PL132278B1 - Electron gun with resistance lens - Google Patents

Electron gun with resistance lens Download PDF

Info

Publication number
PL132278B1
PL132278B1 PL1980225092A PL22509280A PL132278B1 PL 132278 B1 PL132278 B1 PL 132278B1 PL 1980225092 A PL1980225092 A PL 1980225092A PL 22509280 A PL22509280 A PL 22509280A PL 132278 B1 PL132278 B1 PL 132278B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
resistive
electrodes
blocks
launcher according
lens
Prior art date
Application number
PL1980225092A
Other languages
English (en)
Other versions
PL225092A1 (pl
Inventor
Benjamin Abeles
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Publication of PL225092A1 publication Critical patent/PL225092A1/xx
Publication of PL132278B1 publication Critical patent/PL132278B1/pl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/58Arrangements for focusing or reflecting ray or beam
    • H01J29/62Electrostatic lenses
    • H01J29/622Electrostatic lenses producing fields exhibiting symmetry of revolution
    • H01J29/624Electrostatic lenses producing fields exhibiting symmetry of revolution co-operating with or closely associated to an electron gun

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Claims (7)

1.Zastrzezenie patentowe 1. Wyrzutnie elektronowe z soczewke rezystencyjne 1 wieloma elektrodami, w której 60- czewka rezystancyjna jest umieszczone pomiedzy dwiema z tych elektrod i zawiera wiele elektrod z otworami i wiele rezyetancyjnych klocków odstepnikowych, przy czym te elektro¬ dy z otworami i klocki 99 zestawione ze sobe naprzemiennie w stos tek, ze kazdy klocek rezy6tencyjny etanowi poleczenie elektryczne rezystencyjne pomiedzy dwiema elektrodami z otworami lezecymi po obu Jego stronach, znamienne tym, ze kazdy z klocków rezystencyjnych /61, 61*/ zawiera klocek izolacyjny /62/ majecy oddzielne nalozone wste¬ pnie warstwe /66# 66*/ z materialu rezystancyjnego, lezeca. ne Jego powierzchni.
2. Wyrzutnia wedlug zestrz. 1, znamienna tym, ze kazdy z klocków rezy¬ etancyjnych /61/ zawiera oddzielone elektrycznie metalowe powloki /64/ przynajmniej ne czesciach co najmniej pary przeciwlegle lezecych powierzchni czolowych klocków w elektry¬ cznym styku z pare seslsdnlch elektrod /56, 58/ z otworami, a warstwa /66/ z materialu rezystancyjnego rozclega eie 1 zachodzi przynajmniej ne czesc powierzchni metalowych powlok /64/.
3. * Wyrzutnia wedlug zastrz. 2, znamienna tym, ze waretwa /66/ z ma¬ terialu rezystancyjnego jest warstwe spieku netelowo-ceremicznego.
4. Wyrzutnia wedlug zaetrz. 1, znamienna tym, ze klocki rezystencyjne /61, 61*/ maje metalizowane powloki /64, 64*/ na czesciach ich powierzchni, które se przylutowane do elektrod /56# 58/ z otworami po kazdej ich stronie, dla poleczenia ze¬ stawionych naprzemiennie w stos elektrod 1 klocków rezyetancyjnych w jedne soczewke re¬ zystencyjne /54/.
5. Wyrzutnia wedlug zaetrz. 1, znamienna tym, ze klocki rezyetencyjns ee dobrane o równej rezystancji przed zestawieniem ich w etos, dla utworzenia soczewki razystancyjnsj /54/ majgcsj liniowy przebieg napiecia wzdluz osi. '
6. Wyrzutnia wddlug zastrz. 1, znamienna tym, ze klocki rezystencyjne ee dobrane o nierównej rezystancji przed zestawieniem ich w stos dla utworzenia soczewki rezystancyjnej /54/ majecej nieliniowy przebieg napiecia wzdluz osi.
7. Wyrzutnia wedlug zestrz. 1, znamienna tym, ze zawiera wiele izola¬ cyjnych klocków odstepnikowych, przy czym kazdy z izolacyjnych klocków odstepnikowych /62/ jest zestewiony w pare z rezystancyjnym klockiem odstepnikowym, a kazde taka para jest umieszczone pomiedzy dwiema sesiednlmi elektrodami /56, 58/ z otworami.132 278 i? w 3 5? ftg.3 30 2fl K PL PL PL
PL1980225092A 1979-06-25 1980-06-19 Electron gun with resistance lens PL132278B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/051,400 US4281270A (en) 1979-06-25 1979-06-25 Precoated resistive lens structure for electron gun and method of fabrication

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL225092A1 PL225092A1 (pl) 1981-04-24
PL132278B1 true PL132278B1 (en) 1985-02-28

Family

ID=21971068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1980225092A PL132278B1 (en) 1979-06-25 1980-06-19 Electron gun with resistance lens

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4281270A (pl)
JP (1) JPS5829579B2 (pl)
CA (1) CA1142571A (pl)
DD (1) DD151533A5 (pl)
DE (1) DE3023853A1 (pl)
FR (1) FR2460035A1 (pl)
GB (1) GB2052149B (pl)
IT (1) IT1131522B (pl)
PL (1) PL132278B1 (pl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3704244A (en) * 1970-09-21 1972-11-28 Eisai Co Ltd N-lower alkyl-substituted n'-(beta-(2',5'-diphenylpyrolyl - 1')) ethylhomopiperazines
US4243912A (en) * 1979-08-28 1981-01-06 Rca Corporation Simplified resistive lens electron gun with compound linear voltage profile
US4243911A (en) * 1979-08-28 1981-01-06 Rca Corporation Resistive lens electron gun with compound linear voltage profile
US4323813A (en) * 1980-01-23 1982-04-06 Rca Corporation Spring-loaded resistive lens structure for electron gun
EP0151120B2 (en) * 1983-03-21 1995-09-06 Union Oil Company Of California Method for removing heavy metals from aqueous solutions by coprecipitation
EP1096543B1 (en) * 1998-07-09 2009-03-25 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray tube

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2143390A (en) * 1933-12-30 1939-01-10 Telefunken Gmbh Electron tube
BE440927A (pl) * 1940-05-08
US2771566A (en) * 1953-01-09 1956-11-20 Itt Cathode ray electron discharge device
US3932786A (en) * 1974-11-29 1976-01-13 Rca Corporation Electron gun with a multi-element electron lens
US4010312A (en) * 1975-01-23 1977-03-01 Rca Corporation High resistance cermet film and method of making the same
US4091144A (en) * 1976-05-24 1978-05-23 Rca Corporation Article with electrically-resistive glaze for use in high-electric fields and method of making same

Also Published As

Publication number Publication date
CA1142571A (en) 1983-03-08
GB2052149A (en) 1981-01-21
GB2052149B (en) 1983-03-09
DD151533A5 (de) 1981-10-21
IT8022638A0 (it) 1980-06-06
PL225092A1 (pl) 1981-04-24
DE3023853A1 (de) 1981-01-15
IT1131522B (it) 1986-06-25
FR2460035A1 (fr) 1981-01-16
US4281270A (en) 1981-07-28
FR2460035B1 (pl) 1985-04-19
JPS566356A (en) 1981-01-22
JPS5829579B2 (ja) 1983-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6222427B1 (en) Inductor built-in electronic parts using via holes
KR100255712B1 (ko) Ntc 써미스터 소자
CA2147398A1 (en) Solder Medium for Circuit Interconnection
PL132278B1 (en) Electron gun with resistance lens
US2864013A (en) Sensitive strain responsive transducer and method of construction
US2832935A (en) Printed circuit delay line
JPH0855726A (ja) 積層型電子部品及びその製造方法
US4312023A (en) Ceramic power capacitor
NL8105144A (nl) Miniatuurtransformator.
US3838320A (en) Multiple layer capacitors
GB2032177A (en) Capacitative networks and voltage multipliers
US4602236A (en) Laminated ballast core
US4658729A (en) Modular fiber armature for electromagnetic launchers
US2407626A (en) Magnetic core
NL8003146A (nl) Gelamineerd geleidingselement en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
JPH01293503A (ja) 正の抵抗温度特性を有する半導体磁器
US4947287A (en) Capacitor cooling arrangement
PL130392B1 (en) Electron gun
JP3554775B2 (ja) 積層型コイル部品
EP0115389A1 (en) Dual film metallized capacitor
JPH11126724A (ja) セラミックインダクタ
JPH0732908U (ja) 電磁石
JPH047581Y2 (pl)
JPS636121B2 (pl)
US2305686A (en) Electromagnetic core