PL179882B1 - Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy PL PL - Google Patents

Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy PL PL

Info

Publication number
PL179882B1
PL179882B1 PL95318349A PL31834995A PL179882B1 PL 179882 B1 PL179882 B1 PL 179882B1 PL 95318349 A PL95318349 A PL 95318349A PL 31834995 A PL31834995 A PL 31834995A PL 179882 B1 PL179882 B1 PL 179882B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
gas
section
liquid
column
contacting
Prior art date
Application number
PL95318349A
Other languages
English (en)
Other versions
PL318349A1 (en
Inventor
Anton Matthijs Danckaarts
Enno Frank Wijn
Original Assignee
Shell Int Research
Shell Internationale Research Maatschappij Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shell Int Research, Shell Internationale Research Maatschappij Bv filed Critical Shell Int Research
Publication of PL318349A1 publication Critical patent/PL318349A1/xx
Publication of PL179882B1 publication Critical patent/PL179882B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D3/00Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/14Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
    • B01D3/16Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
    • B01D3/18Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid with horizontal bubble plates
    • B01D3/20Bubble caps; Risers for vapour; Discharge pipes for liquid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

1. Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy, gdzie gaz przemieszcza sie ku górze a ciecz plynie w dól, skladajaca sie z poziomej tacy z plyta zaopa- trzona w rurowe urzadzenie do kontaktowania gazu z ciecza, które zawiera sekcje kontaktowania umie- szczona ponizej plyty, sekcje rozdzielania powyzej sekcji kontaktowania ora z sekcje wylotowa powy- zej sekcji oddzielania, znajdujaca sie zarazem nad plyta, zn am ien n a tym , ze sekcja kontaktowania (12) jest zam knieta od dolu zas jej scianki zaopa- trzone sa w styczne wloty (16) gazu, a ponadto otwarty koniec rury (19) dostarczajacej ciecz, majacej forme przewodu opadowego biegnacego w dól przez rurowe urzadzenie (10) do kontakto- wania gazu z ciecza, znajduje sie w dolnej czesci sekcji kontaktowania (12), natomiast sekcja wy- lotowa (15) zaopatrzona jest w scianki przepusz- czajace gaz, zawierajace elementy (25) do ko- alescencji, przy czym góra sekcji wylotowej (15) zaopatrzona jest w pokrywe (27). PL PL

Description

Przedmiotem wynalazkujest kolumna do kontaktowania gazu i cieczy, gdzie gaz przemieszcza się ku górze a ciecz płynie w dół, w celu przekazania masy, ciepła i pędu między tymi fazami. Kolumny do kontaktowania gazu i cieczy są dobrze znane i znajdują one zastosowanie przykładowo w procesie destylacji, rektyfikacji, absorpcji i odpędzania rozpuszczalnika.
Zgodnie ze specyfikacją nie ma różnicy między gazem a oparem. Słowo „gaz” odnosi się również do oparu.
Kolumna do kontaktowania gazu przemieszczającego się ku górze z płynącą w dół cieczą zaopatrzona jest zazwyczaj we wlot gazu umieszczony w dolnej części kolumny, we wlot cieczy znajdujący się w górnej części kolumny, w wylot cieczy na dole kolumny i w wylot gazu na górze kolumny. Na ogół znaleźć można tylko jeden wylot gazu umieszczony na górze kolumny, jednakże kolumna taka zaopatrzona być może w większą liczbę wlotów cieczy i gazu oraz wylotów cieczy. Ich ilość oraz rozmieszczenie uzależnione są od zastosowania.
179 882
W kolumnie umieszczona jest przynajmniej jedna pozioma taca, na której odbywa się kontaktowanie gazu z ciecząw trakcie normalnego działania. Przykładem takiej tacy jest perforowana płyta zaopatrzona w przewód opadowy.
W trakcie normalnego działania kolumny zaopatrzonej w perforowaną płytę z przewodem opadowym ciecz dostarczana jest stale na powierzchnię tej płyty tworząc na niej warstwę. Gaz przedostający się przez otwory w perforowanej płycie kontaktowany jest z ciecząna płycie. Nadmiar cieczy wycofywany jest z płyty za pośrednictwem przewodu opadowego, po czym dostarczany jest na następną, niżej położonąperforowanąpłytę, gdzie następuje dalsze kontaktowanie. W przypadku dotarcia cieczy do najniżej położonej płyty perforowanej przepływa ona niżej na dno kolumny, skąd odprowadzana jest przez wylot cieczy. Gaz wydostający się z warstwy cieczy przedostaje się w górę do następnej, wyżej położonej płyty perforowanej, gdzie następuje dalsze kontaktowanie. Po osiągnięciu najwyżej położonej płyty perforowanej gaz przedostaje się do górnego końca kolumny, skąd odprowadzany jest za pośrednictwem wylotu gazu.
Niniejszy wynalazek odnosi się w szczególności do kolumny do kontaktowania gazu i cieczy, w przypadku której poziomą tacę stanowi płyta zaopatrzona w rurowe urządzenie do kontaktowania gazu z cieczą. Urządzenie to składa się z sekcji kontaktowania położonej poniżej tej płyty, sekcji oddzielania nad sekcją kontaktowania i sekcji wylotowej nad sekcją oddzielania, położonej zarazem ponad płytą, przy czym sekcja kontaktowania jest zamknięta od dołu, zaś jej ścianki zaopatrzone sąw pewną liczbę stycznych wlotów gazu, a ponadto otwarty koniec rury dostarczającej ciecz znajduje się w dolnej części sekcji kontaktowania, natomiast sekcja wylotowa zaopatrzona jest w ścianki przepuszczające gaz, zawierające elementy do przeprowadzania koalescencji.
Urządzenie takie ujawnione zostało w Wielkiej Brytanii w opisie patentowym nr 1 123 546. W znanym urządzeniu, ścianki sekcji wylotowej przepuszczające gaz i zaopatrzone w elementy do przeprowadzania koalescencji stanowią dwie koncentryczne warstwy metalowej siatki rozciąganej, zaś sekcja wylotowa jest otwarta na górze.
W trakcie normalnego działania gaz przedostający się ku górze trafia za pośrednictwem stycznych wlotów gazu do wnętrza sekcji kontaktowania wewnątrz rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, zaś ciecz dostarczana jest przez rurę dostarczającą ciecz do dolnej części sekcji kontaktowania. Ciecz, dostając się do sekcji kontaktowania, rozpraszana jest przez wirujący gaz i w takiej rozproszonej formie kontaktowana jest ona z gazem. Wirujący płyn dostaje się do wnętrza sekcji oddzielania wewnątrz rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą. W sekcji tej ciecz przemieszcza się do zewnątrz pod wpływem działania siły odśrodkowej, po czym zbierana jest ona na wewnętrznej powierzchni ścianek sekcji rozdzielania. Gaz i ciecz dostają się do wnętrza sekcji wylotowej, po czym gaz wydostaje się stamtąd przez otwarty górny koniec urządzenia do kontaktowania, zaś ciecz ulega procesowi koalescencji na metalowej siatce rozciąganej, skąd ścieka na płytę.
Jako że góra sekcji wylotowej jest otwarta, duża ilość cieczy może zostać porwana w formie kropelek przez gaz wydostający się górą z tej sekcji.
Dla zredukowania procesu porywania przedstawione zostało ulepszone urządzenie rurowe do kontaktowania gazu z cieczą, zaprezentowane w pracy „Mathematical description and analysis of mass transfer mechanics in contact equipment with vortical concurrent stream flow” („Matematyczny opis i analiza mechaniki przenikania masy w aparaturze kontaktowej z wirowym zbieżnym przepływem strumienia”) autorstwa N. I. Saval’eva i N.A. Nikolaeva, Kiron Kazan Chemical Technology Institute, tłumaczone z Teoreticheskie Osnovy Khimicheskoi Tekhnologii, t. 23, nr 4, strony 435-444, lipiec-sierpień 1989.
W przypadku tego drugiego urządzenia rurowego do kontaktowania gazu z cieczą, ścianki przepuszczające gaz i zaopatrzone w elementy do koalescencji stanowi rura o otwartych końcach i cylindrycznych ściankach, zaopatrzona w styczne wyloty, a ponadto pierścieniowy deflektor w kształcie litery U, umieszczony powyżej górnego końca rury o otwartych końcach, który to deflektor zaopatrzony jest w osłonę biegnącą nad stycznymi wylotami do zbierania cieczy. Dzięki temu, w czasie normalnego działania część strumienia gazu przemieszczającego się ku górze jest odchylana, zaś ciecz porywana przez gaz jest od niego oddzielana..
179 882
Część cieczy zbiera się na centralnej rurze dostarczającej ciecz, po czym ciecz ta jest wydmuchiwana i porywana przez centralną część masy unoszącego się gazu. Jako że ten strumień gazu nie jest odchylany przez pierścieniowy deflektor w kształcie litery U, część cieczy nadal wydostaje się z otwartej sekcji wylotowej wraz z gazem. Dlatego też oddzielanie gazu od cieczy nie przebiega całkowicie skutecznie.
Kolumna według wynalazku charakteryzuje się tym, że sekcja kontaktowania jest zamknięta od dołu zaś jej ścianki zaopatrzone są w styczne wloty gazu, a ponadto otwarty koniec rury dostarczającej ciecz, mającej formę przewodu opadowego biegnącego w dół przez rurowe urządzenie do kontaktowania gazu z cieczą, znajduje się w dolnej części sekcji kontaktowania, natomiast sekcja wylotowa zaopatrzona jest w ścianki przepuszczające gaz, zawierające elementy do koalescencji, przy czym góra sekcji wylotowej zaopatrzona jest w pokrywę.
Zgodnie z korzystnym rozwiązaniem, ścianki sekcji wylotowej przepuszczające gaz i zaopatrzone w elementy do koalescencji stanowi rurowa warstwa materiału przeprowadzającego proces koalescencji, przy czym wewnętrzna średnica warstwy rurowej jest równa lub większa od zewnętrznej średnicy sekcji oddzielania. Wielkość wewnętrznej średnicy warstwy rurowej jest dobrana w taki sposób, żeby ciecz zebrana w rurowej warstwie materiału przeprowadzającego koalescencję mogła ściekać na zewnątrz rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą oraz na płytę.
Korzystnie materiał przeprowadzający koalescencję stanowi warstwa metalowej siatki rozciąganej, którąjest cienka blacha metalu poprzecinana i rozciągnięta do uzyskania siatki. Korzystniejsze jest zastosowanie w ramach materiału przeprowadzającego koalescencję przynajmniej dwóch koncentrycznych warstw metalowej siatki rozciąganej.
Dla usprawnienia oddzielania cieczy od gazu przedostających się przez ścianki sekcji wylotowej przepuszczające gaz zaopatrzona jest ona dodatkowo w dwie lub więcej taśm do koalescencji, umieszczonych w regularnych odstępach wzdłuż zewnętrznej powierzchni ścianek przepuszczających gaz, zaopatrzonych w elementy do koalescencji.
Każdy styczny wlot gazu zawiera występ zagięty do wewnątrz sekcji kontaktowej, przy czym wysokość tego występu jest niewielka w porównaniu z wysokością sekcji kontaktowej. Ponadto styczne wloty gazu umieszczone są jeden nad drugim w kolumnie.
Zgodnie z korzystnym rozwiązaniem sekcja kontaktowania zaopatrzona jest w dwie lub więcej takich kolumn stycznych wlotów gazu, przy czym kolumny te rozmieszczone sąw regularnych odstępach wzdłuż obwodu sekcji kontaktowania.
W porównaniu do znanych urządzeń, gdzie sekcja kontaktowania zaopatrzona była w pewną liczbę wydłużonych stycznych wlotów na gaz, umieszczonych w regularnych odstępach wzdłuż obwodu sekcji kontaktowania. Każdy styczny wlot gazu zawierał wydłużoną taśmę zgiętą do wewnątrz sekcji kontaktowania, przy czym wysokość taśmy równała się w przybliżeniu wysokości sekcji kontaktowania. Strumień unoszącego się gazu dostający się do sekcji kontaktowania był odchylany, zaś prędkość gazu wewnątrz sekcji kontaktowania zawierała składnik w kierunku osiowym oraz składnik w kierunku okrężnym. Wartość prędkości w kierunku osiowym wyznacza czas, w którym gaz kontaktowany jest z cieczą. Czas kontaktowania jest odwrotnie proporcjonalny do wartości prędkości w kierunku osiowym. Dla zmniejszenia wartości prędkości w kierunku osiowym, wydłużone styczne wloty gazu zastępowane są w zgłoszonym rozwiązaniu pewną liczbą stycznych wlotów rozmieszczonych w kolumnach.
Wynalazek zostanie teraz opisany bardziej szczegółowo w przykładzie wykonania w oparciu o załączony rysunek, pokazujący schematycznie przekrój kolumny według wynalazku. Kolumna 1 do kontaktowania unoszącego się gazu ze spływającą cieczą zgodnie z wynalazkiem zaopatrzona jest we wlot (nie pokazany na rysunku) gazu umieszczony w dolnej części kolumny 1, wlot (nie pokazany na rysunku) cieczy położony w górnej części kolumny 1, wlot (nie pokazany na rysunku) cieczy w dolnej części kolumny 1 oraz wylot (nie pokazany na rysunku) gazu na górze kolumny 1.
W kolumnie 1 umieszczone są dwie poziome tace, górna pozioma taca 3 i dolna pozioma taca 5. Poziome tace 3 i 5 znajdują się między najniżej położonym wlotem gazu a wylotem gazu.
179 882
Górnąpoziomątacę 3 stanowi pozioma płyta 6 zaopatrzona w dwa pionowe rurowe urządzenia 8 do kontaktowania gazu z cieczą, przechodzące przez otwory w płycie 6, zaś dolnąpoziomątacę 5 stanowi pozioma płyta 7, zaopatrzona w jedno pionowe rurowe urządzenie 10 do kontaktowania gazu z cieczą, przechodzące przez otwór w płycie 7.
Każde z rurowych urządzeń 8 i 10 do kontaktowania gazu z cieczą zawiera sekcję kontaktowania 12, sekcję oddzielania 13, umieszczonąpowyżej sekcji kontaktowania 12, oraz sekcję wylotową 15, położoną powyżej sekcji oddzielania 13. Sekcje kontaktowania ] 2 rurowych urządzeń 8 umieszczone są poniżej płyty 6, zaś sekcje wylotowe 15 znajdują się powyżej tej płyty, natomiast sekcja kontaktowania 12 rurowego urządzenia 10 położona jest poniżej płyty 7, zaś sekcja wylotowa 15 powyżej tej płyty· Sekcja kontaktowania 12, sekcja oddzielania 13 i sekcja wylotowa 15 połączone są ze sobą poprzez komunikację płynów.
Ścianki sekcji kontaktowania 12 zaopatrzone są w pewną, ilość stycznych wlotów 16 gazu. Każdy z tych wlotów zawiera występ zagięty do wnętrza sekcji kontaktowania 12, przy czym wysokość tego występu jest niewielka w zestawieniu z wysokością sekcji kontaktowania 12. Styczne wloty 16 gazu rozmieszczone są przy tym jeden nad drugim w kolumnie 17. Dla zachowania jasności nie wszystkie styczne wloty gazu zaopatrzone zostały w numer, zaś występy nie posiadajątakich numerów w ogóle. Wysokość występu jest korzystnie mniejsza od 10 procent długości sekcji kontaktowania 12. Sekcja kontaktowania 12 jest zamknięta na dole za pomocą pokrywy 18. Otwarte zakończenie rury 19 dostarczającej ciecz znajduje się na dole sekcji kontaktowania 12. Rury 19 dostarczające ciecz, wchodzące w skład urządzeń 8 do kontaktowania gazu z cieczą, łączą się z przewodami zasilającymi 20, zaopatrzonymi w otwory wlotowe 12, których otwarte końce znajdują się powyżej płyty 6. Rura 19 dostarczająca ciecz, wchodząca w skład urządzenia 10 do kontaktowania gazu z cieczą, jest przewodem opadowym 23, biegnącym przez otwór w płycie 6 od następnej, wyżej położonej tacy 3, w dół przez urządzenie 10. Przewód 23 zaopatrzony jest we wlot 24, położony powyżej otworów wlotowych 21.
Sekcja wylotowa 15 zawiera ścianki przepuszczające gaz, zaopatrzone w elementy 25 do koalescencji. Na górze sekcji wylotowej 15 znajduje się pokrywa 27.
Ścianki przepuszczające gaz, zaopatrzone w elementy 25 do koalescencji, stanowi rurowa warstwa elementów do koalescencji w formie dwóch koncentrycznych warstw metalowej siatki rozciąganej 30, przy czym wewnętrzna średnica rurowej warstwy elementów do koalescencji jest równa lub większa od zewnętrznej średnicy sekcji oddzielania 13, dzięki czemu owa rurowa warstwa pasuje na sekcję oddzielania 13. Ażeby nie dopuścić do zbyt wysokiego oporu dla strumienia gazu przemieszczającego się wzdłuż rurowej warstwy materiału przeprowadzającego koalescencję, wielkość wolnej przestrzeni tej rurowej warstwyjest większa lub równa wielkości w przedziale między 1a 1,5 raza wielkości pola przekroju poprzecznego rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą. Sekcja wylotowa 15 zawiera ponadto dwie taśmy 32, umieszczone w regularnych odstępach wzdłuż zewnętrznej powierzchni ścianek przepuszczających gaz i zaopatrzonych w elementy 25 do koalescencji.
W trakcie normalnego działania ciecz dostarczana jest stale do wlotu (nie pokazany na rysunku) cieczy, położonego w górnej części kolumny 1, zaś gaz dostarczany jest nieprzerwanie do wlotu (nie pokazany na rysunku) gazu, umieszczonego w dolnej części kolumny 1. Ciecz dostarczana do górnej części kolumny 1 zbierana jest na płycie 6 górnej poziomej tacy 3. Część cieczy przepływa przez otwory wlotowe 21 do rur 19 dostarczających ciecz; inna część przedostaje się przez otwór wlotowy 24 i przewód opadowy 23 do dolnej części sekcji kontaktowania 12 w obrębie urządzenia 10 do kontaktowania gazu z cieczą. Pozostała ciecz pozostaje na płycie 6. Unoszący się gaz dostaje się przez styczne wloty 16 gazu do wnętrza sekcji kontaktowania 12, znajdujących się w rurowych urządzeniach 8 do kontaktowania gazu z cieczą. Ciecz dostająca się do sekcji kontaktowania 12 rozpraszana jest przez wirujący gaz i w takiej rozproszonej formie ciecz kontaktowana jest z gazem. Wirujący płyn dostaje się do wnętrza sekcji oddzielania 13 wewnątrz rurowych urządzeń 8 do kontaktowania gazu z cieczą. W sekcji tej ciecz przemieszcza się do zewnątrz pod wpływem działania siły odśrodkowej, po czym zbierana jest ona na wewnętrznej powierzchni ścianek sekcji oddzielania 13. Gaz i ciecz dostają się do wnętrza sekcji wylo6
179 882 towych 15, po czym wydostają się stamtąd przez elementy do koalescencji w formie dwóch koncentrycznych warstw metalowej siatki rozciąganej 30. Ciecz zbiera się na elementach do koalescencji, skąd ścieka na płytę 6, zaś gaz przemieszcza się w górę. Sekcje wylotowe 15 zaopatrzone są w taśmy 32 przeprowadzające proces koalescencji, wspomagające oddzielanie oraz redukujące porywanie cieczy w gazie. Pokrywa 27 odchyla strumień unoszącego się płynu, w wyniku czego przepływa ona przez elementy do koalescencji.
W przypadku zastosowania kolejnej poziomej tacy (nie pokazana na rysunku) powyżej górnej poziomej tacy 3, gaz kontaktowany jest z cieczą wewnątrz urządzeń do kontaktowania (nie pokazane na rysunku) tej kolejnej poziomej tacy, po czym ciecz spływa po kontaktowaniu przez przewód opadowy (nie pokazany na rysunku) na płytę 6. W razie, gdy górna pozioma taca 3 jest zarazem najwyższąpoziomątacą, gaz przedostaje się do górnej części kolumny 1, skąd wycofywany on jest za pośrednictwem wylotu gazu (nie pokazany na rysunku), przy czym ciecz dostarczana do wlotu cieczy dostaje się bezpośrednio na płytę 6. Ciecz płynąca przewodem opadowym 23 dostarczana jest do dolnej części rurowego urządzenia 10 do kontaktowania gazu z cieczą, wchodzącego w skład dolnej poziomej tacy 5. Wewnątrz tego urządzenia gaz kontaktowanyjest z cieczą w taki sam sposób, jak zostało to opisane powyżej odnośnie rurowych urządzeń 8. Ciecz wydostająca się z sekcji wylotowej 15 urządzenia 10 zbierana jest na płycie 7 niższej poziomej tacy 5. Nadmiar cieczy usuwany jest z tacy 5 za pośrednictwem przewodu opadowego 35, przechodzącego przez otwór w płycie 7.
W przypadku występowania kolejnej poziomej tacy (nie pokazana na rysunku) poniżej dolnej poziomej tacy 5, wylot przewodu opadowego 35 znajduje się w rurowym urządzeniu do kontaktowania gazu z cieczą (nie pokazane na rysunku), położonym w obrębie kolejnej poziomej tacy. Natomiast w razie, gdy niższa pozioma taca 5 jest zarazem najniższą tacą, ciecz uwalniana jest do dolnej części kolumny 1, skąd wycofywana jest ona przez wylot cieczy (nie pokazany na rysunku).
Przeprowadzone zostały eksperymenty, których celem było pokazanie wyników działania urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, będącego przedmiotem niniejszego wynalazku. W przypadku dwóch eksperymentów cztery poziome tace zaopatrzone były w urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, w ramach cieczy użyto wodę, w ramach gazu - powietrze. Pierwsze eksperymenty przeprowadzono przy zastosowaniu urządzeń znanych ze stanu techniki, gdzie ścianki przepuszczające gaz zaopatrzone w elementy do koalescencji stanowiła rura o otwartych końcach, charakteryzująca się cylindrycznymi ściankami zaopatrzonymi w styczne wyloty w formie pionowych szczelin, a na górze w deflektor w formie pierścienia, przymocowany na górze sekcji wylotowej. Każda taca zawierała jedenaście urządzeń o wewnętrznej średnicy 50 mm. Przy ładunku gazu 0,70 m/s przeciętne porywanie wynosiło około 0,3. Wyniki te mogą być porównane z rezultatem osiągniętym przy zastosowaniu czterech tac, z których każda wyposażona była w cztery urządzenia, z których każde, zgodnie z niniejszym wynalazkiem, charakteryzowało się wewnętrzną średnicą 100 mm. Przy identycznym natężeniu przepływu, przy ładunku gazu 0,70 m/s porywanie wynosiło 0,03.
W powyższych wynikach wartość porywaniajest objętością cieczy porywaną w czasie jednostkowym, podzielonąprzez objętość cieczy dostarczanej do kolumny w czasie jednostkowym, zaś współczynnik ładunku gazujest uzyskany przez podzielenie objętości gazu dostarczonego do urządzenia do kontaktowania w czasie jednostkowym przez powierzchnię urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, pomnożonej przez pierwiastek kwadratowy z wielkości równej stosunkowi gęstości gazu do gęstości cieczy minus gęstość gazu. Przy zastosowaniu rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą według wynalazku porywanie cieczy w gazie wydostającym się z sekcji wylotowej tego urządzenia jest znacznie zmniejszone.
Dla usprawnienia procesu kontaktowania, dolny koniec sekcji kontaktowania 12 urządzenia 10 zaopatrzony jest poniżej najniższego stycznego wlotu 16 gazu w przerywacz wirowy w formie pionowej płaskiej płytki 38 umieszczonej na pokrywie 18, natomiast dolny koniec rury 19 dostarczającej ciecz opiera się we wgłębieniu 40 w górnym brzegu płaskiej płytki 38. Przerywacz wirowy zawierać też może dwie płaskie płytki, przy czym jedna z nich znajdowałaby się w płasz179 882 czyźnie rysunku (j ak płaska płytka 38), zaś druga z nich (nie pokazana na rysunku) przebiegałaby prostopadle do płaszczyzny rysunku. Sekcja wylotowa 15 zawierać może więcej niż dwie taśmy 32, które zostały pokazane na rysunku, przykładowo między 3 a 5, przy czym korzystnie wszystkie te taśmy do przeprowadzania koalescencji umieszczone by były w regularnych odstępach wzdłuż zewnętrznej powierzchni ścianek przepuszczających gaz, zaopatrzonych w elementy 25 do koalescencji. Szerokość takiego paska wynosi około 10% długości obwodu ścianki przepuszczającej gaz.
Przekrój poprzeczny rurowego urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, omawianego w odniesieniu do rysunku, jest okrągły. Możliwe jest jednak takie zaprojektowanie, ażeby przekrój ten był wielokątny.
Dolny koniec rury 19 dostarczającej ciecz umieszczony jest pod najniższym stycznym wlotem 16 gazu, w wyniku czego, w trakcie normalnego działania, ciecz znajdująca się w dolnej części każdego z rurowych urządzeń 8 i 10 do kontaktowania gazu z ciecząuszczelnia rurę 19 dostarczającą ciecz. Ażeby umożliwić napełnianie dolnej części każdej z rur do kontaktowania, ścianki każdej z nich zaopatrzone są w niewielki otworek (nie pokazany na rysunku) umieszczony nad płytą 7 poziomej tacy 5, z którą łączy się rura do kontaktowania, a poniżej otworu wlotowego 24 przewodu opadowego 23. Dla umożliwienia opróżniania dolnej części urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą, pokrywa 18 na dole sekcji kontaktowania 12 zaopatrzona jest w niewielki otworek (nie pokazany na rysunku). Wielkość otworków w ściankach i pokrywie dobrana jest w taki sposób, żeby ich obecność nie przeszkadzała w oddzielaniu wewnątrz urządzenia do kontaktowania gazu z cieczą.
179 882
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 60 egz.
Cena 2,00 zł.

Claims (7)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy, gdzie gaz przemieszcza się ku górze a ciecz płynie w dół, składająca się z poziomej tacy z płytą zaopatrzoną w rurowe urządzenie do kontaktowania gazu z cieczą które zawiera sekcję kontaktowania umieszczoną poniżej płyty, sekcję rozdzielania powyżej sekcji kontaktowania oraz sekcję wylotową powyżej sekcji oddzielania, znajdującą się zarazem nad płytą znamienna tym, że sekcja kontaktowania (12) jest zamknięta od dołu zaś jej ścianki zaopatrzone są w styczne wloty (16) gazu, a ponadto otwarty koniec rury (19) dostarczającej ciecz, mającej formę przewodu opadowego biegnącego w dół przez rurowe urządzenie (10) do kontaktowania gazu z cieczą znajduje się w dolnej części sekcji kontaktowania (12), natomiast sekcja wylotowa (15) zaopatrzona jest w ścianki przepuszczające gaz, zawierające elementy (25) do koalescencji, przy czym góra sekcji wylotowej (15) zaopatrzona jest w pokrywę (27).
  2. 2. Kolumna według zastrz. 1, znamienna tym, że ścianki sekcji wylotowej (15) przepuszczające gaz i zaopatrzone w elementy (25) do przeprowadzania koalescencji stanowi rurowa warstwa materiału przeprowadzającego koalescencję, przy czym wewnętrzna średnica warstwy rurowej jest przynajmniej równa zewnętrznej średnicy sekcji oddzielania (13).
  3. 3. Kolumna według zastrz. 2, znamienna tym, że materiał przeprowadzający koalescencję zawiera warstwę metalowej siatki rozciąganej (30).
  4. 4. Kolumna według zastrz. 3, znamienna tym, że materiał przeprowadzaj ący koalescencję stanowią dwie koncentryczne warstwy metalowej siatki rozciąganej (30).
  5. 5. Kolumna według zastrz. 1 albo 2, znamienna tym, że sekcja wylotowa (15) zawiera ponadto dwie lub więcej taśm (32) do przeprowadzania koalescencji, umieszczonych w regularnych odstępach wzdłuż zewnętrznej powierzchni ścianek przepuszczających gaz, zaopatrzonych w elementy (25) do przeprowadzania koalescencji.
  6. 6. Kolumna według zastrz. 1, znamienna tym, że każdy styczny wlot (16) gazu zaopatrzony jest w występ zagięty do wewnątrz sekcji kontaktowania (12), przy czym wysokość występu jest stosunkowo niewielka w porównaniu z wysokością sekcji kontaktowania (12), a ponadto styczne wloty (16) gazu umieszczone sąjeden nad drugim w kolumnie.
  7. 7. Kolumna według zastrz. 6, znamienna tym, że sekcja kontaktowania (12) zaopatrzona jest w dwie lub więcej kolumn stycznych wlotów (16), które to kolumny rozmieszczone są w regularnych odstępach wzdłuż obwodu sekcji kontaktowania (12).
PL95318349A 1994-07-29 1995-07-27 Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy PL PL PL179882B1 (pl)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP94202213A EP0694325A1 (en) 1994-07-29 1994-07-29 Column for contacting gas and liquid
PCT/EP1995/003033 WO1996004056A1 (en) 1994-07-29 1995-07-27 Column for contacting gas and liquid
US08/555,060 US5690708A (en) 1994-07-29 1995-11-08 Column for contacting gas and liquid

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL318349A1 PL318349A1 (en) 1997-06-09
PL179882B1 true PL179882B1 (pl) 2000-11-30

Family

ID=26136465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL95318349A PL179882B1 (pl) 1994-07-29 1995-07-27 Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy PL PL

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5690708A (pl)
EP (2) EP0694325A1 (pl)
CA (1) CA2196067C (pl)
NO (1) NO314442B1 (pl)
PL (1) PL179882B1 (pl)
WO (1) WO1996004056A1 (pl)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0751808B1 (en) * 1994-03-24 2000-03-08 Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. Column for counter-currently contacting gas and liquid
US5837105A (en) * 1997-04-07 1998-11-17 Mobil Oil Corporation Co-current contacting separation tray design and methods for using same
EP0882481B1 (de) * 1997-06-05 2002-04-24 Sulzer Chemtech AG Ablaufschacht zu einer Bodenkolonne
US20010015136A1 (en) * 2000-02-16 2001-08-23 Letzel Hugo Martijn Column for counter-currently contacting gas and liquid
US6460834B2 (en) * 2000-02-16 2002-10-08 Shell Oil Company Gas/liquid contact tray
US6682633B1 (en) 2000-12-22 2004-01-27 Uop Llc Apparatus for cocurrent fractional distillation
RU2287359C2 (ru) 2004-11-30 2006-11-20 Открытое акционерное общество "Минерально-химическая компания "ЕвроХим"(ОАО "МХК "ЕвроХим") Вихревой аппарат для проведения физико-химических процессов с нисходящим потоком фаз
US7424999B2 (en) * 2005-12-16 2008-09-16 Uop Llc Co-current vapor-liquid contacting apparatus
US7981201B2 (en) * 2008-12-31 2011-07-19 Uop Llc De-entrainment device
US8608833B2 (en) 2010-06-09 2013-12-17 Uop Llc Selective absorption of gas components in co-current contacting apparatuses
CN103260717B (zh) * 2011-01-10 2015-03-11 科氏-格利奇有限合伙公司 接触盘及其使用方法
RU2466767C2 (ru) * 2011-03-30 2012-11-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный технологический университет" (СибГТУ) Тепломассообменная вихревая колонна
ITMI20111299A1 (it) * 2011-07-12 2013-01-13 Saipem Spa Piatto di reattore per la produzione di urea, e reattore e processo di produzione di urea
DE102011119148A1 (de) * 2011-11-22 2013-05-23 Linde Ag Kolonne
US11786855B2 (en) * 2018-03-29 2023-10-17 Uop Llc Vapor-liquid contacting apparatus and process with downcomer at shell

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1651354A (en) * 1925-05-09 1927-12-06 Clive M Alexander Baffle tower
US2042150A (en) * 1930-12-01 1936-05-26 Shell Dev Apparatus for and process of fractionation
US1918005A (en) * 1932-02-02 1933-07-11 Kenneth M Urquhart Bubble cap
US2055048A (en) * 1932-06-30 1936-09-22 Texas Co Entrainment separator for fractionating towers
US2893713A (en) * 1956-04-10 1959-07-07 Bayer Ag Bubble cap assembly
US3197286A (en) * 1963-02-18 1965-07-27 Hydrocarbon Research Inc Liquid phase reactor
NL147333B (nl) * 1965-02-26 1975-10-15 Shell Int Research Schotel voor het met elkaar in contact brengen van vloeistof en gassen.
US3475134A (en) * 1965-05-05 1969-10-28 Hydrocarbon Research Inc Liquid phase reactor
DE2141858A1 (en) * 1970-08-21 1972-02-24 Mitsui Shipbuilding And Engineering Co. Ltd., Tokio Gas liquid contact column - with perforated plate in flow baffle at each level
US3779525A (en) * 1971-08-19 1973-12-18 Mitsui Shipbuilding Eng Gas-liquid contacting apparatus
US3864439A (en) * 1971-12-21 1975-02-04 Mitsui Shipbuilding Eng Gas-liquid contacting apparatus
US4060399A (en) * 1976-08-30 1977-11-29 Gleason Thomas G Scrubber-cooler tower
JP2640396B2 (ja) * 1991-04-15 1997-08-13 三井造船株式会社 気液接触装置

Also Published As

Publication number Publication date
US5690708A (en) 1997-11-25
EP0694325A1 (en) 1996-01-31
EP0772483A1 (en) 1997-05-14
CA2196067C (en) 2006-10-17
NO970345L (no) 1997-01-27
NO314442B1 (no) 2003-03-24
EP0772483B1 (en) 2000-03-22
NO970345D0 (no) 1997-01-27
PL318349A1 (en) 1997-06-09
CA2196067A1 (en) 1996-02-15
WO1996004056A1 (en) 1996-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3997303A (en) Liquid-gas phase separator having a perforated plate and mist eliminator pad
PL179882B1 (pl) Kolumna do kontaktowania gazu i cieczy PL PL
US4349360A (en) Fluid treating column and apparatus for treating mixtures of liquid and gas
US4767424A (en) Column for removing liquid from a gas
EP0702990A1 (en) Enhanced capacity multiple-downcomer fractionation tray
KR20080070871A (ko) 병류식 증기 액체 접촉 장치
PL177798B1 (pl) Kolumna do przeciwbieżnego kontaktowania gazu i cieczy
US6227524B1 (en) High speed mass transfer tray
CA1300043C (en) Finned liquid particles separator
US4880451A (en) Gas/liquid contacting apparatus
EP0124920A2 (en) Apparatus for treating mixtures of liquid and gas
JP2006518274A (ja) 分離トレイ
US20140327161A1 (en) Contact and separation column and tray
KR20010012453A (ko) 2단 하강유로를 구비한 기액 접촉 트레이
US5300132A (en) Contacting device
EP0083811B1 (en) Apparatus for separating mixtures of liquid and gas
JPS6122722B2 (pl)
KR20110110289A (ko) 탈비말동반 장치
US2809820A (en) Low pressure drop liquid-vapor contacting tray
AU686441B2 (en) Column for contacting gas and liquid
US5948211A (en) Distillation column downcomer having liquid permeable wall
KR20200133780A (ko) 교차 접촉을 갖는 증기-액체 접촉 장치 및 방법
WO1999003554A9 (en) Venturi swirl tube for vapor liquid contact tray
CA2132405C (en) Enhanced capacity multiple-downcomer fractionation tray
JP2612424B2 (ja) 多重降流管分留装置