Claims (3)
Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie prózniowe do dozowania ilosci gazu padajacego na powierzchnie cial sta¬ lych, doprowadzajace poprzez kapilare impulsowo strumien gazu do powierzchni próbki umiesz¬ czonej w komorze prózniowej f znamienne tym, ze wylot kapilary /3/ wprowa¬ dzony jest do wnetrza przewodu /?/ formujacego strumien gazu o szerokosci /2R/ u wylotu /w/ równej od 0,5 do 2 szerokosci próbki /1 / i o dlugosci /1/ od 2 krotnie do 20 krotnie wiek¬ szej od szerokosci /2R/ u wylotu /W/, przy czym odleglosc /X/ wylotu przewodu /2/ formujar cego strumien gazu od powierzchni próbki /i/ zawiera sie w granioach od 0 do 10 szerokos¬ ci /2R/ przewodu /2/ formujacego strumien gazu u jego wylotu /W/#Claims 1. Vacuum device for dosing the amount of gas falling on the surface of solids, impulse a gas stream through the capillary to the surface of the sample placed in the vacuum chamber f, characterized in that the outlet of the capillary (3) is led into the interior of the conduit /? / forming a stream of gas with a width / 2R / at the outlet / in / equal to 0.5 to 2 sample width / 1 / and a length / 1 / from 2 times to 20 times greater than the width / 2R / at the outlet / W /, the distance (X) of the conduit / 2 / forming the gas stream from the surface of the sample / and / being within the ranges from 0 to 10 of the width of the conduit / 2 R forming the gas stream at its outlet / W / #
2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przewód /2/ formuja¬ cy strumien gazu ma ksztalt cylindra.2. Device according to claim 2. A method as claimed in claim 1, characterized in that the conduit (2) forming the gas stream has the shape of a cylinder.
3. Urzadzenie prózniowe do dozowania ilosci gazu padajacego na powierzchnie cial sta¬ lych, doprowadzajace poprzez kapilare impulsowo strumien gazu do powierzchni próbki umiesz¬ czonej w komorze prózniowej, znamienne tym, ze wylot kapilary /3/ wprowadzo¬ ny jest do wnetrza przewodu /?/ formujacego strumien gazu w ksztalcie czaszy kulistej scietej u wylotu, o srednicy /£/ co najmniej 2,5 razy wiekszej od szerokosci /2R/ u wylo¬ tu /W/, przy czym odleglosc A7 wylotu /W/ przewodu /2/ formujacego strumien gazu od po¬ wierzchni próbki hi zawiera sie w granioach od 0 do 10 szerokosci /2R/ u wylotu /W/ prze¬ wodu /2/ formujacego strumien gazu, zas ta szerokosc /2R/ Jest zawarta od 0,5 do 2 szero¬ kosci próbki.129 461 FIG.1 FIG. 2 FIG. 3 PL3. Vacuum device for dosing the amount of gas falling on the surface of solids, impulse a gas stream through the capillary to the surface of the sample placed in the vacuum chamber, characterized in that the outlet of the capillary (3) is introduced inside the conduit /? / forming a stream of gas in the shape of a spherical bowl at the outlet, with a diameter / £ / at least 2.5 times greater than the width / 2R / u of the outlet / W /, the distance A7 of the outlet / W / conduit / 2 / forming the gas stream from the surface of the sample h and ranges from 0 to 10 of the width / 2R / at the outlet / W / of the conduit / 2 / forming the gas stream, and the width / 2R / is from 0.5 to 2 times the width ¬ specimen bones. 129 461 FIG. 1 FIG. 2 FIG. 3 PL