PL125486B1 - Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks - Google Patents
Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks Download PDFInfo
- Publication number
- PL125486B1 PL125486B1 PL22107279A PL22107279A PL125486B1 PL 125486 B1 PL125486 B1 PL 125486B1 PL 22107279 A PL22107279 A PL 22107279A PL 22107279 A PL22107279 A PL 22107279A PL 125486 B1 PL125486 B1 PL 125486B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- resistive
- voltage
- clicks
- resistive elements
- low level
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Adjustable Resistors (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania elementów rezystywnych, zwlaszcza do potencjo¬ metrów warstwowych o niskim poziomie napiecia trzasków, przeznaczony do produkcji wielkoseryj- nej.Obecnie produkowane i stosowane elementy re¬ zystywne do potencjometrów, wykazuja stosunko¬ wo duzy poziom napiecia trzasków rzedu 3 mV/V pnzy 20 V napiecia pomiarowego. Wynika to z fak¬ tu, ze powierzchnia warstwy rezystywnej nie jest gladka, ma nierównosci, które w sposób zasadniczy wplywaja na poziom trzasków w potencjometrach.Wysoki poziom trzasków jest zjawiskiem szkod¬ liwym, powodujacym zla jakosc gotowego wyrobu oraz reklamacje, przy zwiekszonej ilosci braków.Celem wynalazku jest usuniecie powyzszych wad i niedogodnosci, poprzez mechaniczne dogniatanie i wygladzanie warstwy rezystywnej.Istote techniczna rozwiazania wedlug wynalazku stanowi sposób wytwarzania elementów rezystyw¬ nych, zwlaszcza do potencjometrów warstwowych o niskim poziomie napiecia trzasków, polegajacy na poddaniu warstwy rezystywnej elementu rezystyw¬ nego operacji mechanicznego dogniatania z posliz¬ giem, przy zadanym docisku stempla do elementu rezystywnego i jego ruchu oscylacyjnym, który to ruch przesuwowy wykonywany jest w plaszczyznie prostopadlej do nacisku.Tak uzyskana warstwa rezystywna charaktery¬ zuje sie znacznie wieksza gladkoscia powierzchni, 10 15 mniejszym poziomem napiecia trzasków, zwiek¬ szona jednorodnoscia wanistwy, zwiekszona trwa¬ loscia. Bezpostaciowa regulacja nacisku na warstwe rezystywna, zapewnia równoczesnie korekcje war¬ tosci rezystancji elementu rezystywnego, zas ruch oscylacyjny stempla dogniatajacego umozliwda bar- cbziej skuteczne wygladzanie powierzchni warstwy rezystywnej elementu rezystywnego, jej ujedno- rodnienie i zageszczenie. Ponadto proces technolo¬ giczny zapewnia zwiekszenie trwalosci warstwy, umozliwia korekcje rezystancji calkowitej i zmniej¬ sza ilosc braków.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania.Przy ugniataniu z poslizgiem, element rezystywny jest osadzony na matrycy przesuwajacej sie tam i z powrotem w plaszczyznie poziomej, zas metalo¬ wy stempel ugniatajacy poddany dzialaniu sily do¬ ciskowej, ma wywolany ruch cykliczny, prostopadly do przesuwu matrycy. Dopuszczalny jest zlozony ruch stempla dogniatajacego, przy nieruchomej matrycy z plytka rezystywna. Proponowana tech¬ nologia nie jest stosowana w technice swiatowej.Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania elementów rezystywnych zwlaszcza do potencjometrów warstwowych o nis¬ kim poziomie napiecia trzasków, znamienny tym, ze warstwa rezystywna elementu rezystywnego poddana jest operacji mechanicznego dogniatania z poslizgiem przy zadanym docisku stempla do ele- 125 486 u n.125 486 merbtu rezystywnego i jego ruchu oscylacyjnym, wykonywany jest w plaszczyznie prostopadlej do który to ruch przesuwowy warstwy rezystywnej nacisku.OZGraf. Z.P. Dz-wo, z. 926 (85+15) 3.85 Cena 100 zi PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania elementów rezystywnych zwlaszcza do potencjometrów warstwowych o nis¬ kim poziomie napiecia trzasków, znamienny tym, ze warstwa rezystywna elementu rezystywnego poddana jest operacji mechanicznego dogniatania z poslizgiem przy zadanym docisku stempla do ele- 125 486 u n.125 486 merbtu rezystywnego i jego ruchu oscylacyjnym, wykonywany jest w plaszczyznie prostopadlej do który to ruch przesuwowy warstwy rezystywnej nacisku. OZGraf. Z.P. Dz-wo, z. 926 (85+15) 3.85 Cena 100 zi PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22107279A PL125486B1 (en) | 1979-12-28 | 1979-12-28 | Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22107279A PL125486B1 (en) | 1979-12-28 | 1979-12-28 | Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL221072A1 PL221072A1 (pl) | 1981-07-24 |
| PL125486B1 true PL125486B1 (en) | 1983-05-31 |
Family
ID=20000593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL22107279A PL125486B1 (en) | 1979-12-28 | 1979-12-28 | Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL125486B1 (pl) |
-
1979
- 1979-12-28 PL PL22107279A patent/PL125486B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL221072A1 (pl) | 1981-07-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2752540C2 (de) | Druckempfindliches elektrisches Widerstandselement und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| US5162775A (en) | Variable resistor utilizing extension type conductive rubber | |
| DE212016000143U1 (de) | Tastaturschalter | |
| AU6790090A (en) | A method of controlling the quality of dough during its processing | |
| US3037122A (en) | Multiple photocells | |
| CN104998947B (zh) | 一种基于多点模具的厚板空间曲面成形方法 | |
| PL125486B1 (en) | Method of manufacture of resistive elements,especially for film-type resistors of low level of voltage of clicks | |
| DE3784009T2 (de) | Brueckenschaltungsjustierverfahren fuer halbleiterdruckwandler. | |
| DE69802047T2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Matrize für eine Biegepresse und zum Bestimmen der Niederhalterkräfte | |
| CN116661401A (zh) | 一种不锈钢带生产工艺控制优化方法及系统 | |
| USRE31431E (en) | Movable wiper for potentiometers | |
| DE112019007068T5 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Doppelseitenpolieren eines Werkstücks | |
| US3531753A (en) | Variable resistor contact device | |
| CN112630065A (zh) | 一种fpc折弯疲劳寿命s-n曲线的多数据测试方法 | |
| US4237443A (en) | Movable wiper for potentiometers | |
| CN112763353B (zh) | 一种fpc折弯疲劳寿命s-n曲线的测试方法 | |
| US2050479A (en) | Contact bank | |
| JP2594234B2 (ja) | セラミック製電子回路基板の形成方法及びその形成装置 | |
| JPH0780550A (ja) | 長尺ｕ曲げ加工の高精密プレス装置 | |
| Mamer et al. | Production of 3D printed flexible strain sensors | |
| DE112019002614T5 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Doppelseitenpolieren eines Werkstücks | |
| SU977925A1 (ru) | Способ определени пластической деформации образцов | |
| EP1077377B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln der Qualität der Oberflächenstruktur von Häuten | |
| SU742740A1 (ru) | Установка дл проведени стойкостных испытаний | |
| US3605345A (en) | Lens surface grinding method and apparatus |