PL128089B1 - Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams - Google Patents

Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams Download PDF

Info

Publication number
PL128089B1
PL128089B1 PL21847079A PL21847079A PL128089B1 PL 128089 B1 PL128089 B1 PL 128089B1 PL 21847079 A PL21847079 A PL 21847079A PL 21847079 A PL21847079 A PL 21847079A PL 128089 B1 PL128089 B1 PL 128089B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
optical system
components
divergence
width
lenses
Prior art date
Application number
PL21847079A
Other languages
English (en)
Other versions
PL218470A1 (en
Inventor
Hanna Bogdan
Tadeusz Chrobak
Jan Luczak
Romuald Pawluczyk
Original Assignee
Ts Lab Optyki
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ts Lab Optyki filed Critical Ts Lab Optyki
Priority to PL21847079A priority Critical patent/PL128089B1/pl
Publication of PL218470A1 publication Critical patent/PL218470A1/xx
Publication of PL128089B1 publication Critical patent/PL128089B1/pl

Links

Landscapes

  • Lenses (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest uklad optyczny do zmiany szerokosci i rozbieznosci wiazek promieniowania laserów.Dotychczas znane byly pojedyncze niestanowiace ciagu uklady optyczne do zmiany szerokosci i rozbieznosci wiazki promieniowania laserowego przewaznie w postaci lunet typu Galileusza lub Keplera, pracujace w stosunkowo malych otworach wzglednych np. 1: k = 1:7. Wsród konstrukcji skladników lunet czesto spotykane byly zespoly dwóch soczewek klejonych, co obnizalo wytrzyma¬ losc na dzialanie promieniowania laserowego, ponadto dla zapewnienia dobrej korekcji aberracji otwór wzgledny byl maly, np. 1: k = 1:7, co dla uzyskania równoleglych wiazek o duzej srednicy wymagalo budowy dlugich ukladów. Skladniki optyczne lunet mialy aberracje korygowane dla linii widmowych e, f, c' /d, f, c/ dla achromatów lub dla wiekszej ilosci linii niz trzy dla superachro- matów lub tez byly to uklady monochromatyczne dla okreslonej linii promieniowania laserowego.Linie najlepszej korekcji skladników lunet róznily sie od najczesciej stosowanych linii laserowych.Achromatyzacja ukladów optycznych w technice laserowej nie jest konieczna, poniewaz zawsze pracuja one w promieniowaniu monochromatycznym, a w przypadku zmiany linii promieniowania mozna je przestrajac.Celem wynalazku jest uzyskanie zestawu ukladów optycznych o wysokiej jakosci i wytrzyma¬ losci na promieniowanie laserowe, przeznaczonych do zmiany szerokosci i rozbieznosci wiazek promienowania laserów nie posiadajacych wad i niedogodnosci dotychczas stosowanych ukladów.Cel ten zostal osiagniety przez opracowanie calego zestawu skladników dodatnich lub uje¬ mnych o stalym, duzym otworze wzdlednym, zbudowanie skladników zestawu wylaczenie z pojedynczych soczewek nieklejonych, skorygowanie aberracji otworowych w calym zakresie widma 488-1060 nm bez achromatyzowania ukladów optycznych oraz skonstruowanie mechani¬ cznych elementów laczacych poszczególne skladniki zestawu.Dzieki opracowaniu calego zestawu skladników dodatnich i ujemnych o skokowej zmianie ogniskowej z ilorazem 2 i 1,5, ze stosunkowo niewielkiej liczby skladników mozna uzyskac duza rodzine stosunkowo krótkich lunetek Galileusza lub Keplera, dla róznych srednic wiazek lasero- LUDOWA URZAD PATENTOWY PRL2 128 089 wych o róznych powiekszeniach i róznych rozbieznosciach zmieniajacych sie skokowo c iloczynie 2 i 1,5 lub stosowac pojedyncze skladniki zestawu do skupiania albo rozpraszania wiazek laserowych przy zachowaniu wymaganego ksztaltu czola fali z dokladnoscia wieksza niz warunek Rayleigha.Przez zbudowanie skladników zestawu wylacznie z pojedynczych soczewek nieklejonych uzyskano wysoka odpornosc ich na uszkodzenia promieniowaniem laserowym.Dzieki skorygowaniu aberracji otworowych (aberracja sferyczna i odstepstwo od warunku sinusów) w calym zakresie widma (dla linii 488 nm, 514,5nm, 632,8 nm, 694,3 nm, 1060 nm) bez achromatyzowania ukladów optycznych uzyskano uklady o dobrej korekcji i duzym otworze wzglednym 1: k = 1:3 przy zastosowaniu typowych szkiel optycznych i malej ilosci soczewek.Dzieki odpowiedniej konstrukcji uchwytu mechanicznego zrealizowano mozliwosc precyzyj¬ nego wspólosiowego polaczenia dodatnich i ujemnych skladników zestawu oraz ich latwa wymien- nosc, zapewniono mozliwosc czyszczenia wiazki laserowej (filtracja przestrzenna) a takze stworzono mozliwosc stosowania skladników zestawu w róznych urzadzeniach i ukladach badawczych.Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest na rysunkach, na których fig. 1 przedstawia lunete typu Keplera w schemacie blokowym zbudowana ze skladników zestawu; fig. 2 — lunete typu Galileusza w schemacie blokowym zbudowana ze skladników zestawu; fig. 3 skladnik o ogniskowej f=450 mm w schmacie; fig. 4 — pozostale skladniki o ogniskowych dodatnich w schemacie; fig. 5 — pozostale skladniki o ogniskowych ujemnych w schemacie ; fig. 6 — uchwyt mechaniczny laczacy dowolne skladniki zestawu.W lunecie typu Keplera równolegla wiazka promieniowania wychodzaca z lasera 1 pada na optyczny dodatni sklanik 2 zestawu i skupiona zostaje w jego ognisku, w którym znajduje sie element czyszczacy 3 wiazke laserowa. Po przejsciu przed dodatni skladnik 4 powstaje znów wiazka równolegla.Rózne kombinacje zestawiania lunet typu Keplera i mozliwe uzyskiwane w nich powiekszenia oraz szerokosci wiazek laserowych przedstawia tabela I.W lunecie typu Galileusza równolegla wiazka promieniowania wychodzaca z lasera 1 przecho¬ dzi przez dodatni skladnik 5 i ujemny skladnik 6 ulegajac poszerzeniu. Mozliwe uzyskiwane powiekszenia i srednice wiazek laserowych w lunecie typu Galileusza przedstawia tabela II.Przedstawiony na fig. 3 skladnik o ogniskowej f = 450 nm sklada sie z czterech soczewek 7,8,9 i 10.Przedstawiony na fig. 4 skladnik dodatni sklada sie z trzech soczewek 11,12 i 13. Skladniki zbudowane z takich soczewek moga miec nastepujace ogniskowe: f=300mm; f=192mm; f=96mm; f=48mm oraz f=24mm, w zaleznosci od doboru parametrów tych soczewek.Przedstawiony na fig. 5 skladnik ujemny sklada sie z trzech soczewek 14,15 i 16. Skladniki zbudowane z takich soczewek moga miec nastepujace ogniskowe: f=-96mm; f=-48mm; f=-24mm; f=-12mm; f=-6mm.Kolejne promienie krzywizn soczewek w podanym przykladzie szczególowego rozwiazania oznaczono kolejnymi symbolami od n do r2o, grubosci soczewek oraz odstepy powietrzne miedzy nimi oznaczono — di do dn, srednice czynna odpowiedniego skladnika oznaczono — D. Dane konstrukcyjne skladników zestawu (promienie powierzchni soczewek, odstepy miedzy nimi oraz wartosci wspólczynników zalamania i dyspersji szkiel optycznych) przedstawiono w tabeli III oraz w tabeli IV.W uchwycie mechanicznym przedstawionym na fig. 6 zamocowane sa wspólosiowo tuleje osadcze 18 i 19 z kolkami ustalajacymi 21 i gwintowanymi pierscieniami mocujacymi 20. Kazdy ze skladników dodatnich i ujemnych obudowany jest w tuleje 17 zakonczona czescia osadcza z wycieciem i gwintem umozliwiajacymi jednoznaczne ustawienie skladnika w tulei osadczej 18 i 19.Przesuw skladnika zestawu wzdluz osi optycznej realizuje sie przez obrót pierscienia 22 przesuwajacego tuleje osadcza 19 dzieki polaczeniu gwintowemu. Wpust 23 zabezpiecza tuleje osadcza 19 przed obrotem. Wewnatrz uchywtu mechanicznego w obudowie 24 umieszczony jest mechanizm krzyzowy 25 z gniazdem, w którym osadzony jest wymienny element 26 z otworem umozliwiajacym czyszczenie wiazki laserowej (filtracja przestrzenna). Prawidlowe ustawienie otworu czyszczacego wiazke laserowa uzyskuje sie przez przemieszczanie go ruchem krzyzowym w128089 3 plaszczyznie prostopadlej do osi ukladu. Ruch krzyzowy mechanizmu 2!5 realizuje sie obrotem bebnów srub mikrometrycznych 27.Efektem techniczno-ekonomicznym stosowania wynalazku jest unifikacja skladników zestawu umozliwiajaca ich stosowanie w róznych przyrzadach i badawczych ukladach laserowych.Tabela I f/Dskla: f/Dskta. 450/150 300/100 192/64 96/32 48/16 24/8 450/150 1 1,5 2,34 4,69 9,375 18,75 300/100 0,67 1 1,56 3,125 6,25 12,5 192/64 0,43 0,64 1 2 4 8 96/32 0,21 0,32 0,5 1 2 4 48/16 0,11 0,16 0,25 0,5 1 2 24/8 0,05 0,08 0,125 0,25 0,5 1 gdzie: f — ogniskowa skladnika D — srednica czynna skladnika T a b e la II f/Dsklas f/Dsklas -96/32 -48/16 -24/8 -12,4 450/150 4,69 9,375 18,75 37,5 300/100 3,125 6,25 12,5 25 192/64 2 4 8 16 96/32 — 2 4 8 48/16 — — 2 4 24/8 — — — 2 - 6/2 " 75 50 32 16 8 4128089 Tabela III Skladnik o ogniskowej f 450 300 192 96 48 24 Promienie krzywizn r,= 490 r2=-993 r3=-687 r4 1820 r5 299 r6= 172 r7= 173 r8= 769 r9 = 446 r io=-200 ru = -194 n2=-820 r,3= 175 ru= 993 r9 = 285 r,0=-127 r,, = -123 ri2=-508 r„= 110 ru= 562 r9 = 123 rio= -61 r„= -59 r,2=-280 r,3= 53 ru= 201 r»=60 r,0= -31 r„= -30 r,2=-143 rn= 27 r,4= 104 r9 = 28 rio=-16 rn = -15 r,2=-76 rn= 12 Odleglosc miedzy powierzchniami d,= 19 d210 d3=12 d4= 128 d5=10 d«=41 d7=15 d8 =16 d9=6 d10=7 du = 3 d12=15 dg =11 d9=4 dio=5 d,, = 2 di2=10 d8 =6 d9 =2 d10=3 d„=l d = 5 d, =3 d9 =1 d,o=3 du = l d,2=3 dg =2 d» =1 d,o=l d„=l dn=2 Wspólczynniki zalamania 1,69401 1 1,85504 1 1,85504 1 1,69401 1,55440 1 1,72005 1 1,46619 1,55440 1 1,72055 1 1,46619 1,55440 1 1,72055 1 1,46619 1,55440 1 1,72055 1 1,46619 1,55440 1 1,72055 1 1,46619 Liczba Abbego 54,5 23,6 23,6 54,5 63,3 47,7 65,5 63,3 47,7 65,5 63,3 47,7 65,5 63,3 47,7 65,5 63,3 47,7 65,5 Tabela IV Skladnik o ogniskowej f Promienie krzywizn Odleglosc miedzy powierzchniami Wspólczynniki zalamania Liczba Abbego -96 r,5= 507 ri«= 83 r,7=-482 r,«=-129 r,9=-166 f2o= 88 d„=4 du=5 d,j=5 d,«=2 d,7=3 1,46619 1 1,71059 1 1,55440 65,5 47,7 63,3128089 $ r,5= 134 du=2 1,46619 65,5 r,«= 31 d,4=3 1 -48 rl7=-117 d,5=3 1,72055 47,7 r»= -37 d,«=l 1 r»= -36 d,7=2 1,55440 63,3 r*=79 ris= 96 du=l 1,46619 65,5 r,«= 17 dM=2 1 -24 rn=-62 d.5=2 1,72055 47,7 r,,=-19 d,«=l 1 r„=-18 dn=l 1,55440 63,3 rio=40 r,j= 62 d,j=2 1,46619 65,5 rw= 9 d,4=3 1 -12 ri7=-31 di5=2 1,72055 47,7 r«=-10 dM-l 1 r„= -9 di7=l 1,55440 633 r»= 26 r15= 35 d,,=l 1,46619 65,5 Tu= 5 dw*2 1 -6 r17=-17 di5=2 1,72055 47,7 ru= -6 di«=l 1 r,,= -5 dn=l 1,55440 633 r»= 13 Zastrzezenia patentowe 1. Uklad optyczny do zmiany szerokosci i rozbieznosci wiazki promieniowania laserów, znamienny tym, ze sklada sie z trzech skladników dodatnich (2,4,5) i jednego skladnika ujemnego (6) majacych staly otwór wzgledny i skorygowana aberracje sferyczna,przyczymskladniki(2,4,5, 6) sa elementami wymiennymi a ich ogniskowe tworza ciagi geometryczne. 2. Uklad optyczny wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze skladniki (2,4,5, f) zbudowane z pojedynczych soczewek nieklejonych umieszczone sa w obudowach o identycznych zakonczeniach osadzonych wspólosiowo w tulejach (18, 19) uchwytu mechanicznego, z mozliwoscia przesuwu wzdluz wspólnej osi. 3. Uklad optyczny wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze pomiedzy tulejami osadczymi (18,19) umieszczone sa w mechanizmie ruchu krzyzowego (25) wymienne elementy (26) z otworami, których polozenie w plaszczyznie prostopadlej do osi optycznej ukladu ustala sie przez obrót srub mikrometrycznych (27).128089 1 V z r \ \ 4 ~l ( \ l .1 1 T Fig. 1 1 j' 1 ! i i \ V 1 Ra. 2128089 8 d,\ 4. f, / '/ RgJ 1L A. 12- 4rif.f» Y" ftf « iS 16 r9 l, rH r^ r„ ru r* rf6 rvrwrf9 r* Fig. 4 Fia.S128089 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 cgz.Cena 100 zl PL

Claims (4)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Uklad optyczny do zmiany szerokosci i rozbieznosci wiazki promieniowania laserów, znamienny tym, ze sklada sie z trzech skladników dodatnich (2,4,5) i jednego skladnika ujemnego (6) majacych staly otwór wzgledny i skorygowana aberracje sferyczna,przyczymskladniki(2,4,5, 6) sa elementami wymiennymi a ich ogniskowe tworza ciagi geometryczne.
  2. 2. Uklad optyczny wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze skladniki (2,4,5, f) zbudowane z pojedynczych soczewek nieklejonych umieszczone sa w obudowach o identycznych zakonczeniach osadzonych wspólosiowo w tulejach (18, 19) uchwytu mechanicznego, z mozliwoscia przesuwu wzdluz wspólnej osi.
  3. 3. Uklad optyczny wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze pomiedzy tulejami osadczymi (18,19) umieszczone sa w mechanizmie ruchu krzyzowego (25) wymienne elementy (26) z otworami, których polozenie w plaszczyznie prostopadlej do osi optycznej ukladu ustala sie przez obrót srub mikrometrycznych (27).128089 1 V z r \ \ 4 ~l ( \ l .1 1 T Fig. 1 1 j' 1 ! i i \ V 1 Ra. 2128089 8 d,\
  4. 4. f, / '/ RgJ 1L A. 12- 4rif.f» Y" ftf « iS 16 r9 l, rH r^ r„ ru r* rf6 rvrwrf9 r* Fig. 4 Fia.S128089 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 cgz. Cena 100 zl PL
PL21847079A 1979-09-24 1979-09-24 Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams PL128089B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21847079A PL128089B1 (en) 1979-09-24 1979-09-24 Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21847079A PL128089B1 (en) 1979-09-24 1979-09-24 Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL218470A1 PL218470A1 (en) 1981-03-27
PL128089B1 true PL128089B1 (en) 1983-12-31

Family

ID=19998509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21847079A PL128089B1 (en) 1979-09-24 1979-09-24 Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL128089B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL218470A1 (en) 1981-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2392959B1 (en) Imaging optical system, and microscope apparatus and stereo microscope apparatus, having the imaging optical system
US6934011B2 (en) Method for optimizing the image properties of at least two optical elements as well as methods for optimizing the image properties of at least three optical elements
CN102914861B (zh) 扫描共焦显微术中的改进以及与之相关的改进
SE442558B (sv) Sett och anordning for astadkommande av ett koncentriskt holje vid enden av en optisk fiber
JP6408238B2 (ja) 屈折式ビーム整形器
JP3474835B2 (ja) Duvに使用可能な同焦点irフォーカス形顕微鏡対物レンズ
PL128089B1 (en) Optical system for change of the width and divergence of laser radiation beams
Shack Analytic system design with pencil and ruler--the advantages of the yy diagram
US5485307A (en) Binoculars
JPH1195117A (ja) 双眼実体顕微鏡用高倍対物光学系
US5159492A (en) Objective lens system for use within microscope
Chabot et al. Fabrication and characterization of aluminum image slicers
JP2000284184A (ja) 平行系実体顕微鏡及び対物レンズ
Parks Alignment of optical systems
US6456431B2 (en) Stereomicroscope and dark field illumination apparatus
Shafer et al. Small catadioptric microscope optics
US5717520A (en) Intermediate lens barrel for microscope
JP2009229547A (ja) 光学ユニットおよび測定装置
US20190113730A1 (en) Observation apparatus
WO1995018983A1 (en) Microscope subassembly method and apparatus
Frolov et al. Optical design of budget objectives for mass production microscopes
Parks Tabletop alignment using a Bessel beam and an autostigmatic microscope
US10678033B2 (en) Zoom system with interchangeable optical elements
JP6972112B2 (ja) 顕微鏡用の変更システム
Mitsui et al. Fabrication of slicer optics of mid-infrared spectrometer with an image slicer (MIRSIS) for ground-based astronomy