PL123846B2 - Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films - Google Patents

Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films Download PDF

Info

Publication number
PL123846B2
PL123846B2 PL22549680A PL22549680A PL123846B2 PL 123846 B2 PL123846 B2 PL 123846B2 PL 22549680 A PL22549680 A PL 22549680A PL 22549680 A PL22549680 A PL 22549680A PL 123846 B2 PL123846 B2 PL 123846B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
heater
holes
thin dielectric
base
laboratory furnace
Prior art date
Application number
PL22549680A
Other languages
English (en)
Other versions
PL225496A2 (pl
Inventor
Andrzej Szulc
Original Assignee
Univ Slaski
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Slaski filed Critical Univ Slaski
Priority to PL22549680A priority Critical patent/PL123846B2/pl
Publication of PL225496A2 publication Critical patent/PL225496A2/xx
Publication of PL123846B2 publication Critical patent/PL123846B2/pl

Links

Landscapes

  • Resistance Heating (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest piec do wytwarzania cienkich warstw dielektrycznych na podlo¬ zach metalicznych i niemetalicznych w polach stalych i zmiennych.Znane piece do wytwarzania cienkich warstw dielektrycznych skladaly sie z elektrycznych grzejników, z których jeden sluzy do podgrzewania ceramiki dielektrycznej, a drugi do podgrzewa¬ nia podloza, na którym uzyskuje sie cienkie warstwy dielektryczne. Nakladanie warstw dielektry¬ cznych na podloza odbywa sie pod zmniejszonym cisnieniem polach stalych i zmiennych.Grzejniki stosowane w tych piecach byly wykonane w calosci przy czym grzejnik ceramik byl umieszczony trwale w szkle kwarcowym zalepionym ogniotrwalym tworzywem. Wada tego rodzaju grzejników byla mala sprawnosc termiczna wymagajaca dluzszego nagrzewania lub stoso¬ wania wiekszych mocy. W przypadku przepalania sie spirali elektrycznej caly drogi grzejnik nie nadawal sie do regeneracji. Uciazliwe bylo równiez dopasowywanie ceramiki do srednicy wewne¬ trznej rurki kwarcowej oraz samo wykonanie calej grzalki. Grzejniki do podgrzewania podlozy na których otrzymywano cienkie warstwy zarówno w polach stalych i zmiennych posiadaly nieko¬ rzystny stosunek mocy grzalki do masy wlasnej, co wiaze sie przede wszystkim ze zbyt niska temperatura na powierzchni podloza. Niedostatecznie rozwiazana byla równiez sprawa z mocowa¬ niem maski jako elementu nosnego podloza oraz sposób pomiaru temperatury grzejnika.Wymienione niedomagania zostaly usuniete dzieki zastosowaniu konstrukcji pieca wedlug niniejszego wynalazku.Istota wynalazku polega na tym, ze piec posiada grzalke ceramik dielektrycznych zaopatrzona w stalowa kolowa wkladke z przelotowymi otworami, wewnatrz których osadzone sa kwarcowe rurki ze spiralami elektrycznymi. Calosc jest umieszczona w specjalnie uformowanej ceramicznej oslonie, która stanowi jego podstawe. Bezposrednio na stalowej wkladce jest umieszczona cera¬ mika dielektryczna, która pod wplywem pola stalego lub zmiennego i obnizonego cisnienia emituje czastki ceramiki dielektrycznej. Natomiast grzejnik podlozy stanowi wielokatny stalowy blok z przelotowymi otworami, wewnatrz których osadzone sa kwarcowe rurki ze spiralami elektry¬ cznymi i jest wyposazony w maske z otworem, przez który nanoszona jest cienka warstwa oraz w otwory boczne na sruby mocujace. Tak wykonany piec umozliwia szybka i latwa wymiane poszczególnych elementów, zwlaszcza grzewczych w przypadku ich uszkodzenia.2 123846 Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladowym rysunku.Piec sklada sie z podstawy 1 w której jest osadzony grzejnik ceramik dielektrycznych 2, a nad nim w tej samej osi pionowej grzejnik podlozy 3 zamocowany do ramienia 4 statywu 5. Calosc w znany sposób jest umieszczona w prózniowym kloszu 6.Grzejnik ceramik dielektrycznych 2 sklada sie ze stalowej wkladki 7z przelotowymi otworami 8, w których osadzone sa kwarcowe rurki 9 z elektrycznymi spiralami 10. Grzejnik 2 jest umie¬ szczony w ceramicznej oslonie 11 stanowiacej jednoczesnie jego podstawe. Na wkladce 7 umie¬ szczona jest ceramika 12.Grzejnik podlozy 3 stanowi wielokatny stalowy blok 13 z otworami 14. W otworach tych umieszczone sa kwarcowe rurki 15, w których znajduje sie elektryczna spirala 16. Blok 13 po jego zewnetrznej stronie zaopatrzony jest w maske 17, która od dolu posiada otwór 18 odslaniajacy ta czesc podloza 19, na której ma byc naniesiona warstwa dielektryczna. Maska 17 obejmuje swoimi pionowymi ramionami 25 blok 13, a sruby 20 ustalaja polozenie maski wzgledem bloku.Do grzejnika 2 sa podlaczone w znany sposób przewody elektryczne 21 doprowadzajace prad zarzenia spirali oraz wysokie napiecie ujemne. Do grzejnika 3 oprócz przewodów 22 doprowadza¬ jacych prad zarzenia spirali elektrycznej doprowadzone sa przewody 23 polaczone z termopara.Statyw 5 oraz grzejnik 3 polaczony jest elektrycznie z masa urzadzenia, która znajduje sie na wysokim potencjale anody.Na rysunku liniami przerywanymi 24 pokazano kierunek emisji czastek materialu ceramiki 12 rozpylanej w kierunku podloza 19.Zastrzezenie patentowe Piec laboratoryjny do wytwarzania cienkich warstw dielektrycznych skladajacy sie zgrzejnika ceramik dielektrycznych oraz grzejnika podlozy umieszczony w jednej osi pionowej, znamienny tym, ze grzejnik ceramik dielektrycznych (2) posiada w stalowa kolowa wkladke (7) z przelotowymi otworami (8), w których osadzone sa kwarcowe rurki (9) z elektrycznymi spiralami (10) oraz w ceramiczna oslone (11) stanowiaca równoczesnie jego podstawe, natomiast grzejnik podlozy (3) stanowi wielokatny stalowy blok (13) z otworami (14), w których umocowane sa rurki kwarcowe (15) ze spiralami elektrycznymi (16), oraz jest wyposazony w maske (17) z otworem (18) i otworami bocznymi pod sruby mocujace (20).123846 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Piec laboratoryjny do wytwarzania cienkich warstw dielektrycznych skladajacy sie zgrzejnika ceramik dielektrycznych oraz grzejnika podlozy umieszczony w jednej osi pionowej, znamienny tym, ze grzejnik ceramik dielektrycznych (2) posiada w stalowa kolowa wkladke (7) z przelotowymi otworami (8), w których osadzone sa kwarcowe rurki (9) z elektrycznymi spiralami (10) oraz w ceramiczna oslone (11) stanowiaca równoczesnie jego podstawe, natomiast grzejnik podlozy (3) stanowi wielokatny stalowy blok (13) z otworami (14), w których umocowane sa rurki kwarcowe (15) ze spiralami elektrycznymi (16), oraz jest wyposazony w maske (17) z otworem (18) i otworami bocznymi pod sruby mocujace (20).123846 PL
PL22549680A 1980-07-03 1980-07-03 Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films PL123846B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22549680A PL123846B2 (en) 1980-07-03 1980-07-03 Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22549680A PL123846B2 (en) 1980-07-03 1980-07-03 Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL225496A2 PL225496A2 (pl) 1981-05-22
PL123846B2 true PL123846B2 (en) 1982-11-30

Family

ID=20004089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL22549680A PL123846B2 (en) 1980-07-03 1980-07-03 Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL123846B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL225496A2 (pl) 1981-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7312422B2 (en) Semiconductor batch heating assembly
US8823404B2 (en) Evaluation device and evaluation method for substrate mounting apparatus and evaluation substrate used for the same
US20050173410A1 (en) Ceramic heaters
GB2373582A (en) Temperature sensing probe assembly
US4499382A (en) Infrared source element
PL123846B2 (en) Laboratory furnace for manufacturing thin dielectric films
US12382987B1 (en) Electronic hookah with sheet-like heating device
JPH06105634B2 (ja) 半導体ウエハー加熱装置
JP3014901B2 (ja) 熱処理装置
SU1487514A1 (ru) Подставка под кварцевый тигель ;
JP2604944B2 (ja) 半導体ウエハー加熱装置
Davenport et al. Design and performance of electric furnaces with oxide resistors
US7082261B2 (en) Heating stage
US4214117A (en) Furnace heated by radiation
Sapritsky et al. Blackbody sources for the range 100 K to 3500 K for precision measurements in radiometry and radiation thermometry
EP0235570B1 (en) Susceptor
WO2020111958A1 (en) A device for conducting biological amplification reactions
JPS61116246A (ja) 液中にて使用する赤外線放射体
JP2001167862A (ja) ヒータ及び該ヒータの端子部構造
SU389637A1 (ru) Индукционное нагревательное устройство
CN208901886U (zh) 一种中频感应电炉
SU761585A1 (ru) Тупиковая радиационная труба 1
SMYTH et al. A High‐Temperature Vacuum Induction Furnace
JPH031790Y2 (pl)
JP2001124477A (ja) 溶融金属炉用チューブヒータ