PL119123B2 - Method of chromium plating - Google Patents
Method of chromium plating Download PDFInfo
- Publication number
- PL119123B2 PL119123B2 PL22476080A PL22476080A PL119123B2 PL 119123 B2 PL119123 B2 PL 119123B2 PL 22476080 A PL22476080 A PL 22476080A PL 22476080 A PL22476080 A PL 22476080A PL 119123 B2 PL119123 B2 PL 119123B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- atom
- etching
- chrome
- bath
- chromium layer
- Prior art date
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims description 23
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims description 23
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 26
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 8
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Chemical group 0.000 claims description 3
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Chemical group 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Chemical group 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 229910020350 Na2WO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 208000011580 syndromic disease Diseases 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób chromowania galwanicznego, znajdujacy zastosowanie do wytwa¬ rzania powlok chromowych na podlozach metalowych, a zwlaszcza do chromowania elementów maszyn i urzadzen wykonanych z zeliwa, stali lub stopów glinu, przeznaczonych do pracy w warunkach zuzycia sciernego.Z ksiazki L.J. Kadaner, „Sprawocznik po galwanostegiiu, Kijów 1976 r, s. 150, znany jest sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na metalowe podloze, a nastepnie na intensywnym trawieniu elektrochemicznym wytworzonej powloki chromowej, które ma na celu zapewnienie porowatej struktury powloki. Proces elektrolizy prowadzi sie w kapieli zawierajacej 220-230 kg/m3 bezwodnika kwasu chromowego i 1,8-2,0 kg/m3 kwasu siarkowego. Katodowa gestosc pradu wynosi 40-60 A/dm2, temperatura kapieli 327-329K, a czas chromowania 5-8 godzin. Trawienie powloki chromowej prowadzi sie w tej samej kapieli elektrolitycznej, stosujac anodowa gestosc pradu 35-45 A/dm2 i temperature kapieli 325-331 K. Czas trawienia dla warstw chromowych o grubosci do 0,1 mm wynosi 7-10 minut, a dla warstw o grubosci powyzej 0,1 mm 11-15 minut. Tak wytworzone powloki chromowe maja strukture kanalikowa.Zasadnicza niedogodnoscia znanego sposobu chromowania jest dlugi czas prowadzenia procesu, nie¬ zbedny glównie z powodu koniecznosci intensywnego trawienia powloki chromowej. Ponadto istnieje koniecznosc nakladania w procesie elektrolizy grubej warstwy chromu oraz precyzyjnego sterowania proce¬ sem trawienia elektrochemicznego, co wynika z agresywnosci kapieli do chromowania oraz z duzej anodowej wydajnosci pradowej procesu trawienia. Dalszym niekorzystnym czynnikiem jest technologiczna konie¬ cznosc prowadzenia trawienia w stosunkowo wysokiej temperaturze. Prowadzi to do intensyfikacji trawie¬ nia, która wplywa niekorzystnie na niechromowane czesci detali konstrukcyjnych.Znane sa równiez sposoby chromowania galwanicznego, w których zamiast trawienia elektrochemi¬ cznego stosuje sie obróbke mechaniczna, majaca na celu wytworzenie siatki naciec w wierzchniej warstwie chromu. W przypadku chromowania tulei cylindrowych stosuje sie honowniczy sposób ksztaltowania zewnetrznej warstwy chromu. Obróbke te prowadzi sie za pomoca oselek ceramicznych lub diamentowych o dobranym uziarnieniu, sterujac naciskiem oselek i ruchem posuwisto-obrotowym lub oscylacyjnym glowicy honowniczej. Inny sposób obróbki mechanicznej polega na stosowaniu glowicy honowniczej z wkladkami zeliwnymi i doprowadzeniu na powierzchnie warstwy chromu scierniwa zawieszonego w oleju. Scierniwo spelnia wówczas role czynnika powodujacego nacinanie rys w postaci siarki w warstwie chromu. Niedogod¬ noscia powyzszego sposobu jest koniecznosc stosowania skomplikowanych maszyn oraz trudnosci uzyska-119123 powtarzalnego uksztaltowania wierzchniej warstwy pokrycia chromowego. Zmiany profilu wierzchniej warstwy chromu wymagaja zmian oprzyrzadowania honownic, rodzaju i granulacji scierniwa orazwiekszego zuzycia energii elektrycznej.Wynalazek dotyczy sposobu chromowania galwanicznego, polegajacego na elektrolitycznym nanosze¬ niu warstwy chromu w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej. Istota wynalazku polega na tm ze do kapieli do chromów ania d< «daje sie od U, 1 kg/m3do 4 kg/m' mieszaniny zwiazków nieorganicznych o wzorach X2M04i X2M03W których X oznacza atom wodoru, sodu lub potasu, a M oznacza atom wolframu, molibdenu, selenu albo telluru, natomiast proces trawienia prowadzi sie w kapieli zawierajacej 500-900 kg/m3kwasu fosforo¬ wego, 120-210 kg/m3 kwasu siarkowego, 0,01-0,35m3/m3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 urotropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny. Wprocesie trawienia stosuje sie anodowa gestosc pradu 15-25 A/dm2 i temperature kapieli trawiacej 288K-296K.Dodatek powyzszych zwiazków nieorganicznych do kapieli do chromowania powoduje, ze warstwa chromu osadzona elektrolitycznie na podlozu metalowym ma równomierna siatke spekan, która w procesie trawienia ulega uksztaltowaniu, tworzac porowata strukture pokrycia chromowego. Porowate pokrycie chromowe w ytworzone sposobem wedlug wynalazku sklada sie z gladkich obszarów plato, spelniajacych role powierzchni nosnych tarcia, poprzecinanych waskimi i glebokimi mikrokanalikami lub wykazuja porowa¬ tosc typu pittingowego albo wykazuja oba powyzsze typy porowatosci, to znaczy porowatosc typu mikroka- nalikowego i typu pittingowego. Takieuksztaltowanie wierzchniej warstwy pokrycia chromowego likwiduje wlasciwa chromowi mala zwilzalnosc jego powierzchni przez oleje, a tym samym zmniejsza wspólczynnik tarcia, zwieksza odpornosc na zacieranie i poprawia docieralnosc zespolu tracego. Czynniki te znacznie przedluzaja trwalosc zespolów tracych. Sposób chromowania wedlug wynalazku w porównaniu ze znanym sposobem, charakteryzuje sie znacznie krótszym czasem prowadzenia procesu. W porównaniu z mechani¬ cznym sposobem obróbki wierzchniej warstwy chromu, sposób wedlug wynalazku zapewnia róznorodne uksztaltowanie wierzchniej warstwy chromu w szerokim zakresie, poprzez dobór jakosciowo-ilosciowych parametrów obu kapieli oraz warunków pradowo-temperaturowych.Przedmiot wynalazku jest objasniony w przykladach chromowania galwanicznego tulei silników wyso¬ kopreznych sredniej mocy, o srednicach wewnetrznych od 95 mm do 140mm.Przyklad I. Do kapieli do chromowania typu Hayashi, zawierajacej Cr03,K2SiFóiH2S04, dodaje sie 0,1 kg/m3mieszaniny Na2Mo04i Na2Te04. Stosunek wagowy Na2Mo04do Na2Te04wynosi 1:4. Wkapieli tej umieszcza sie zeliwne tuleje, po czym prowadzi sie proces elektrolizy, stosujac katodowa gestosc pradu (50±4)A/dm2 i utrzymujac temperature kapieli (321 ± 1)K. Proces elektrolizy prowadzi sie przez 90 minut.W wyniku powyzszego na tulejach osadza sie warstwa chromu o grubosci (50 ± 3)/xm. Pochromowane tuleje plucze sie w wodzie destylowanej, a nastepnie umieszcza w kapieli trawiacej. Kapiel do trawienia zawiera 550 kg/m3 kwasu fosforowego. 120 kg/m3 kwasu siarkowego, 1,5 kg/m3 urotropiny i 0,35 m3/m3 gliceryny o ciezarze wlasciwym 1230 kg/m". Proces trawienia prowadzi sie stosujac anodowa gestosc pradu (17 ± 2)A/dm2 i utrzymujac temperature kapieli (291 ± 3)K. Czas trawienia wynosi 4,5 minuty. Wytworzona warstwa chromowa jest porowata i ma mikrokanalikowa strukture warstwy wierzchniej.Przyklad II. Do kapieli do chromowania, zawierajacego Crd i H2SO4, dodaje sie 4kg/m3miesza- niny K2Se03 i Na2W04, przy czym stosunek wagowy K2SeOjdo Na2WO4 wynosi 1:67. Proces chromowania tulei zeliwnych prowadzi sie przy katodowej gestosci pradu (52 ± 3)A/dm2, temperaturze kapieli (326 ± 1)K, w czasie 85 minut. W wyniku powyzszego otrzymuje sie pokrycie chromowe o grubosci (46±4)/xm.Pochromowane tuleje plucze sie w wodzie destylowanej, a nastepnie umieszcza w kapieli trawiacej. Kapiel do trawienia zawiera 850 g/m3 kwasu fosforowego, 210 kg/m3 kwasu siarkowego, 4 kg/m3 chinoliny i 0,01 m3/m3 gliceryny o ciezarze wlasciwym 1230 kg/m3. Proces trawienia prowadzi sie przez 5,5 minuty, stosujac anodowa gestosc pradu (23±2)A/dm2 i temperature kapieli (291±3)K. Wytworzona warstwa chromu jest porowata i zawiera okolo 80% porów typu pittingowego. Pozostale 20% porów stanowia pory typu mikrokanalikowego.Zastrzezenie patentowe Sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na podloze metalowe w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego, a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej, znamienny tym, ze do kapieli elektrolitycznej dodaje sie od 0,1 kg/m3 do 4 kg/m3 mieszaniny zwiazków nieorganicznych o ogólnych wzorach X2M04i X2M03, w których X oznacza atom wodoru albo atom sodu albo atom potasu, a M oznacza atom wolframu albo atom119 123 3 molibdenu albo atom selenu albo atom telluru, natomiast proces elektrochemicznego trawienia warstwy chromowej prowadzi sie w roztworze zawierajacym 500-900 kg/m3 H3PO4, 120-210 kg/m3 H2SO4, 0,01-0,35 m Vm3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 utropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny, przy czym anodowa gestosc pradu w czasie trawienia wynosi 15-25 A/dm2, a temperatura roztworu trawiacego wynosi 288K-296K. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na podloze metalowe w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego, a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej, znamienny tym, ze do kapieli elektrolitycznej dodaje sie od 0,1 kg/m3 do 4 kg/m3 mieszaniny zwiazków nieorganicznych o ogólnych wzorach X2M04i X2M03, w których X oznacza atom wodoru albo atom sodu albo atom potasu, a M oznacza atom wolframu albo atom119 123 3 molibdenu albo atom selenu albo atom telluru, natomiast proces elektrochemicznego trawienia warstwy chromowej prowadzi sie w roztworze zawierajacym 500-900 kg/m3 H3PO4, 120-210 kg/m3 H2SO4, 0,01-0,35 m Vm3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 utropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny, przy czym anodowa gestosc pradu w czasie trawienia wynosi 15-25 A/dm2, a temperatura roztworu trawiacego wynosi 288K-296K. PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22476080A PL119123B2 (en) | 1980-06-06 | 1980-06-06 | Method of chromium plating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL22476080A PL119123B2 (en) | 1980-06-06 | 1980-06-06 | Method of chromium plating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL224760A2 PL224760A2 (pl) | 1981-04-10 |
| PL119123B2 true PL119123B2 (en) | 1981-11-30 |
Family
ID=20003498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL22476080A PL119123B2 (en) | 1980-06-06 | 1980-06-06 | Method of chromium plating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL119123B2 (pl) |
-
1980
- 1980-06-06 PL PL22476080A patent/PL119123B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL224760A2 (pl) | 1981-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3664933A (en) | Process for acid copper plating of zinc | |
| CA1072910A (en) | Method of manufacturing amorphous alloy | |
| US8445114B2 (en) | Electrocomposite coatings for hard chrome replacement | |
| US3951759A (en) | Chromium electroplating baths and method of electrodepositing chromium | |
| US4404232A (en) | Method of depositing metal coating layers containing particles on the walls of chill moulds | |
| US3326782A (en) | Bath and method for electroforming and electrodepositing nickel | |
| WO2007073213A1 (en) | Micro-arc assisted electroless plating methods | |
| US6893551B2 (en) | Process for forming coatings on metallic bodies and an apparatus for carrying out the process | |
| US4659436A (en) | Particulate diamond-coated metal article with high resistance to stress cracking and process therefor | |
| GB2030596A (en) | Combined method of electroplating and deplating electroplated ferrous based wire | |
| Naik et al. | Electrodeposition of zinc from chloride solution | |
| JP2003526015A (ja) | 軽金属表面に金属層を施与するための方法 | |
| PL119123B2 (en) | Method of chromium plating | |
| JPH02217497A (ja) | ニッケル―タングステン―炭化珪素複合めっき法 | |
| US20100024930A1 (en) | Electroforming method and part or layer obtained via the method | |
| US3870618A (en) | Chromium plating method | |
| EP0278044A1 (en) | High performance electrodeposited chromium layers | |
| US3186925A (en) | Chromium plating process with a pure nickel strike | |
| WO2023041711A1 (en) | Method for depositing a chromium layer on a surface of a round-shaped substrate including laser pre-treating | |
| Othman et al. | Effect of current density and fly ash composition on nickel grain size and hardness of nickel-fly ash composite coating deposited on aluminum alloy 6061 | |
| RU2132889C1 (ru) | Способ получения электролита для осаждения металлического никеля (варианты) | |
| Tang et al. | Pulse reversal plating of nickel–cobalt alloys | |
| JPH0673596A (ja) | 高耐食性MgまたはMg合金材 | |
| US2683687A (en) | Anodically polishing zinc surfaces | |
| Hadian et al. | The use of pulsed current techniques for electrodeposition of platinum |