634—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing carbon, a carbide or oxycarbide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania wyrobu powlekanego. W szczególności dotyczy sposobu polerowania warstwy zawierającej węgiel typu diamentu (DLC) dla poprawienia jej odporności na zarysowanie (SR). Warstwa zawierająca DLC może być umieszczona albo bezpośrednio na podłożu (np. podłożu szklanym albo plastikowym), albo inaczej na podłożu ponad górną częścią innego układu warstw albo powłok takich jak układy powłok nisko-E (niskoemisyjnych).
Znane jest umieszczanie powłok zawierających węgiel typu diamentu na podłożach w celu poprawienia odporności na zarysowanie. Na przykład, patrz powszechnie posiadane patenty Stanów Zjednoczonych Ameryki o numerach US 6,303,226 i US 6, 277, 480, których ujawnienia są dołączone do niniejszego zgłoszenia patentowego jako odnośniki. Powłoki zawierające DLC z wymienionych powyżej publikacji odznaczają się dobrą charakterystyką odporności na zarysowanie (SR). Jednakże, w pewnych przypadkach moż e nadal istnieć potrzeba poprawienia ich wł a ś ciwoś ci w tym zakresie.
WO 01/81261 ujawnia hydrofobową powłokę zawierającą DLC na szklanym podłożu. Taka powłoka na bazie DLC wykazuje wysoki kąt kontaktu, co wynika z jej hydrofobowości. Dokument ten nie ujawnia ani nawet nie sugeruje polerowania powłoki zawierającej DLC w celu ulepszenia odporności na zarysowanie.
Z powyższego punktu widzenia może, w pewnych wypadkach istnieć potrzeba opracowania techniki dla jeszcze większego poprawienia charakterystyki odporności na zarysowanie (SR) powłoki (np. powłoki zawierającej co najmniej jedną warstwę zawierająca DLC).
Celem różnorodnych postaci wykonania niniejszego wynalazku jest spełnienie jakiejkolwiek albo wszystkich opisanych powyżej potrzeb, i/lub innych potrzeb, które staną się jasne dla fachowca po zapoznaniu się z następującym ujawnieniem.
Celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie trwałego wyrobu powlekanego, który może być zastosowany w zastosowaniach takich jak szyby pojazdów (np. przednie szyby pojazdów, szyby boczne albo tylne), blaty stołów, okna budowlane, okna/drzwi kabin prysznicowych, powlekane płytki ceramiczne i temu podobne.
Innym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie takiego, trwałego wyrobu powlekanego wykazującego dobrą charakterystykę odporności na zarysowanie (SR).
Innym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie sposobu wytwarzania układu warstw (warstwy) albo powłok zawierających węgiel typu diamentu (DLC) w taki sposób by poprawić charakterystykę SR układu warstwy (warstw) albo powłok. Układ warstw (warstwy) albo powłok zawierający DLC może być hydrofobowy, hydrofilowy, albo ani hydrofobowy ani hydrofilowy w różnorodnych postaciach wykonania niniejszego wynalazku.
Jeszcze innym celem niniejszego wynalazku jest spełnienie jednego albo więcej z wymienionych powyżej celów i/lub potrzeb.
Przedmiotem wynalazku jest zatem sposób wytwarzania wyrobu powlekanego obejmujący osadzanie powłoki zawierającej węgiel typu diamentu (DLC) na podłożu, polegający na tym, że dodatkowo przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odporności na zarysowanie zwiększonej o co najmniej 3%.
Korzystnie przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odpornoś ci na zarysowanie zwię kszonej o co najmniej 5%, jeszcze korzystniej co najmniej 8%, a najbardziej korzystnie co najmniej 10%.
Według wynalazku korzystnie powłoka posiada początkowo kąt zwilżania θ co najmniej 80 stopni, i ś rednią twardość co najmniej 10 GPa, a po przeprowadzeniu polerowania powł oka posiada ką t zwilżania θ mniejszy albo równy 15 stopniom, i średnią twardość co najmniej 10 GPa, jeszcze korzystniej kąt zwilżania θ mniejszy albo równy 10 stopniom, i średnią twardość co najmniej 20 GPa.
Według sposobu według wynalazku powłoka zawiera, co najmniej jedną warstwę zawierającą DLC, która ma więcej wiązań węgiel-węgiel typu sp3 niż wiązań węgiel-węgiel typu sp2, a warstwa zawierająca DLC jest warstwą, na której przeprowadza się powyższe polerowanie.
Korzystnie według sposobu według wynalazku warstwa zawierająca DLC posiada gęstość od 2,4 do 3,4 g/cm3, jeszcze korzystniej od 2,7 do 3,0 g/cm3.
Według korzystnego wariantu sposobu według wynalazku polerowanie przeprowadza się przy użyciu co najmniej jednej szmatki drelichowej i szczotki nylonowej.
PL 204 434 B1
Według wynalazku powłoka korzystnie zawiera ponadto warstwę zawierającą co najmniej jeden z Ag i NiCr umieszczony na podłożu pomiędzy podłoż em i warstwą zawierającą DLC, a podłoże obejmuje szkło.
W innych przykł adowych postaciach wykonania niniejszego wynalazku, jeden albo więcej z wymienionych powyż ej celów i/lub potrzeb jest/są speł niony przez dostarczenie sposobu wytworzenia wyrobu powlekanego, który to sposób obejmuje:
osadzenie warstwy na podłożu; i mechaniczne polerowanie warstwy, tak by odporność na zarysowanie warstwy uległa poprawieniu.
W innych przykł adowych postaciach wykonania niniejszego wynalazku, jeden albo więcej z wymienionych powyż ej celów i/lub potrzeb jest/są spełniony poprzez dostarczenie wyrobu powlekanego, obejmującego:
podłoże;
warstwę zawierającą DLC na podłożu; i w którym warstwa zawierają ca DLC jest polerowana.
Fig. 1(a) przedstawia widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego wytworzonego sposobem według jednej z postaci wykonania sposobu według wynalazku.
Fig. 1(b) przedstawia widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego wytworzonego sposobem według innej postaci wykonania sposobu według wynalazku.
Fig. 2 przedstawia schemat blokowy, ilustrujący pewne etapy podejmowane przy wytwarzaniu wyrobu powlekanego sposobem według pewnych postaci wykonania sposobu według wynalazku.
Fig. 3 przedstawia rzut perspektywiczny źródła liniowej wiązki jonów, które może być stosowane w jakiejkolwiek postaci wykonania sposobu wedł ug wynalazku do osadzania warstwy (warstw) zawierającej DLC.
Fig. 4 przedstawia widok przekroju poprzecznego źródła liniowej wiązki jonów z Fig. 3.
Szczegółowy opis przykładowych postaci wykonania niniejszego wynalazku
Odnosząc się teraz w szczególności do załączonych figur rysunku, w których podobne symbole liczbowe odnośników wskazują podobne części na kilku figurach.
Wynalazek dotyczy sposobu/techniki polerowania (albo szlifowania) wyrobu powlekanego dla poprawienia jego charakterystyk odporności na zarysowanie (SR). Zaskakująco, stwierdzono, że szlifowanie powłoki (np. powłoki zawierającej jedną albo więcej warstw zawierających DLC) poprawia jej charakterystyki SR. Ponieważ DLC jest powłoką twardą często stosowaną z powodu trwałości, ulepszenie charakterystyk SR warstwy zawierającej DLC jest istotnie pożądanym ulepszeniem.
Fig. 1(a) przedstawia widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego wytworzonego sposobem według jednej z postaci wykonania wynalazku, w którym warstwa (warstwy) zawierająca węgiel typu diamentu (DLC) 3 jest umieszczona bezpośrednio na i w kontakcie z podłożem 1. Podłoże 1 może być szklane, plastikowe, ceramiczne, albo temu podobne, w różnych postaciach wykonania sposobu według wynalazku. W pewnych postaciach wykonania, warstwa zawierająca DLC 3 obejmuje co najmniej niewielką ilość wysoce tetraedrycznego węgla bezpostaciowego (ta-C). Wysoce tetraedryczny węgiel bezpostaciowy (ta-C) tworzy wiązania węgiel-węgiel typu sp3, i jest specjalną postacią węgla typu diamentu (DLC). Warstwa 3 może być uwodorniona w pewnych przykładowych postaciach wykonania sposobu według wynalazku (to jest ta-C:H). W pewnych postaciach wykonania, warstwa zawierająca DLC 3 może być domieszkowana (np. Si, B, P, F i/lub temu podobnymi).
Ogólnie warstwa zawierająca DLC 3 zapewnia trwałość (np. odporność na zarysowanie). W różnych postaciach wykonania sposobu według wynalazku, warstwa zawierająca DLC 3 może być hydrofobowa (to jest, o wysokim kącie zwilżania θ), hydrofilowa (niski kąt zwilżania θ), albo ani hydrofobowa ani hydrofilowa. W przypadku hydrofobowych warstw, wyrób powlekany może mieć kąt zwilżania θ co najmniej około 80 stopni, korzystniej co najmniej około 100 stopni; podczas gdy w przypadku hydrofilowych warstw, wyrób powlekany może mieć kąt zwilżania θ mniejszy od albo równy około 15 stopniom, korzystniej mniejszy od albo równy około 10 stopniom (początkowo albo inaczej).
Warstwa zawierająca DLC 3 może być osadzona na podłożu 1 w jakikolwiek odpowiedni sposób. Na przykład, w sposób nieograniczający, warstwa zawierająca DLC 3 może być osadzona za pomocą wiązki jonów na podłożu według jakiegokolwiek ze sposobów opisanych w którymkolwiek z powszechnie posiadanych patentów Stanów Zjednoczonych Ameryki o numerach US 6, 280, 834, US 6,303,226, US 6,227,480, US 6,303,225, albo US 6,273,488, które zostały włączone do niniejszego zgłoszenia patentowego jako odnośniki. W pewnych przykładowych postaciach wykonania sposo4
PL 204 434 B1 bu według wynalazku, warstwa (warstwy) zawierające DLC 3 mogą być osadzone za pomocą wiązki jonów na podłożu 1 przy zastosowaniu co najmniej gazu (gazów) prekursorowego albo zasilającego takiego jak C2H2 (acetylen), TMS (tetrametylosilan), albo jakiegokolwiek innego odpowiedniego gazu (gazów). W pewnych postaciach wykonania, gaz i/lub rozprowadzenie gazu może zmieniać się w czasie osadzania warstwy 3 za pomocą wiązki jonowej, tak, że warstwa 3 ma różne właściwości (np. gęstość, twardość, i temu podobne) w różnych punktach swej grubości. W pewnych przykładowych postaciach wykonania sposobu według wynalazku, warstwa 3 może mieć średnią twardość (wyznaczoną techniką mierzenia twardości nano-wgłębnikiem) co najmniej 10 GPa, korzystniej co najmniej 20 GPa, a najkorzystniej co najmniej 40 GPa.
Warstwa zawierająca DLC 3 może mieć grubość od około 0,5-25 nm (5-250 angstremów A) w pewnych postaciach wykonania sposobu według wynalazku, korzystniej od około 1-20 nm (10-200 A) grubości, a najkorzystniej od około 1-10 nm (10-100 A) grubości. Ponieważ polerowanie (które zostanie opisane szczegółowo poniżej) poprawia odporność na zarysowanie (SR) warstwy 3, warstwa 3 może być cieńsza od innych dopuszczalnych, uzyskując jednak taką samą całkowitą twardość i/lub SR; i ponieważ warstwa 3 jest cieńsza, transmisja w zakresie widzialnym otrzymanego wyrobu powlekanego może być zwiększona, co jest pożądane w pewnych aspektach wynalazku.
W pewnych postaciach wykonania, warstwa zawierająca DLC 3 może mieć w przybliżeniu jednolity rozkład wiązań węgiel-węgiel typu sp3 w dużej części jej grubości, tak, że większość warstwy 3 ma w przybliżeniu tą samą gęstość. W innych postaciach wykonania, rozkład wiązań węgiel-węgiel typu sp3 może zmieniać się wzdłuż grubości warstwy 3 (np. gdy różne gazy (gaz) i/lub różne energie są stosowane w osadzaniu wiązką jonową różnych części warstwy). W pewnych przykładowych postaciach wykonania niniejszego wynalazku, w warstwie zawierającej DLC 3 co najmniej około 40% (korzystniej co najmniej około 60%, a najkorzystniej co najmniej około 80% wiązań węgiel-węgiel jest typu wiązań sp3 węgiel-węgiel (w przeciwieństwie do na przykład typu sp2 wiązań węgiel-węgiel). Zatem, w pewnych korzystnych postaciach wykonania, warstwa 3 ma więcej wiązań węgiel-węgiel typu sp3 niż wiązań węgiel-węgiel typu sp2. W pewnych postaciach wykonania wynalazku, warstwa zawierająca DLC 3 ma gęstość od około 2,4 do 3,4 g/cm3, korzystniej od około 2,7 do 3,0 g/cm3.
Fig. 1(b) przedstawia widok przekroju poprzecznego wyrobu powlekanego wytworzonego sposobem według innej postaci wykonania wynalazku. Podczas gdy Fig. 1(a) ilustruje warstwę zawierającą DLC 3 osadzoną bezpośrednio na i w kontakcie z podłożem 1, postać wykonania z Fig. 1(b) ilustruje warstwę zawierającą DLC 3 osadzoną/utworzoną na podłożu 1, ale ponad inną powłoką 4 zawierającą jedną albo więcej warstw; poza tym, postaci wykonania są takie same.
Według postaci wykonania z Fig. 1 (b), pośrednia warstwa (warstwy) 4 mogą być wykonane z albo zawierać, na przykład, materiał wybrany spośród azotku krzemu, tlenku krzemu, warstwy albo układu warstw odbijających podczerwień (IR), warstwy albo układu warstw odbijających promienie nadfioletowe (UV), innej warstwy (warstw) zawierającej DLC, albo jakiegokolwiek innego rodzaju pożądanej warstwy (warstw). W tej postaci wykonania, zaznaczono, że warstwa 3 jest wciąż „na i „osadzona na podłożu 1, i powłoka zawiera teraz zarówno warstwę 3 jak i warstwę (warstwy) 4.
Przykładowe powłoki/warstwy, które można zastosować jako nisko-E albo inną powłokę (powłoki)/warstwę (warstwy) 4 zostały pokazane i/lub opisane w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki o numerach US 5,837,108, US 5,800,933, US 5,770,321, US 5,557,462, US 5,514,476, US 5,425,861, US 5,344,718, US 5,376,455, US 5,298,048, US 5,242,560, US 5,229,194, US 5,188,887 i US 4,960,645, które zostały włączone do niniejszego zgłoszenia patentowego jako odnośniki. Powłoki nisko-E albo kontrolujące promieniowanie słoneczne 4 według tych opisów patentowych, mogą być osadzane poprzez napylanie katodowe na podłożu 1, i następnie warstwa (warstwy) zawierająca DLC 3 mogą być osadzone za pomocą wiązki jonowej na podłożu 1 nad warstwą (warstwami) 4. Każdy z tych opisów patentowych ujawnia co najmniej układ powłok albo warstw odbijający IR, obejmujący warstwę odbijającą IR taką jak Ag, NiCr albo temu podobne. Zatem, na przykład, i w sposób nieograniczający, powłoka 4 może zawierać co najmniej warstwę Ag, warstwę NiCr, i/lub warstwę dielektryczną tak jak azotek krzemu.
W każdej postaci wykonania według Fig. 1(a)-(b), otrzymany wyrób powlekany jest co najmniej o około 30% bardziej przepuszczalny dla światła widzialnego, korzystniej co najmniej o około 65%, jeszcze korzystniej co najmniej o około 70%, a najkorzystniej co najmniej o około 75% bardziej przepuszczalna dla światła widzialnego. Podobnie, warstwa 3 ma taką grubość, że jest ona korzystnie co najmniej o około 70% przepuszczalna dla światła widzialnego, korzystniej co najmniej o około 80%, a najkorzystniej co najmniej o około 90% bardziej przepuszczalna dla światła widzialnego.
PL 204 434 B1
Fig. 3-4 ilustrują przykładowe liniowe albo bezpośrednie źródło wiązki jonowej 25, które może być zastosowane do osadzenia warstwy 3, czyszczenia albo trawienia jonowego podłoża, albo traktowania plazmą powierzchni powłoki zawierającej DLC z H i/lub F według różnych postaci wykonania sposobu według wynalazku. Źródło wiązki jonowej 25 obejmuje wlot gazu/mocy 26, anodę 27, uziemioną część magnesu katody 28, bieguny magnesu 29, i izolatory 30. W pewnych postaciach wykonania jako źródło 25 może być zastosowany 3 kV zasilacz prądu stałego. Liniowe źródło jonowego osadzania umożliwia zasadniczo jednolite osadzanie warstwy 3 zarówno pod względem grubości jak i stechiometrii. Źródło wiązki jonowej 25 jest oparte na znanych bezsiatkowych projektach źródeł jonowych. Źródło jonowe składa się z liniowej powłoki (która jest katodą i jest uziemiona), wewnątrz której leży koncentryczna anoda (która przyjmuje potencjał dodatni). Ta geometria katody-anody i pole magnetyczne 33 powoduje warunki zamkniętego powolnego przemieszczania. Konfiguracja pola magnetycznego jest ponadto przyczyną powstania warstwy anodowej, która umożliwia źródłu liniowej wiązki jonowej pracę bez jakiegokolwiek źródła promieniowania elektronów. Anodowa powierzchnia źródła jonów może także pracować w trybie reaktywnym (np. z tlenem i azotem). Źródło obejmuje metalową obudowę ze szczeliną o kształcie toru bieżni jak pokazano na Fig. 3-4. Wgłębienie obudowy jest uziemione. Anoda jest umieszczona w korpusie katody (jednak jest elektrycznie izolowana) i jest ustawiona dokładnie poniżej szczeliny. Anoda może być połączona z potencjałem dodatnim o wielkości 3000 albo więcej Voltów (V). W pewnych postaciach wykonania obie elektrody mogą być chłodzone wodą. Gazy zasilające/ prekursorowe, opisane w niniejszym zgłoszeniu patentowym, są podawane poprzez wnękę pomiędzy anodą i katodą. Zastosowany gaz (gazy) określają uzupełnienie otrzymanej warstwy 3 osadzonej na sąsiednim podłożu 1.
Źródło liniowej wiązki jonowej 25 zawiera także układ labiryntu, który rozprowadza gaz prekursorowy (np. dimetylosilan; acetylen (to jest C2H2); 3MS (to jest trimetylodisilan); DMS (to jest dichlorodimetylosilan); HMDSO (to jest heksametylodisilooksan); TEOS (to jest tetraetoksysilan), i tak dalej) dosyć równomiernie wzdłuż jego długości zanim rozszerza się wewnętrznie do przestrzeni anodowo-katodowej. Energia elektryczna następnie powoduje rozpad gazu i wytworzenie plazmy w źródle. Jony są usuwane przy energiach rzędu eVc-a/2, gdy napięcie wynosi Vc-a. Wiązka jonowa emanująca ze szczeliny jest w przybliżeniu jednorodna w kierunku wzdłużnym i ma profil gaussowski w kierunku poprzecznym. Przykładowe jony 34 są pokazane na Figurze 4. Można wykonać źródło tak długie jak 0,2 do 4,0 metrów, jednakże źródła o różnych długościach są przewidywane w różnych postaciach wykonania niniejszego wynalazku. Na koniec, warstwa elektronów 35, która jest pokazana na Fig. 4, zamyka obwód, umożliwiając w ten sposób, prawidłowe działanie źródła wiązki jonowej.
W innych postaciach wykonania sposobu według wynalazku, przyrząd albo aparat źródła wiązki jonowej, taki jak opisany i pokazany na Fig. 1-3 z opisu patentowego nr US 6,002,208 (włączonego w całej rozciągłości do niniejszego zgłoszenia patentowego jako odnośnik) może być zastosowany do osadzenia/utworzenia warstwy zawierającej DLC 3 na podłożu 1 według postaci wykonania sposobu według wynalazku z Fig. 1 albo Fig. 2. Może być zastosowane jedno albo wiele takich urządzeń źródłowych wiązki jonowej. W pewnych przykładowych postaciach wykonania, źródło wiązki jonowej (takie samo jak zastosowane do osadzenia warstwy 3, albo inne) może być zastosowane do trawienia jonowego podłoża 1 (np. przy użyciu gazowego Ar) przed osadzeniem warstwy 3.
Odnosząc się do Fig. 1 i 3-4, przykładowy sposób osadzania warstwy 3 na podłożu 1 będzie teraz opisany w odniesieniu do postaci wykonania sposobu według wynalazku z Fig. 1(a). Ten sposób jest podany jedynie w celach przykładowych, i nie przyjmuje charakteru ograniczającego.
Przed utworzeniem układu powłok 5 na podłożu szklanym 1, górna powierzchnia podłoża 1 może być oczyszczona albo trawiona jonowo przez pierwsze liniowe albo bezpośrednie źródło wiązki jonowej. Na przykład, wyładowanie jarzeniowe w gazowym argonie (Ar) albo mieszaninach Ar/O2 (inaczej plazma CF4) może być zastosowane do usunięcia jakichkolwiek zanieczyszczeń na powierzchni podłoża. Takie oddziaływania mają naturę fizykochemiczną. To czyszczenie powoduje powstanie wolnych rodników na powierzchni podłoża, które następnie mogą reagować z innymi monomerami, dając powierzchnie podłóż o specjalnych właściwościach. Zastosowana moc może wynosić 100-300 Watów. Podłoże 1 może być także oczyszczone przez, na przykład, oczyszczanie podłoża przez rozpylanie przed zasadniczym osadzeniem układu powłok 5; przy użyciu atomów tlenu i/lub węgla o energii jonów od około 800 do 1200 eV, najkorzystniej około 1000 eV.
Po oczyszczeniu, proces osadzania zaczyna się przy użyciu techniki osadzania z liniowym źródłem jonów przy zastosowaniu drugiego źródła wiązki jonów jak pokazano na Fig. 3-4 albo w Fig. 1-3 z opisu patentowego nr US 6,002,208, przenośnik przenosi oczyszczone podłoże 1 z pierwszego źró6
PL 204 434 B1 dła na pozycję pod drugim źródłem. Drugie źródło wiązki jonowej działa osadzając warstwę zawierającą DLC 3 na podłożu 1 jako gaz, tak, że co najmniej C2H2 jest podawany przez źródło, tak że źródło wydala jony konieczne do utworzenia warstwy 3 na podłożu 1. Gazowy C2H2 można stosować sam, albo z jednym albo więcej innymi gazami (gazem) (albo inny gaz (gazy) może być zastosowany zamiast tego, taki jak etan, metan, butan, cykloheksan, i/lub ich mieszaniny). Acetylen jako gaz zasilający (C2H2) jest stosowany w pewnych postaciach wykonania do osadzenia warstwy 3 w celu zapobieżenia albo zmniejszenia/zredukowania polimeryzacji, i/lub w celu otrzymania odpowiedniej energii aby umożliwić jonom penetrację powierzchni podłoża 1 i dotarcia do niego. Optymalny zakres energii jonów dla większości warstw 3 wynosi od około 100-2000 eV na jon węgla. Przy tych energiach, węgiel w otrzymanej warstwie 3 emuluje diament, i tworzy wiązania C-C typu sp3.
Podczas gdy technika osadzania bezpośrednią wiązką jonów jest korzystna w pewnych postaciach wykonania, inne procesy osadzania mogą także być zastosowane w różnych postaciach wykonania. Na przykład, w celu osadzenia warstwy 3 można zastosować technikę filtrowanej, próżniowej, katodowej wiązki jonów o kształcie łuku.
Odnosząc się teraz do Fig. 2, stwierdzono zaskakująco, że polerowanie (to jest mechaniczne szlifowanie albo polerowanie) warstwy zawierającej DLC 3 po jej osadzeniu na podłożu 1 (zarówno w postaci wykonania z Fig. 1(a) albo Fig. 1(b)) powoduje otrzymanie wyrobu powlekanego mającego poprawioną odporność na zarysowanie (SR).
Zatem, jak pokazano na Fig. 2, etapy według sposobu według wynalazku obejmują osadzenie warstwy zawierającej DLC 3 na podłożu 1 (patrz. Fig. 1) w etapie S1, i następnie polerowanie warstwy 3 w etapie S2, co powoduje ulepszenie SR.
P r z y k ł a d y
Przykłady opisane poniżej ilustrują, że polerowanie warstwy zawierającej DLC poprawia charakterystyki SR otrzymanego wyrobu powlekanego. Każdy z poniższych przykładów dotyczy postaci wykonania z Fig. 1(a), gdzie warstwa DLC 3 została osadzona wiązką jonową bezpośrednio na podłożu. W przykładach 1, 2 i 3 zastosowano polerowanie warstwy zawierającej DLC 3 po jej osadzeniu za pomocą wiązki jonów, podczas gdy w przykładach porównawczych 1a, 2a i 3a nie zastosowano takiego polerowania warstwy DLC 3 i dlatego takie warstwy wykazywały mniej pożądane charakterystyki SR. Odporność na zarysowanie (SR) przedstawiona w poniższej tabeli była mierzona dla każdego przykładu jako średnia z pięciu różnych pomiarów, wszystkie pomiary wykonano w temperaturze 22,2°C (72 F) przy 50% wilgotności w pomieszczeniu. SR mierzono w skali 1-7 po wykonaniu próby zarysowania otrzymanego wyrobu powlekanego kawałkiem szkła sodowo-wapniowo-krzemowego, gdzie im wyższa wartość tym bardziej odporna na ścieranie była warstwa 3 (to jest dla SR: 1 oznacza łatwo dające się zarysować, tak jak surowe szkło: 6 oznacza dosyć odporne na ścieranie; i 7 oznacza nie dające się zarysować za pomocą okrągłego kawałka szkła sodowo-wapniowo-krzemowego). Pomiary SR wykonano przed wystawieniem wyrobów powlekanych na istotne czynniki środowiskowe, takie jak UV, deszcz, i temu podobne. W każdym przykładzie, zastosowano przezroczyste szklane podłoże 1 o grubości 2 mm, i o rozmiarze 6'' na 6''. Wszystkie podłoża 1 umyto detergentem neutralnym (Shaklee-basic H) i wysuszono na powietrzu. W każdym z przykładów, warstwa DLC 3 była osadzana przy użyciu pojedynczego przebiegu wiązki jonów z szybkością liniową 2,54 m/min (100 cali/minutę), 145 sccm gazowego acetylenu, 2970 voltów i 0,57-0,59 amperów. Pewne przykłady poddano obróbce wstępnej (pre-treat) poprzez tarcie podłoża szklanego 1 przez około 10 sekund za pomocą drelichowej szmatki przed osadzeniem warstwy DLC 3. W pewnych przykładach zastosowano trawienie jonowe (Pre-mill) podłoża szklanego 1, 3 przebiegami wiązki jonów po obróbce wstępnej ale przed osadzeniem warstwy DLC 3; gdzie trawienie jonowe przeprowadzono z liniową szybkością 2,54 m/min (100 cali/minutę), przy zastosowaniu 100 sccm gazowego Ar, przy 2970 voltach, 0,33 amperach. Gdy warstwa DLC 3 była polerowana, wykonano to ręcznie przez około 10 s przy użyciu drelichowej szmatki.
Przykład obróbka wstępna? trawienie jonowe? grubość warstwy DLC 3 polerowanie warstwy DLC 3 SR
1 2 3 4 5 6
1 tak tak 1,718 nm (17,18 A) tak 5,8
1a tak tak 1,718 nm (17,18 A) nie 5,2
2 nie tak 1,718 nm (17,18 A) tak 6,6
PL 204 434 B1 cd. tabeli
1 2 3 4 5 6
2a nie tak 1,718 nm (17,18 A) nie 6,0
3 tak nie 1,469 nm (14,69 A) tak 6,6
3a tak nie 1,469 nm (14,69 A) nie 6,0
4 nie nie 1,469 nm (14,69 A) tak 7,0
4a nie nie 1,469 nm (14,69 A) nie 6,6
Na podstawie powyższych danych można stwierdzić, że polerowanie warstwy DLC 3 poprawia odporność na zarysowanie (SR). W przykładach 1-4, warstwa DLC 3 była polerowana, podczas gdy w przykładach porównawczych 1a-4a warstwa DLC 3 nie była polerowana. Uwaga: przykłady 1 i 1a należy porównywać ze sobą, ponieważ jedyną różnicą pomiędzy nimi jest to, że warstwa DLC 3 była polerowana, podczas gdy przykłady 2 i 2a są przeznaczone do porównania ze sobą, gdyż jedyną różnicą pomiędzy nimi jest to, że warstwa DLC 3 była polerowana, przykłady 3 i 3a należy porównać ze sobą, ponieważ jedyną różnicą pomiędzy nimi jest to, że warstwa DLC 3 była polerowana, i przykłady 4 i 4a należy porównać ze sobą ponieważ jedyną różnicą pomiędzy nimi jest to, że warstwa DLC 3 była polerowana. Można zauważyć, że polerowanie warstwy DLC powoduje poprawienie SR o około 0,6 (np. w przykładzie 1 SR wynosiło 5,8 z polerowaniem DLC, i jedynie 5,2 bez polerowania DLC).
W pewnych postaciach wykonania według niniejszego wynalazku, polerowanie (np. szlifowanie) przeprowadzono na warstwie 3. w takim stopniu, że SR jest ulepszone o co najmniej 3%, korzystniej o co najmniej 5%, korzystniej co najmniej 8%, a najkorzystniej co najmniej 10%. Na przykład w powyższym przykładzie 1 (vs. 1a), polerowanie warstwy DLC 3 poprawia SR o około 11,54% (to jest 0,6/5,2 = 0,1154); i w powyższym przykładzie 2 (vs. 2a) polerowanie warstwy DLC 3 poprawia SR o około 10% (to jest 0,6/6=0,1).
Podczas gdy każdy z powyższych przykładów niniejszego wynalazku wymaga zastosowania DLC w warstwie 3, niniejszy wynalazek nie jest w ten sposób ograniczony. W szczególności, niniejszy wynalazek może być zastosowany do poprawienia odporności na zarysowanie w innych typach warstw (warstwy) albo powłok poprzez ich polerowanie.
Zatem, podczas gdy polerowanie warstwy 3 przeprowadzono powyżej za pomocą drelichowej szmatki, niniejszy wynalazek nie jest w ten sposób ograniczony. Zamiast tego, w innych postaciach wykonania, mogą być zastosowane inne sposoby polerowania. Na przykład polerowanie warstwy 3 może być przeprowadzone przy użyciu szczotki nylonowej (np. ręcznie albo przy zastosowaniu urządzenia mechanicznego, takiego jak wiertarka pionowa), szmatki bawełnianej, z albo bez roztworu czyszczącego takiego jak woda i/lub mydło, albo w jakikolwiek inny, odpowiedni sposób. W jakimkolwiek wypadku, w pewnych postaciach niniejszego wynalazku, polerowanie (np. szlifowanie) jest przeprowadzane na warstwie 3 w takim stopniu, że SR jest poprawione o co najmniej 3%, korzystniej o co najmniej 5%, korzystniej co najmniej 8%, a najkorzystniej co najmniej 10%.

Claims (14)

1. Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego obejmujący osadzanie powłoki zawierającej węgiel typu diamentu (DLC) na podłożu, znamienny tym, że dodatkowo przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odporności na zarysowanie zwiększonej o co najmniej 3%.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odporności na zarysowanie zwiększonej o co najmniej 5%.
3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odporności na zarysowanie zwiększonej o co najmniej 8%.
4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że przeprowadza się polerowanie powłoki zawierającej DLC z wytworzeniem powłoki o odporności na zarysowanie zwiększonej o co najmniej 10%.
5. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że powłoka posiada początkowo kąt zwilżania θ co najmniej 80 stopni, i średnią twardość co najmniej 10 GPa.
6. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że po przeprowadzeniu polerowania powłoka posiada kąt zwilżania θ mniejszy albo równy 15 stopniom, i średnią twardość co najmniej 10 GPa.
PL 204 434 B1
7. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że po przeprowadzeniu polerowania powłoka posiada kąt zwilżania θ mniejszy albo równy 10 stopniom, i średnią twardość co najmniej 20 GPa.
8. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, ż e powłoka zawiera, co najmniej jedną warstwę zawierającą DLC, która ma więcej wiązań węgiel-węgiel typu sp3 niż wiązań węgiel-węgiel typu sp2.
9. Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, ż e warstwa zawierają ca DLC jest warstwą , na której przeprowadza się powyższe polerowanie.
10. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC posiada gęstość od 2,4 do 3,4 g/cm3.
11. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że warstwa zawierająca DLC posiada gęstość od 2,7 do 3,0 g/cm3.
12. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że polerowanie przeprowadza się przy użyciu co najmniej jednej szmatki drelichowej i szczotki nylonowej.
13. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że powłoka zawiera ponadto warstwę zawierającą co najmniej jeden z Ag i NiCr umieszczony na podłożu pomiędzy podłożem i warstwą zawierającą DLC.
14. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że podłoże obejmuje szkło.
PL371768A 2001-11-28 2002-11-25 Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego PL204434B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/994,922 US6610360B2 (en) 2001-11-28 2001-11-28 Buffing diamond-like carbon (DLC) to improve scratch resistance

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL371768A1 PL371768A1 (pl) 2005-06-27
PL204434B1 true PL204434B1 (pl) 2010-01-29

Family

ID=25541223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL371768A PL204434B1 (pl) 2001-11-28 2002-11-25 Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6610360B2 (pl)
EP (1) EP1451118B1 (pl)
AU (1) AU2002352889A1 (pl)
CA (1) CA2466639C (pl)
DE (1) DE60232909D1 (pl)
ES (1) ES2329989T3 (pl)
PL (1) PL204434B1 (pl)
WO (1) WO2003046252A2 (pl)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6368664B1 (en) * 1999-05-03 2002-04-09 Guardian Industries Corp. Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon
US6770321B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-03 Afg Industries, Inc. Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings
EP1375445A1 (fr) * 2002-06-17 2004-01-02 Glaverbel Procédé de fabrication d'un vitrage pourvu d'un revêtement multicouche
US8220489B2 (en) 2002-12-18 2012-07-17 Vapor Technologies Inc. Faucet with wear-resistant valve component
US7866343B2 (en) 2002-12-18 2011-01-11 Masco Corporation Of Indiana Faucet
US8555921B2 (en) 2002-12-18 2013-10-15 Vapor Technologies Inc. Faucet component with coating
US7866342B2 (en) 2002-12-18 2011-01-11 Vapor Technologies, Inc. Valve component for faucet
WO2005024880A2 (en) * 2003-09-03 2005-03-17 Guardian Industries Corp. Floating mode ion source
US7387816B2 (en) * 2003-12-15 2008-06-17 Guardian Industries Corp. Scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s), and method of making article using combustion CVD
US7445273B2 (en) * 2003-12-15 2008-11-04 Guardian Industries Corp. Scratch resistant coated glass article resistant fluoride-based etchant(s)
US7455883B2 (en) * 2004-10-19 2008-11-25 Guardian Industries Corp. Hydrophilic DLC on substrate with flame pyrolysis treatment
JP2006305713A (ja) * 2005-03-28 2006-11-09 Nikon Corp 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法
US20060246218A1 (en) * 2005-04-29 2006-11-02 Guardian Industries Corp. Hydrophilic DLC on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment
JP2007297592A (ja) * 2006-04-04 2007-11-15 Nissan Motor Co Ltd 低摩擦摺動機構
GB2451060B (en) * 2007-07-11 2013-01-09 Diameter Ltd Dual coatings applied to medical devices
US8003164B2 (en) * 2008-09-19 2011-08-23 Guardian Industries Corp. Method of making a scratch-and etch-resistant coated glass article
US8691337B2 (en) * 2009-02-23 2014-04-08 Guardian Industries Corp. Techniques for applying mar reducing overcoats to articles having layer stacks disposed thereon
US8541792B2 (en) 2010-10-15 2013-09-24 Guardian Industries Corp. Method of treating the surface of a soda lime silica glass substrate, surface-treated glass substrate, and device incorporating the same
TWI554633B (zh) * 2010-12-13 2016-10-21 財團法人金屬工業研究發展中心 類鑽碳膜及其製作方法
DE102011076410A1 (de) * 2011-05-24 2012-11-29 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Maschinenelement
DE102012020191B4 (de) * 2012-10-10 2017-05-18 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Verfahren zur Oberflächenbearbeitung von Beschichtungen aus hartem Kohlenstoff, die auf Substraten ausgebildet sind
CN105908125A (zh) * 2015-02-23 2016-08-31 Toto株式会社 用水场所用构件
FR3032958B1 (fr) 2015-02-24 2017-02-17 Saint Gobain Vitrage comprenant un revetement protecteur.
CN106796863B (zh) * 2015-04-08 2018-08-07 新明和工业株式会社 通过离子照射进行的包覆件的除膜方法及除膜装置
CN108315701A (zh) * 2017-01-16 2018-07-24 中国南玻集团股份有限公司 镀膜基材以及离子束源沉积制备镀膜基材的方法
CN117303745B (zh) * 2023-11-29 2024-04-02 龙焱能源科技（杭州）有限公司 低温制备减反射膜的方法及装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5527596A (en) 1990-09-27 1996-06-18 Diamonex, Incorporated Abrasion wear resistant coated substrate product
US5637353A (en) 1990-09-27 1997-06-10 Monsanto Company Abrasion wear resistant coated substrate product
JP2929779B2 (ja) 1991-02-15 1999-08-03 トヨタ自動車株式会社 炭素被膜付撥水ガラス
US5718976A (en) 1991-05-03 1998-02-17 Advanced Refractory Technologies, Inc. Erosion resistant diamond-like nanocomposite coatings for optical components
US5470661A (en) * 1993-01-07 1995-11-28 International Business Machines Corporation Diamond-like carbon films from a hydrocarbon helium plasma
US5888593A (en) 1994-03-03 1999-03-30 Monsanto Company Ion beam process for deposition of highly wear-resistant optical coatings
FR2722493B1 (fr) 1994-07-13 1996-09-06 Saint Gobain Vitrage Vitrage hydrophobe multicouches
US5770321A (en) 1995-11-02 1998-06-23 Guardian Industries Corp. Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom
US5858477A (en) 1996-12-10 1999-01-12 Akashic Memories Corporation Method for producing recording media having protective overcoats of highly tetrahedral amorphous carbon
US6046758A (en) 1998-03-10 2000-04-04 Diamonex, Incorporated Highly wear-resistant thermal print heads with silicon-doped diamond-like carbon protective coatings
US6447891B1 (en) * 1999-05-03 2002-09-10 Guardian Industries Corp. Low-E coating system including protective DLC
US6277480B1 (en) 1999-05-03 2001-08-21 Guardian Industries Corporation Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method
US6261693B1 (en) 1999-05-03 2001-07-17 Guardian Industries Corporation Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass
US6284377B1 (en) 1999-05-03 2001-09-04 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6303225B1 (en) 2000-05-24 2001-10-16 Guardian Industries Corporation Hydrophilic coating including DLC on substrate
US6273488B1 (en) * 1999-05-03 2001-08-14 Guardian Industries Corporation System and method for removing liquid from rear window of a vehicle
US6280834B1 (en) 1999-05-03 2001-08-28 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate
FR2800998B1 (fr) * 1999-11-17 2002-04-26 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US6171646B1 (en) * 1999-12-09 2001-01-09 Engineered Glass Products, Llc Method for making an abrasion and scratch resistant coated glass article

Also Published As

Publication number Publication date
PL371768A1 (pl) 2005-06-27
US20030099835A1 (en) 2003-05-29
US6610360B2 (en) 2003-08-26
DE60232909D1 (de) 2009-08-20
WO2003046252A3 (en) 2003-12-18
ES2329989T3 (es) 2009-12-03
EP1451118B1 (en) 2009-07-08
AU2002352889A8 (en) 2003-06-10
CA2466639C (en) 2010-04-06
WO2003046252A2 (en) 2003-06-05
AU2002352889A1 (en) 2003-06-10
EP1451118A2 (en) 2004-09-01
CA2466639A1 (en) 2003-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL204434B1 (pl) Sposób wytwarzania wyrobu powlekanego
US6638570B2 (en) Method of making coated article including layer(s) of diamond-like carbon which may be hydrophobic
KR101170037B1 (ko) 소수성 표면과 개선된 소수 특성의 내구성을 갖는 유리 기판과 같은 기판 및 그 제조방법
US6592992B2 (en) Hydrophilic coating including DLC
US6793979B2 (en) Hydrophilic DLC on substrate with UV exposure
US6312808B1 (en) Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate
EP1899496B1 (en) Hydrophilic dlc on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment
US7052585B2 (en) Coated article including titanium oxycarbide and method of making same
US6878403B2 (en) Method of ion beam treatment of DLC in order to reduce contact angle
CA2519136C (en) Hydrophilic dlc on substrate with oxygen and/or hot water treatment
US6491987B2 (en) Process for depositing DLC inclusive coating with surface roughness on substrate
JP2003514746A (ja) 基材上にｄｌｃを含む疎水性コーティング
PL211099B1 (pl) Sposób formowania warstwy zawierającej węgiel typu diamentu (DLC) na podłożu, wyrób powlekany obejmujący węgiel typu diamentu DLC i sposób wytwarzania wyrobu powlekanego
US7455883B2 (en) Hydrophilic DLC on substrate with flame pyrolysis treatment

Legal Events

Date Code Title Description
RECP Rectifications of patent specification