PL119123B2 - Method of chromium plating - Google Patents

Method of chromium plating Download PDF

Info

Publication number
PL119123B2
PL119123B2 PL22476080A PL22476080A PL119123B2 PL 119123 B2 PL119123 B2 PL 119123B2 PL 22476080 A PL22476080 A PL 22476080A PL 22476080 A PL22476080 A PL 22476080A PL 119123 B2 PL119123 B2 PL 119123B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
atom
etching
chrome
bath
chromium layer
Prior art date
Application number
PL22476080A
Other languages
English (en)
Other versions
PL224760A2 (pl
Inventor
Jozef Kubicki
Jerzy Kusmidrowicz
Wieslaw Popytak
Original Assignee
Politechnika Wroclawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Wroclawska filed Critical Politechnika Wroclawska
Priority to PL22476080A priority Critical patent/PL119123B2/pl
Publication of PL224760A2 publication Critical patent/PL224760A2/xx
Publication of PL119123B2 publication Critical patent/PL119123B2/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób chromowania galwanicznego, znajdujacy zastosowanie do wytwa¬ rzania powlok chromowych na podlozach metalowych, a zwlaszcza do chromowania elementów maszyn i urzadzen wykonanych z zeliwa, stali lub stopów glinu, przeznaczonych do pracy w warunkach zuzycia sciernego.Z ksiazki L.J. Kadaner, „Sprawocznik po galwanostegiiu, Kijów 1976 r, s. 150, znany jest sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na metalowe podloze, a nastepnie na intensywnym trawieniu elektrochemicznym wytworzonej powloki chromowej, które ma na celu zapewnienie porowatej struktury powloki. Proces elektrolizy prowadzi sie w kapieli zawierajacej 220-230 kg/m3 bezwodnika kwasu chromowego i 1,8-2,0 kg/m3 kwasu siarkowego. Katodowa gestosc pradu wynosi 40-60 A/dm2, temperatura kapieli 327-329K, a czas chromowania 5-8 godzin. Trawienie powloki chromowej prowadzi sie w tej samej kapieli elektrolitycznej, stosujac anodowa gestosc pradu 35-45 A/dm2 i temperature kapieli 325-331 K. Czas trawienia dla warstw chromowych o grubosci do 0,1 mm wynosi 7-10 minut, a dla warstw o grubosci powyzej 0,1 mm 11-15 minut. Tak wytworzone powloki chromowe maja strukture kanalikowa.Zasadnicza niedogodnoscia znanego sposobu chromowania jest dlugi czas prowadzenia procesu, nie¬ zbedny glównie z powodu koniecznosci intensywnego trawienia powloki chromowej. Ponadto istnieje koniecznosc nakladania w procesie elektrolizy grubej warstwy chromu oraz precyzyjnego sterowania proce¬ sem trawienia elektrochemicznego, co wynika z agresywnosci kapieli do chromowania oraz z duzej anodowej wydajnosci pradowej procesu trawienia. Dalszym niekorzystnym czynnikiem jest technologiczna konie¬ cznosc prowadzenia trawienia w stosunkowo wysokiej temperaturze. Prowadzi to do intensyfikacji trawie¬ nia, która wplywa niekorzystnie na niechromowane czesci detali konstrukcyjnych.Znane sa równiez sposoby chromowania galwanicznego, w których zamiast trawienia elektrochemi¬ cznego stosuje sie obróbke mechaniczna, majaca na celu wytworzenie siatki naciec w wierzchniej warstwie chromu. W przypadku chromowania tulei cylindrowych stosuje sie honowniczy sposób ksztaltowania zewnetrznej warstwy chromu. Obróbke te prowadzi sie za pomoca oselek ceramicznych lub diamentowych o dobranym uziarnieniu, sterujac naciskiem oselek i ruchem posuwisto-obrotowym lub oscylacyjnym glowicy honowniczej. Inny sposób obróbki mechanicznej polega na stosowaniu glowicy honowniczej z wkladkami zeliwnymi i doprowadzeniu na powierzchnie warstwy chromu scierniwa zawieszonego w oleju. Scierniwo spelnia wówczas role czynnika powodujacego nacinanie rys w postaci siarki w warstwie chromu. Niedogod¬ noscia powyzszego sposobu jest koniecznosc stosowania skomplikowanych maszyn oraz trudnosci uzyska-119123 powtarzalnego uksztaltowania wierzchniej warstwy pokrycia chromowego. Zmiany profilu wierzchniej warstwy chromu wymagaja zmian oprzyrzadowania honownic, rodzaju i granulacji scierniwa orazwiekszego zuzycia energii elektrycznej.Wynalazek dotyczy sposobu chromowania galwanicznego, polegajacego na elektrolitycznym nanosze¬ niu warstwy chromu w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej. Istota wynalazku polega na tm ze do kapieli do chromów ania d< «daje sie od U, 1 kg/m3do 4 kg/m' mieszaniny zwiazków nieorganicznych o wzorach X2M04i X2M03W których X oznacza atom wodoru, sodu lub potasu, a M oznacza atom wolframu, molibdenu, selenu albo telluru, natomiast proces trawienia prowadzi sie w kapieli zawierajacej 500-900 kg/m3kwasu fosforo¬ wego, 120-210 kg/m3 kwasu siarkowego, 0,01-0,35m3/m3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 urotropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny. Wprocesie trawienia stosuje sie anodowa gestosc pradu 15-25 A/dm2 i temperature kapieli trawiacej 288K-296K.Dodatek powyzszych zwiazków nieorganicznych do kapieli do chromowania powoduje, ze warstwa chromu osadzona elektrolitycznie na podlozu metalowym ma równomierna siatke spekan, która w procesie trawienia ulega uksztaltowaniu, tworzac porowata strukture pokrycia chromowego. Porowate pokrycie chromowe w ytworzone sposobem wedlug wynalazku sklada sie z gladkich obszarów plato, spelniajacych role powierzchni nosnych tarcia, poprzecinanych waskimi i glebokimi mikrokanalikami lub wykazuja porowa¬ tosc typu pittingowego albo wykazuja oba powyzsze typy porowatosci, to znaczy porowatosc typu mikroka- nalikowego i typu pittingowego. Takieuksztaltowanie wierzchniej warstwy pokrycia chromowego likwiduje wlasciwa chromowi mala zwilzalnosc jego powierzchni przez oleje, a tym samym zmniejsza wspólczynnik tarcia, zwieksza odpornosc na zacieranie i poprawia docieralnosc zespolu tracego. Czynniki te znacznie przedluzaja trwalosc zespolów tracych. Sposób chromowania wedlug wynalazku w porównaniu ze znanym sposobem, charakteryzuje sie znacznie krótszym czasem prowadzenia procesu. W porównaniu z mechani¬ cznym sposobem obróbki wierzchniej warstwy chromu, sposób wedlug wynalazku zapewnia róznorodne uksztaltowanie wierzchniej warstwy chromu w szerokim zakresie, poprzez dobór jakosciowo-ilosciowych parametrów obu kapieli oraz warunków pradowo-temperaturowych.Przedmiot wynalazku jest objasniony w przykladach chromowania galwanicznego tulei silników wyso¬ kopreznych sredniej mocy, o srednicach wewnetrznych od 95 mm do 140mm.Przyklad I. Do kapieli do chromowania typu Hayashi, zawierajacej Cr03,K2SiFóiH2S04, dodaje sie 0,1 kg/m3mieszaniny Na2Mo04i Na2Te04. Stosunek wagowy Na2Mo04do Na2Te04wynosi 1:4. Wkapieli tej umieszcza sie zeliwne tuleje, po czym prowadzi sie proces elektrolizy, stosujac katodowa gestosc pradu (50±4)A/dm2 i utrzymujac temperature kapieli (321 ± 1)K. Proces elektrolizy prowadzi sie przez 90 minut.W wyniku powyzszego na tulejach osadza sie warstwa chromu o grubosci (50 ± 3)/xm. Pochromowane tuleje plucze sie w wodzie destylowanej, a nastepnie umieszcza w kapieli trawiacej. Kapiel do trawienia zawiera 550 kg/m3 kwasu fosforowego. 120 kg/m3 kwasu siarkowego, 1,5 kg/m3 urotropiny i 0,35 m3/m3 gliceryny o ciezarze wlasciwym 1230 kg/m". Proces trawienia prowadzi sie stosujac anodowa gestosc pradu (17 ± 2)A/dm2 i utrzymujac temperature kapieli (291 ± 3)K. Czas trawienia wynosi 4,5 minuty. Wytworzona warstwa chromowa jest porowata i ma mikrokanalikowa strukture warstwy wierzchniej.Przyklad II. Do kapieli do chromowania, zawierajacego Crd i H2SO4, dodaje sie 4kg/m3miesza- niny K2Se03 i Na2W04, przy czym stosunek wagowy K2SeOjdo Na2WO4 wynosi 1:67. Proces chromowania tulei zeliwnych prowadzi sie przy katodowej gestosci pradu (52 ± 3)A/dm2, temperaturze kapieli (326 ± 1)K, w czasie 85 minut. W wyniku powyzszego otrzymuje sie pokrycie chromowe o grubosci (46±4)/xm.Pochromowane tuleje plucze sie w wodzie destylowanej, a nastepnie umieszcza w kapieli trawiacej. Kapiel do trawienia zawiera 850 g/m3 kwasu fosforowego, 210 kg/m3 kwasu siarkowego, 4 kg/m3 chinoliny i 0,01 m3/m3 gliceryny o ciezarze wlasciwym 1230 kg/m3. Proces trawienia prowadzi sie przez 5,5 minuty, stosujac anodowa gestosc pradu (23±2)A/dm2 i temperature kapieli (291±3)K. Wytworzona warstwa chromu jest porowata i zawiera okolo 80% porów typu pittingowego. Pozostale 20% porów stanowia pory typu mikrokanalikowego.Zastrzezenie patentowe Sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na podloze metalowe w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego, a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej, znamienny tym, ze do kapieli elektrolitycznej dodaje sie od 0,1 kg/m3 do 4 kg/m3 mieszaniny zwiazków nieorganicznych o ogólnych wzorach X2M04i X2M03, w których X oznacza atom wodoru albo atom sodu albo atom potasu, a M oznacza atom wolframu albo atom119 123 3 molibdenu albo atom selenu albo atom telluru, natomiast proces elektrochemicznego trawienia warstwy chromowej prowadzi sie w roztworze zawierajacym 500-900 kg/m3 H3PO4, 120-210 kg/m3 H2SO4, 0,01-0,35 m Vm3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 utropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny, przy czym anodowa gestosc pradu w czasie trawienia wynosi 15-25 A/dm2, a temperatura roztworu trawiacego wynosi 288K-296K. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób chromowania galwanicznego, polegajacy na elektrolitycznym nakladaniu warstwy chromu na podloze metalowe w kapieli na bazie roztworu bezwodnika kwasu chromowego, a nastepnie elektrochemi¬ cznym trawieniu wytworzonej warstwy chromowej, znamienny tym, ze do kapieli elektrolitycznej dodaje sie od 0,1 kg/m3 do 4 kg/m3 mieszaniny zwiazków nieorganicznych o ogólnych wzorach X2M04i X2M03, w których X oznacza atom wodoru albo atom sodu albo atom potasu, a M oznacza atom wolframu albo atom119 123 3 molibdenu albo atom selenu albo atom telluru, natomiast proces elektrochemicznego trawienia warstwy chromowej prowadzi sie w roztworze zawierajacym 500-900 kg/m3 H3PO4, 120-210 kg/m3 H2SO4, 0,01-0,35 m Vm3 gliceryny i 1,5-5 kg/m3 utropiny albo 2,0-5,0 kg/m3 chinoliny, przy czym anodowa gestosc pradu w czasie trawienia wynosi 15-25 A/dm2, a temperatura roztworu trawiacego wynosi 288K-296K. PL
PL22476080A 1980-06-06 1980-06-06 Method of chromium plating PL119123B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22476080A PL119123B2 (en) 1980-06-06 1980-06-06 Method of chromium plating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22476080A PL119123B2 (en) 1980-06-06 1980-06-06 Method of chromium plating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL224760A2 PL224760A2 (pl) 1981-04-10
PL119123B2 true PL119123B2 (en) 1981-11-30

Family

ID=20003498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL22476080A PL119123B2 (en) 1980-06-06 1980-06-06 Method of chromium plating

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL119123B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL224760A2 (pl) 1981-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3664933A (en) Process for acid copper plating of zinc
CA1072910A (en) Method of manufacturing amorphous alloy
US8445114B2 (en) Electrocomposite coatings for hard chrome replacement
US3951759A (en) Chromium electroplating baths and method of electrodepositing chromium
US4404232A (en) Method of depositing metal coating layers containing particles on the walls of chill moulds
US3326782A (en) Bath and method for electroforming and electrodepositing nickel
WO2007073213A1 (en) Micro-arc assisted electroless plating methods
US6893551B2 (en) Process for forming coatings on metallic bodies and an apparatus for carrying out the process
US4659436A (en) Particulate diamond-coated metal article with high resistance to stress cracking and process therefor
GB2030596A (en) Combined method of electroplating and deplating electroplated ferrous based wire
Naik et al. Electrodeposition of zinc from chloride solution
JP2003526015A (ja) 軽金属表面に金属層を施与するための方法
PL119123B2 (en) Method of chromium plating
JPH02217497A (ja) ニッケル―タングステン―炭化珪素複合めっき法
US20100024930A1 (en) Electroforming method and part or layer obtained via the method
US3870618A (en) Chromium plating method
EP0278044A1 (en) High performance electrodeposited chromium layers
US3186925A (en) Chromium plating process with a pure nickel strike
WO2023041711A1 (en) Method for depositing a chromium layer on a surface of a round-shaped substrate including laser pre-treating
Othman et al. Effect of current density and fly ash composition on nickel grain size and hardness of nickel-fly ash composite coating deposited on aluminum alloy 6061
RU2132889C1 (ru) Способ получения электролита для осаждения металлического никеля (варианты)
Tang et al. Pulse reversal plating of nickel–cobalt alloys
JPH0673596A (ja) 高耐食性MgまたはMg合金材
US2683687A (en) Anodically polishing zinc surfaces
Hadian et al. The use of pulsed current techniques for electrodeposition of platinum