Przedmiotem wynalazku jest kapiel cyjankowa do eiektralityoznego osadzania blyszczacych powlok srebrnych o podwyzszonej twardosci dla celów de¬ koracyjnych i technicznych a zwlaszcza na nakry¬ ciach stolowych, dla których podwyzszenie twar¬ dosci powloki jest szczególnie istotne.Znane kapiele cyjankowe do srebrzenia dekora¬ cyjnego i technicznego zawieraja jako dodatki wy¬ blyszczajace szereg zwiazków organicznych i nie¬ organicznych zawierajacych siarke, na przyklad tio¬ siarczany, dwusiarczek wegla, tiocyjaniany, zwiaz¬ ki zawierajace selen, na przyklad seleniny, ponad¬ to szereg substancji pomocniczych bedacych naj¬ czesciej zwiazkami zmniejszajacymi napiecie po¬ wierzchniowe, na przyklad gliceryna, glikole, sul¬ fonowane alkohole oraz kombinacje wymienionych zwiazków. Kapiele, które umozliwiaja osadzanie powlok blyszczacych o zwiekszonej i nie zmniej¬ szajacej sie w czasie twardosci zawieraja ponadto dodatek antymonu. Uzyskiwane w opisanych ka¬ pielach efekty sa zwykle niepelne, poniewaz na przyklad powloke o dostatecznym polysku mozna otrzymac tylko na dobrze wypolerowanym podlozu lub przy niezbyt grubych powlokach i w waskim zakresie katodowych gestosci pradu. W niektórych przypadkach polysk uzyskiwanych za pomoca tych kapieli powlok jest mniejszy od polysku* mecha¬ nicznie wypolerowanego wzorca, itp.Kapiel cyjankowa wedlug wynalazku do elektro¬ litycznego osadzania blyszczacych powlok srebr- 10 15 25 30 nych o - podwyzszonej twardosci zawiera cyjanek srebra, cyjanki i weglany metali alkalicznych, an¬ tymon w postaci rozpuszczonego w wodzie kom¬ pleksu o stezeniu Sb od 0,2 do 2 g/l oraz substan¬ cje wyblyszczajaca i wedlug istoty wynalazku cha¬ rakteryzuje sie tym, ze 'jako substancje wyblysz¬ czajaca zawiera co najmniej jeden ze zwiazków o wzorze ogólnym 1 lub 2, w którym Ri oznacza atom wodoru lub wiazanie do N, R2 oznacza po¬ chodna alkilowa CnH2n+i, R3 oznacza pochodna al- kilosu.lfonowa CnH2nC03H lub pochodna alkilosiar- czanowa CnH2nS04H lub sole metali alkalicznych wymienionych pochodnych zas R4 oznacza R2 lub R3 lub pochodna alkilohydroksylowa lub atom wo¬ doru, ewentualnie R4 oznacza pochodna alkilosul- fonowa CnH2nS03H lub pochodna alkilosiarcza- nowa CnH2nS04H lub sole metali alkalicznych tych pochodnych wówczas gdy R3 oznacza pochodna al¬ kilohydroksylowa lub atom wodoru, gdzie n ozna¬ cza liczby calkowite od 0 do 18, przy czym liczby n moga byc w poszczególnych grupach funkcyj¬ nych rózne a sumaryczne stezenie substancji wy- blyszczacej jest zawarte w granicach od 0,05 do 10 g/l.Efektem stosowania w kapieli takich substancji wyblyszczajacych' jest uzyskanie dobrego polysku powlok o podwyzszonej twardosci w szerokim za¬ kresie katodowych gestosci pradu.Rozwiazanie wedlug wynalazku jest przedstawio¬ ne ponizej w przykladzie'wykonania. 123 411123 411 Przyklad. Kapiel zawiera 37,5 g/l cyjanku srebra, 85 g/l cyjanku potasu, 50 g/l cyjanku so¬ du, 10 g/l weglanu sodu, 0,5 g/l antymonu w po¬ staci kompleksu z trójetanoloamina oraz 0,25 g/l alkilosiarczanu sodowego laurylo cyklomidynu kwasu l-etoksyetionowego 2-etionowego o wzorze ogólnym 2. Proces srebrzenia w tej kapieli pro¬ wadzono przy katodowej gestosci pradu równej 0,9 A/dm2, mieszajac kapiel szyna katodowa. Uzy¬ skano w tych warunkach powloke o polysku 100% wzgledem polysku mechanicznie polerowanego wzorca mierzonym metoda Langego i o twardosci HVo,o2—180.Zastrzezenie patentowe Kapiel cyjankowa do elektrolitycznego osadzania blyszczacych powlok srebrnych o podwyzszonej za¬ wartosci zawierajaca cyjanek srebra, cyjanki i we¬ glany metali alkalicznych, antymon w postaci rozpuszczonego \y wodzie kompleksu o stezeniu Sb 15 od 0,2 do 2 g/l oraz substancje wyblyszczajaca, znamienna tym, ze jako substancje wyblyszczajaca zawiera co najmniej jeden ze zwiazków o wzorze ogólnym 1 lub 2, w których Ri oznacza atom wo¬ doru lub wiazanie do N, R2 oznacza pochodna al¬ kilowa CnH2n+i, Rs oznacza pochodna alkilosulfo- nowa CnH2nS03H lub pochodna alkilosiarczanowa CnH2nS04H lub sole metali alkalicznych wymienio¬ nych pochodnych zas R4 oznacza R2 lub Rs lub pochodna alkilohydroksylowa lub atom wodoru, ewentualnie R4 oznacza pochodna alkilosulfonowa CnH2nS03H lub pochodna alkilosiarczanowa CnH2nS04 lub sole metali alkalicznych pochodnej alkilosulfonowej lub alkilosiarczanowej wówczas, gdy R3 oznacza pochodna alkilohydroksylowa lub atom wodoru, gdzie n oznacza liczby calkowite od 0 do 18, przy czym liczby n moga byc w poszcze¬ gólnych grupach funkcyjnych rózne a sumaryczne stezenie substancji wyblyszczajacej jest zawarte w granicach od 0,05 do 10 g/l./ CU— Ofe R«-N\ ^ N—R, 1 :uc "2. wzdr A i I Uzóy 2 PZG O/Piotrków &71 5.84 120 egz.Cena 100 zl PLThe subject of the invention is a cyanide bath for erectile deposition of shiny silver coatings of increased hardness for decorative and technical purposes, especially on table covers, for which increasing the hardness of the coating is particularly important. contain as gloss additives a number of organic and inorganic compounds containing sulfur, e.g. surfactants, for example glycerin, glycols, sulfonated alcohols, and combinations of the foregoing. Baths that enable the deposition of glossy coatings with increased and not decreasing with time hardness also contain the addition of antimony. The effects obtained in the baths described are usually incomplete since, for example, a sufficiently glossy coating can only be obtained on a well-polished substrate or with coatings not too thick and within a narrow range of cathodic current densities. In some cases, the gloss of these coating baths is less than the gloss of a mechanically polished standard, etc. The cyanide dip according to the invention for electrolytically depositing shiny silver-hard coatings contains silver cyanide, cyanide and carbonate of alkali metals, anthymon in the form of a complex dissolved in water with a concentration of Sb from 0.2 to 2 g / l, and a brightening agent, and according to the essence of the invention, it is characterized by the fact that contains at least one of the compounds of general formula I or 2, in which R 1 is a hydrogen atom or a bond to N, R 2 is a CnH2n + alkyl derivative and, R3 is an alkyl derivative of CnH2nCO3H or a CnH2nSO4H alkyl sulfate derivative or alkali metal salts of the said derivatives and R4 is R2 or R3 or an alkylhydroxy derivative or a hydrogen atom, optionally R4 is an alkylsulfone derivative CnH2nSO3H or a derivative CnH2nSO4H alkylsulphate or alkali metal salts of these derivatives when R3 is an alkylhydroxy derivative or a hydrogen atom, where n stands for integers from 0 to 18, the numbers n may be different in individual functional groups and the total concentration The gloss substance is contained in the range from 0.05 to 10 g / l. The effect of using such gloss substances in a bath is to obtain a good gloss of coatings with increased hardness in a wide range of cathodic current densities. The solution according to the invention is presented below in the implementation example. 123 411 123 411 Ex. The bath contains 37.5 g / l of silver cyanide, 85 g / l of potassium cyanide, 50 g / l of sodium cyanide, 10 g / l of sodium carbonate, 0.5 g / l of antimony as a complex with triethanolamine and 0 25 g / l of sodium lauryl cyclomidine alkyl sulphate of 1-ethoxyethionic 2-ethionic acid of general formula 2. The silvering process in this bath was carried out at a cathodic current density of 0.9 A / dm 2 by stirring the bath cathode rail. Under these conditions, a coating with a gloss of 100% in relation to the gloss of a mechanically polished standard measured by the Lange method and with HVo hardness of about 2-180 was obtained. Patent claim Cyanide bath for electrolytic deposition of shiny silver coatings with an increased content of silver cyanide and silver cyanide, alkali metal carbonates, antimony in the form of a dissolved water complex with Sb 15 concentration from 0.2 to 2 g / l and a polishing agent, characterized in that at least one of the compounds of general formula 1 or 2 is present as the brightening agent, in where Ri is a hydrogen atom or a bond to N, R2 is a CnH2n + alkyl derivative, Rs is a CnH2nSO3H alkylsulphate derivative or a CnH2nSO4H alkyl sulphate derivative or alkali metal salts of the said derivatives and R4 is R2 or Rs or an alkylhydroxy derivative or a hydrogen atom, optionally R4 is a CnH2nSO3H alkylsulfone derivative or a CnH2nSO4 alkylsulfate derivative or salts of alkali metals of an alkylsulfone or alkylsulfate derivative, when R3 is an alkylhydroxy derivative or a hydrogen atom, where n represents integers from 0 to 18, where the numbers n may be different in individual functional groups and the total concentration of the rinse aid is within the range from 0.05 to 10 g / L / CU— Ofe R "-N \ ^ N — R, 1: uc" 2. wzdr A i I Uzóy 2 PZG O / Piotrków & 71 5.84 120 copies Price PLN 100 PL