PL169334B1 - Matryce do wytwarzania pieczątek - Google Patents

Matryce do wytwarzania pieczątek

Info

Publication number
PL169334B1
PL169334B1 PL29698392A PL29698392A PL169334B1 PL 169334 B1 PL169334 B1 PL 169334B1 PL 29698392 A PL29698392 A PL 29698392A PL 29698392 A PL29698392 A PL 29698392A PL 169334 B1 PL169334 B1 PL 169334B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
matrix
positive
negative
plate
dies
Prior art date
Application number
PL29698392A
Other languages
English (en)
Other versions
PL296983A1 (en
Inventor
Grzegorz Ratynski
Tadeusz Nowicki
Original Assignee
Tadeusz Nowicki
Grzegorz Ratynski
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tadeusz Nowicki, Grzegorz Ratynski filed Critical Tadeusz Nowicki
Priority to PL29698392A priority Critical patent/PL169334B1/pl
Publication of PL296983A1 publication Critical patent/PL296983A1/xx
Publication of PL169334B1 publication Critical patent/PL169334B1/pl

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

Matryce do wytwarzania pieczątek, stanowiące wzajemnie sobie odpowiadający komplet matrycy pozytywowej i matrycy negatywowej, znamienne tym, że matrycę pozytywową (4) stanowi płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona, zaś matrycę negatywową(2) stanowirównieżpłyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona.

Description

Przedmiotem wynalazku są matryce do wytwarzania pieczątek szlamowych i z innych materiałów przesączalnych.
W procesie produkcji stosuje się dwie wzajemnie sobie odpowiadające matryce: matrycę pozytywową, wykonywaną z wykorzystaniem fotopolimerowego wzorca poprzez fotosyntezę twardych lub ciekłych polimerów z twardym podłożem lub bez uzyskując twardą matrycę do przetłoczenia matrycy negatywowej, którą wykonuje się poprzez przetoczenie warstwy żywicznej matrycą pozytywową, a następnie termiczne utwardzanie kształtu warstwy wierzchniej.
Wadą tych matryc jest droga technologia produkcji, polegająca na stosowaniu twardego podkładu matrycy pozytywowej oraz trudności z odzyskiwaniem materiału do produkcji matrycy. Ponadto żywiczny materiał matrycy negatywowej ze względu na połączone procesy tłoczenia oraz termicznego uplastyczniania i utwardzania zarysu wgłębnego reliefu powoduje trudności w uzyskaniu ostrości tegoż zarysu. Ponadto wymaga kosztownego i precyzyjnego oprzyrządowania oraz dokładności prowadzenia procesu.
Celem wynalazku jest zlikwidowanie powyższych wad i niedogodności.
Istota wynalazku, którym są matryce do wykonywania pieczątek stanowiące wzajemnie sobie odpowiadający komplet matrycy pozytywowej i negatywowej, polega na tym, że matrycę pozytywową stanowi płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona, zaś matrycę negatywową stanowi również płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona.
Korzystnym jest, gdy matryce osadzone są na płycie podkładowej o dużej twardości.
Korzystnym jest także, gdy płytą podkładowąjest płyta szklana.
Dzięki zastosowaniu matryc według wynalazku uzyskano następujące efekty technicznoużytkowe: wykonanie matrycy pozytywowej z utwardzonych fotopolimerów, ze względu na ich właściwości fizykochemiczne, pozwala na precyzyjne odtworzenie zarysu wgłębnego reliefu w procesie formowania matrycy, dzięki czemu otrzymuje się relief wypukły pieczątki o wyraźnych i precyzyjnie zarysowanych krawędziach, materiał do wykonania matrycy negatywowej jest tani, a stosowane twarde podkłady w pełni odzyskiwalne, materiał odpadowy jest łatwy w utylizacji, możliwość wykonywania pieczątek o dowolnej wysokości reliefu.
Przedmiot wynalazku, w przykładowym wykonaniu, uwidoczniono na rysunku, na którym przedstawiono zestaw matryc w przekroju w płaszczyźnie pionowej.
Na płycie podkładowej 1 ze szkła osadzona jest matryca negatywowa 2. Matryca negatywowa 2 z odwróconym reliefem jest matrycą pośrednią do uzyskania matrycy pozytywowej 4. Matrycę negatywową2 stanowi płyta żywicy fotopolimerowej w stanie utwardzonym. Natomiast matrycę pozytywową 4 stanowi również płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona, ograniczona obramowaniem 3 i płytąpodkładowągórną5 ze szkła. Matrycę negatywową2 uzyskuje się poprzez naświetlanie nałożonej na płytę podkładową 1 żywicy fotopolimerowej, o ciekłej
169 334 konsystencji, promieniami ultrafioletowymi, z wykorzystaniem fotograficznego filmu negatywowego, nie uwidocznionego na rysunku. Po utwardzeniu i wypłukaniu, na wysuszoną matrycę negatywową 2 nakłada się obramowanie 3 ograniczające wypływ i zalewa się ciekłą żywicę fotopolimerową, nakłada płytę podkładową górną 5 i utwardza się promieniami ultrafioletowymi. Utwardzona żywica fotopolimerową łączy się trwale z płytą podkładową górną 5 tworząc matrycę pozytywową 4. Następnie na matrycę pozytywową 4 w znany sposób nakłada się materiały szlamowe lub mikroporowate PRE-INK do otrzymania pieczątek.
1659 334
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz.
Cena 2,00 zł

Claims (3)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Matryce do wytwarzania pieczątek, stanowiące wzajemnie sobie odpowiadający komplet matrycy pozytywowej i matrycy negatywowej, znamienne tym, że matrycę pozytywową (4) stanowi płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona, zaś matrycę negatywową (2) stanowi również płyta z żywicy fotopolimerowej utwardzona.
  2. 2. Matryce według zastrz. 1, znamienne tym, że matryce (2, 4) osadzone są na płycie podkładowej (1, 5) o dużej twardości.
  3. 3. ' Matryce według zastrz. 1, albo 2, znamienne tym, że płytę podkładową(1, 5) stanowi płyta szklana.
PL29698392A 1992-12-09 1992-12-09 Matryce do wytwarzania pieczątek PL169334B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29698392A PL169334B1 (pl) 1992-12-09 1992-12-09 Matryce do wytwarzania pieczątek

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29698392A PL169334B1 (pl) 1992-12-09 1992-12-09 Matryce do wytwarzania pieczątek

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL296983A1 PL296983A1 (en) 1994-06-13
PL169334B1 true PL169334B1 (pl) 1996-07-31

Family

ID=20059092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL29698392A PL169334B1 (pl) 1992-12-09 1992-12-09 Matryce do wytwarzania pieczątek

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL169334B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL296983A1 (en) 1994-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5795519A (en) Process of making a microstructured plastic mold
US4308224A (en) Reproduction process for oil paintings
EP2577400B1 (en) Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin
CN101082769A (zh) 面浮雕微结构达曼光栅的复制方法
US20070003876A1 (en) Microstructure and method for producing microstructures
JPH068062A (ja) 片側に微小凹所を備えたプラスチック半製品の加工方法
PL169334B1 (pl) Matryce do wytwarzania pieczątek
CN101114120A (zh) 压模、制造该压模的方法及利用该压模的基底的压印工艺
US5594989A (en) Process for making jewelry utilizing a hard photopolymer
US5554331A (en) Method of making a large decorative panel
US5896663A (en) Process for making jewelry utilizing a soft photopolymer
CN100386654C (zh) 微结构及其微结构产生的工艺
JPS63302006A (ja) 成形用金型
US3379813A (en) Process for forming arcuate rigid plastic plate
US4353858A (en) Method for forming a boss upon a thermoplastic polymer surface and resulting article
JP2005041164A (ja) 成形用樹脂型および成形用樹脂型の製造方法並びに成形用樹脂型を用いたレンズシートの製造方法
JP4140128B2 (ja) ロール状の樹脂型とその樹脂型を用いたレンズシートの製造方法
DE3772918D1 (de) Verfahren zum herstellen einer polymeren kunststoff enthaltenden folie oder platte.
EP3610326B1 (en) Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin
JPH0117849B2 (pl)
US4595543A (en) Method of forming photopolymeric molding pattern
JP3218413B2 (ja) エンボスシートの製造方法
JPH0813514B2 (ja) タイヤサイド部への紋様刻印方法
JPS6245823B2 (pl)
JPH06126754A (ja) エンボスシートの製造方法