Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania siatki dyfrakcyjnej oraz uklad do wytwarzania siatki dyfrakcyjnej realizujacy powyzszy sposób.Znany sposób wytwarzania siatki dyfrakcyjnej polega na tym, ze koherentna wiazke swiatla rozdziela sie na dwie odrebne wiazki, które nastepnie doprowadza sie do interferencji na warstwie kopiowej. Utworzony obraz interferencyjne wywoluje sie.Znany uklad do wytwarzania siatki dyfrakcyjnej sklada sie z lasera, ekspendera wiazki umieszczonego na osi strumienia laserowego oraz z holograficznego ukladu interferencyjnego, usytuowanego za ekspanderem.Uklad holograficzny zawiera zwierciadlo pólprzepuszczalne, na które pada z ekspandera wiazka swiatla. Wiazka ta rozdzielana jest na dwie odrebne wiazki, z których kazda pada na zwierciadlo odbijajace, kierujace wiazke swiatla na podloze z warstwa kopiowa. Obie wiazki na podlozu tym interferuja ze soba, tworzac obraz interferencyjny. Obraz ten po wywolaniu tworzy siatke dyfrakcyjna.Duza niedogodnoscia przedstawionego wyzej ukladujest jego mala zawartosc, co utrudnia praktycznie jego zastosowanie, ajednoczesnie uklad ten jest bardzo czuly na drgania podloza. Inna niedogodnodsciajest klopotliwa koniecznosc dokladnego wyrównania dróg optycznych rozdzielonych strumieni.Sposób wytwarzania siatki dyfrakcyjnej wedlug wynalazku polega na tym, ze dzieli sie format falowy koherentnej wiazki swietlnej na dwie, korzystnie równe czesci, a nastepnie doprowadza sieje d) interferencji na warstwie kopiowej.Uklad wedlug wynalazku zawiera koherentne zródlo swiatla emitujace wiazke swietlna, na osi której znajduje sie ekspander wiazki oraz za ekspanderem, uklad interferencyjny, skladajacy sie z usytuowanych wzajemnie prostopadle podloza pokrytego warstwa kopiowa i zwierciadla. Krawedz wspólna zwierciadla i podloza z warstwa kopiowa znajduje sie na osi wiazki swietlnej. Uklad interferencyjny umieszczony jest ewentualnie w osrodku cieklym. Uklad wedlug wynalazku odznacza sie wieksza zwartoscia w porównaniu do ukladów znanych. Poprawia to znacznie odpornosc ukladu na wibracje podloza, przy czym dobra izolacja podstawy od tych wibracji nie jest sprawa tak krytyczna, jak w ukladach znanych.Ponadto male gabaryty ukladu wedlug wynalazku zapewniaja zawsze mala wartosc róznicy dróg optycznych interferujacych wiazek, co nie zawsze jest latwo osiagalne w ukladach znanych. Daje to mozli¬ wosc zastosowania do ekspozycji laserów o malej dlugosci koherencji. Uklad wedlug wynalazku odznacza sie wreszcie znacznym uproszczeniem ukladu interferencyjnego, mniejsza iloscia potrzebnych elementów opty¬ cznych, a co za tym idzie, mniejsza wrazliwoscia na wplyw czynników zewnetrznych (glównie osiadajacy kurz).2 117417 Przedmiot wynalazku zostanie blizej objasniony w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat ukladu interferencyjnego bedacego zasadnicza czescia ukladu do wytwarzania siatki dyfrakcyjnej, a fig.2 —immersyjny uklad interferencyjny.Uklad interferencyjny sklad sie z podloza 2 z naniesiona warstwa kopiowa 1 oraz prostopadle do podloza usytuowanego zwierciadla 3 calkowicie odbijajacego. Krawedz wspólna podloza 2 z warstwa kopiowa 1 i zwierciadla 3 znajduje sie na osi symetrii wiazki laserowej 5 emitowanej z ekspandera wiazki.„Dolna polowa" frontu falowego pada na podloze 2 z naniesiona warstwa kopiowa 1, natomiast „górna polowa" pada na powierzchnie zwierciadla 3 i odbita jest na warstwe kopiowa 1. Wefekcie warstwa kopiowa 1 naswietlona jest dwoma skrzyzowanymi wiazkami, które generuja w niej obraz interferencyjny, to jest uklad prazków na przemian naswietlonych i nienaswietlonych. Obraz ten wywoluje sie, co pozwala uzyskac w warstwie kopiowej 1 siatke dyfrakcyjna o stalej siatki X A= 2n sina gdzie: X—jest dlugoscia fali swiatla laserowego, n — wspólczynnikiem zalamania fali w osrodku, w którym znajduje sie uklad interferencyjny, a—katem, jaki tworzy os wiazki 5 z normalna do podloza 2.Dla zmniejszenia stalej A siatki, przy zastosowaniu tego samego lasera, uklad interferencyjny umie¬ szczony zostal w pojemniku szklanym 6, z ciecza 7, w której wspólczynnik zalamania swiatla n 1. Scianka pojemnika, na która pada wiazka swiatla 5 bezposrednio z ekspandera, uksztaltowanajest pryzmatycznie dla unikniecia naswietlania warstwy kopiowej 1 niepozadanymi wiazkami, jakie moga powstawac w wyniku odbic wiazki glównej 5 od granic osrodków powietrze-szklo-ciecz.Siatka dyfrakcyjna otrzymana w warstwie kopiowej stosowana jest w niektórych przyrzadach optoelek¬ tronicznych wprost lub przez „przeniesienie*4 do podloza metoda trawienia chemicznego lub jonowego.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania siatki dyfrakcyjnej polegajacy na zarejestrowaniu na warstwie kopiowej obrazu interferencji dwóch koherentnych strumieni swiatla, znamienny tym, ze interferencje realizuje sie przez podzial frontu falowego jednej koherentnej wiazki swiatla na dwie, korzystnie równe czesci. 2. Uklad do wytwarzania siatki dyfrakcyjnej zawierajacy koherentne zródlo swiatla emitujace wiazke swiatla, na osi której znajduje sieekspander wiazki, a za ekspanderem usytuowanyjest uklad interferencyjny, aMunienny tym, ze uklad interferencyjny zawiera usytuowane prostopadle dopodloza (2),pokrytego warstwa kopiowa (1), zwierciadlo (3), przy czym krawedz wspólna podloza (2) i zwierciadla (3) znajduje sie na osi wiazki swietlnej (5). 3. Uklad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze uklad interferencyjny umieszczonyjest w osrodku cieklym (7).117 417 FIG.1117 417 FIG. 2 Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 egz.Cena 100 zl PL