PL149620B1 - KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Z n -A l - Google Patents
KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Z n -A lInfo
- Publication number
- PL149620B1 PL149620B1 PL27196188A PL27196188A PL149620B1 PL 149620 B1 PL149620 B1 PL 149620B1 PL 27196188 A PL27196188 A PL 27196188A PL 27196188 A PL27196188 A PL 27196188A PL 149620 B1 PL149620 B1 PL 149620B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bath
- electrolyticdepositing
- copper layers
- metal surfaces
- alloy
- Prior art date
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910007570 Zn-Al Inorganic materials 0.000 claims description 6
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- -1 Aliphatic sulphides Chemical class 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229940024464 emollients and protectives zinc product Drugs 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTRPHMVLPJCLLJ-UHFFFAOYSA-N 5,5-diethyl-2,6-bis(sulfanylidene)-1,3-diazinan-4-one Chemical compound CCC1(CC)C(=O)NC(=S)NC1=S FTRPHMVLPJCLLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- YZMHQCWXYHARLS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC=C21 YZMHQCWXYHARLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N safranin Chemical compound [Cl-].C=12C=C(N)C(C)=CC2=NC2=CC(C)=C(N)C=C2[N+]=1C1=CC=CC=C1 OARRHUQTFTUEOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009498 subcoating Methods 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003556 thioamides Chemical class 0.000 description 1
- QGVNJRROSLYGKF-UHFFFAOYSA-N thiobarbital Chemical compound CCC1(CC)C(=O)NC(=S)NC1=O QGVNJRROSLYGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Zn-Al
Przedmiotem wynalazku jest kąpiel do elektrolitycznego nakładania błyszczących powłok miedzianych na powierzchniach metali, zwłaszcza na powierzchniach stopów Zn-Al. Kąpiel jest również przydatna do miedziowania powierzchni innych metali gdy w roztworze kąpieli są zawarte zanieczyszczenia jonami Zn i Al. Znane są kąpiele do nakładania błyszczących powłok miedzianych z kwaśnych elektrolitów siarczanowych, zawierające oprócz substancji podstawowych dodatki różnych substancji organicznych. Znane są kąpiele zawierające m.in. organiczne pochodne kwasów trój fosforowego i tiofos tonowego, amidy i estry tych kwasów. Stosowane są również związki organiczne zawierające w cząsteczce atomy siarki i azotu np. tioamidy, tiomocznik i jego pochodne. Stosowane są również siarczki i merkoptany alifatyczne, najczęściej w kompozycji z barwnikami organicznymi oraz ze związkami powierzchniowo czynnymi typu polieterów.
Stosując kąpiele zawierające znane substancje blaskotwórcze w roztworach wodnych opartych na siarczanie miedzi i kwasie siarkowym uzyskuje się powłoki o lustrzanym połysku i dobrych własnościach mikrowygładzających. Wadą tych kąpieli jest stwierdzona mała odporność substancji blaskotwórczych na działanie cynku w przypadku miedziowania wyrobów wykonanych ze stopów cynkowo-aluminiowych lub zawartości w kąpieli jonów Zn i Al.
Wyroby cynkalowe, przed miedziowaniem w kąpieli kwaśnej są miedziowane wstępnie w kąpieli cyjankowej. Okazuje się jednak, że podpowłoka nie stanowi wystarczającego zabezpieczenia przed roztwarzaniem się stopów Zn-Al w elektrolicie kwaśnym. Przedostające się do roztworu jony Zn i Al powodują rozkład substancji blaskotwórczych. Następuje znaczne obniżenie jakości otrzymywanych powłok. Zmniejsza się ich połysk oraz znacznie obniżają się zdolności mikrowygładzającs elektrolitu. Problem ten rozwiązano zgodnie z wynalazkiem, stosując w typowych zestawach mieszanin blaskotwórczych dodawanych do kąpieli kwaśnych dodatkowe związki organiczne. Cen ten osiągnięto, stosując jeden lub dwa związki o wzorze ogólnym 1 lub 2.
149 620
149 620
Kąpiel do elektrolitycznego nakładania błyszczących powłok miedzianych na powierzchniach metali, zwłaszcza na powierzchniach stopów Zn-Al, stanowiąca wodny roztwór zawierający siarczan miedzi, kwas siarkowy 1 substancje blaskotwórcze, według istoty wynalazku charakteryzuje się tym, że zawiera ponadto jeden lub dwa stabilizatory kąpieli stanowiące związki o wzorze 1 i/lub o wzorze 2, w których to wzorach R^ oznacza wodór - H, resztę hydroksyalkilową lub resztę alkilosulfonową, natomiast R^ - oznacza wodór - H, resztę sulfonową lub resztę alkilosulfonową. Substancje te oprócz działania zabezpieczającego główne składniki mieszaniny blaskotwórczej przed działaniem Zn i Al mają również pewne działanie poprawiające własności mlkrowygładzającs kąpieli. Kąpiel do miedziowania wg wynalazku składa się z rotworu siarczanu miedzi i kwasu siarkowego, dodatków blaskotwórczych oraz jednego lub dwu związków wg wzorów podanych na rys. Przedmiot wynalazku przedstawiono w przykładzie wykonania.
Przykład I. Do kąpieli zawierającej 200 g/1 krystalicznego siarczanu miedzi, 50 g/1 kwasu siarkowego, 0,05 g/1 kwasu dwuetylotiobarbiturowego, 0,5 g/1 kwasu naftalenodwusulfonowego i 25 mg/1 kwasu solnego dodano 0,010 g hydroksyetylenobenzochinonu· Przeprowadzono elektrolizą, nakładając powłoką na wyroby cynkalowe» wstępnie zamiedziowane w kąpieli cyjankalicznej na grubość 5/Uro. Stwierdzono dobry wygląd powłoki i dobre własności mlkrowygładzające kąpieli. Elektrolizę kontynuowano przez 100 Ah/1 kąpieli, pokrywając wyroby wykonane ze stopów Zn-Al jak w pierwszym doświadczeniu. W czasie przepracowywania kąpieli wykonano badania kontrolne mające na celu oceny jakości uzyskiwanych powłok i zdolności mlkrowygładzających elektrolitu. W okresie tym nie stwierdzono różnic we własnościach otrzymywanych powłok.
Przykład II. Do kąpieli zawierającej 200 g/1 krystalicznego siarczanu miedzi, 50 g/1 kwasu siarkowego, 0,05% kwasu dwuetylodwutiobarbiturowego, 0,01 g/1 chlorowodorku safraniny w postaci 10% roztworu alkoholowego i 25 mg/1 kwasu solnego, dodano 0,03 g/1 2-nsulfometylenonaftochinonu·
Kąpiele według przykładu 1 i II pracują pięciokrotnie dłużej od kąpieli znanych, przy tych samych dodatkach wybłyszczająco-wygładzających. Przez ten pięciokrotnie dłuższy czas pracy kąpieli według projektu wynalazczego nie stwierdza się pogorszenia jakości powłok i zdolności mlkrowygładzających kąpieli pomimo przepracowania około 100 Ah/1 kąpieli. Poniżej w tabeli przedstawiono dane porównawcze dla kąpieli znanych /bez dodatku stabilizatora/ i dla kąpieli według projektu wynalazczego według przykładu 1, przy tych samych wybłyszczaczach, przy czym kąpiel według projektu zawiera stabilizatory.
Tabela
| Lp. | Rodzaj kąpieli | Zużycie wybłyszczacza /«1/1000 Ah/ | Zdolność mikrowygładzania po przepracowaniu 100 Ah/1 |
| 1 | Kąpiel bez dodatku stabilizatora | 1800 | dostateczna |
| 2 | Kąpiel według projektu | 300 | bardzo dobra |
Zarówno kąpiel znana jak i kąpiel według projektu pracowała przy gęstości prądu 2
A/dm przez czas, przy którym przepuszczono ładunek 100 Ah/1 kąpieli·
Claims (1)
- Kąpiel do elektrolitycznego nakładania błyszczących powłok miedzianych na powierzchniach metali, zwłaszcza na powierzchniach stopów Zn-Al, stanowiąca wodny roztwór zawierający siarczan miedzi, kwas siarkowy i substancje blaskotwórcze, znamienna tym, że zawiera ponadto jeden lub dwa stabilizatory kąpieli stanowiące związki o wzorze 1 i/lub o wzorze 2, w których to wzorach R^ oznacza wodór - H, resztę hydroksyalkilową lub resztę alkilosulfonową, natomiast R^ oznacza wodór - H, resztę sulfonową lub resztę alkilosulfonową·
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27196188A PL149620B1 (pl) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Z n -A l |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27196188A PL149620B1 (pl) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Z n -A l |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL271961A1 PL271961A1 (en) | 1988-12-22 |
| PL149620B1 true PL149620B1 (pl) | 1990-03-31 |
Family
ID=20041735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL27196188A PL149620B1 (pl) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO NAKŁADANIA BŁYSZCZĄCYCH POWŁOK MIEDZIANYCH NA POWIERZCHNIACH METALI, ZWŁASZCZA NA POWIERZCHNIACH STOPÓW Z n -A l |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL149620B1 (pl) |
-
1988
- 1988-04-21 PL PL27196188A patent/PL149620B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL271961A1 (en) | 1988-12-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4331518A (en) | Bismuth composition, method of electroplating a tin-bismuth alloy and electroplating bath therefor | |
| US3769182A (en) | Bath and method for electrodepositing tin and/or lead | |
| JPS6056084A (ja) | 亜鉛及び亜鉛合金電着浴及びその方法 | |
| DE1053274B (de) | Bad zur Herstellung von galvanischen Metallueberzuegen | |
| US20060137991A1 (en) | Method for bronze galvanic coating | |
| KR20110011613A (ko) | 개질된 구리-주석 전해액, 및 청동 층의 침착 방법 | |
| EP0663460B1 (en) | Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same | |
| JPH0151555B2 (pl) | ||
| EP0320081A2 (en) | Method for production of tin-cobalt, tin-nickel, or tin-lead binary alloy electroplating bath and electroplating bath produced thereby | |
| IT8047741A1 (it) | Bagno acido e procedimento di elettroplaccatura allo zinco | |
| EP0397663B1 (en) | Electrodeposition of tin-bismuth alloys | |
| US20040007472A1 (en) | Lead-free chemical nickel alloy | |
| JPS6141999B2 (pl) | ||
| US3770596A (en) | Gold plating bath for barrel plating operations | |
| CN121538691A (zh) | 用于在衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴 | |
| US7300563B2 (en) | Use of N-alllyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths | |
| US5176813A (en) | Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating | |
| US2862861A (en) | Copper cyanide plating process and solution therefor | |
| US3655533A (en) | Zinc electroplating process and acidic zinc fluoborate electrolyte therefor | |
| US4740277A (en) | Sulfate containing bath for the electrodeposition of zinc/nickel alloys | |
| RU2061104C1 (ru) | Электролит для непосредственного никелирования алюминия и его сплавов | |
| US3972788A (en) | Zinc anode benefaction | |
| US3890210A (en) | Method and electrolyte for electroplating rhodium-rhenium alloys | |
| US3274079A (en) | Bath and process for the electrodeposition of nickel and nickel-cobalt alloys | |
| JP3277816B2 (ja) | 三元系亜鉛合金電気めっき方法 |