Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania cienkowarstwowych ukladów magnetycznych na podlozu metalicznym, zwlaszcza o przekroju kolo¬ wym. Znajduja one zastosowanie przede wszystkim jako nosniki informacji w pamieciach elektronicz¬ nych maszyn cyfrowych. Nosniki informacji powin¬ ny charakteryzowac sie mozliwie szerokim i stabil¬ nym obszarem operacyjnym pracy.Do wytwarzania cienkowarstwowych ukladów warstw magnetycznych na drodze elektrochemicznej najczesciej stosuje sie podloze z brazu berylowego lub srebrowego. Podloze takie poddaje sie najpierw operacjom wstepnym, takim jak odtluszczanie w roztworach alkalicznych oraz aktywacja powierz¬ chni w roztworach kwasnych. Na wstepnie przygo¬ towane podloze nanosi sie podwarstwy niemagne¬ tyczne np. z miedzi lub stopu nikiel-fosfor, a naste¬ pnie warstwe lub uklad warstw magnetycznych, po czym uklad wygrzewa sie w temperaturze 200— —500°C. W celu uzyskania zadanych parametrów magnetycznych nalezy odpowiednio dobrac rodzaj, grubosc i gladkosc podwarstw niemagnetycznych i warstw magnetycznych. Wlasciwe parametry dy¬ namiczne warstw magnetycznych mozna uzyskac przez odpowiednie schropowacenie powierzchni pod¬ warstwy niemagnetycznej. Sposobem przedstawio¬ nym w polskim opisie patentowym nr 71045, chro- powacenie podwarstwy niemagnetycznej prowadzi sie przez elektrolityczne miedziowanie z roztworu zawierajacego pieciowodny siarczan miedzi, kwas 10 15 30 siarkowy i siarczan hydrazyny, przy zmiennym na¬ tezeniu pradu katodowego. Innym sposobem odpo¬ wiednie wlasciwosci warstw magnetycznych mozna uzyskac, jak przedstawiono w opisie patentowym nr 96457 przez nanoszenie wiecej niz dwóch warstw magnetycznych zelazo-nikiel-kobalt o róznej zawar¬ tosci kobaltu i róznej grubosci lub jednakowej za¬ wartosci kobaltu i jednakowej grubosci. Pozadane parametry warstw magnetycznych mozna równiez uzyskac sposobem przedstawionym w polskim opisie patentowym nr 89174, polegajacym na przemiennym nakladaniu warstw miekkich magnetycznie, na przyklad ze stopu nikiel-zelazo i twardych magne¬ tycznie ze stopu nikiel-kobalt. m Sposoby te nie pozwalaja na wytwarzanie z duza wydajnoscia elementów magnetycznych, które mo¬ glyby pracowac niezawodnie w szerokim zakresie dopuszczalnych wartosci pradów slowa i bitu w blo¬ kach pamieci o duzej gestosci upakowania informa¬ cji.Celem wynalazku, jest wytworzenie elementów magnetycznych zwlaszcza cylindrycznych o rozsze¬ rzonym zakresie dopuszczalnych amplitud pradów slowa i bitu przy zachowaniu wysokiej amplitudy sygnalu odpowiedzi oraz podniesienie wydajnosci produkcji ciaglej takich drutów magnetycznych.Sposobem wedlug wynalazku na oczyszczone i zaktywowane podloze metaliczne, na przyklad z brazu berylowego naklada sie elektrochemicznie podwarstwy niemagnetyczne na przyklad z miedzi, 113045\ 113045 na które nanosi sie uklad warstw magnetycznych, tak, aby na co najmniej jednej granicy warstw magnetycznych nakladanych przemiennie, na przy¬ klad ze stopu NiFe i ze stopu NiCo powstala po¬ wierzchnia o strukturze wysepkowej. Powierzchnie taka mozna uzyskac przez anodowe roztwarzanie warstwy magnetycznej osadzonej elektrochemicznie z typowego roztworu siarczanowego. Proces roztwa¬ rzania mozna prowadzic na przyklad w 10% wodnym roztworze kwasu siarkowego, w tempera¬ turze 40—70°C, przy gestosci pradu anodowego 0,5— —10 A/dm2, stosujac cyrkulacje 1,5^3,0 dmtymin.Po tym procesie osadza sie dalsze warstwy magne¬ tyczne z typowych roztworów siarczanowych.Zaleta sposobu wedlug wynalazku'jest mozliwosc otrzymania elementów magnetycznych o szerokim obszarze operacyjnym pracy w pamieciach,. duzej niezawodnosci oraz mozliwosc stosowania tych ele¬ mentów w wielu rozwiazaniach komórki bitowej.Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony w przykladzie wykonania, który jednakze nie ogra¬ nicza jego zakresu.Przyklad I. Odtluszczony i zaktywowany drut z brazu srebrowego o przekroju kolowym i sredni¬ cy 75 pm przesuwajacy sie z predkoscia 53 m/godz. osadza sie elektrochemicznie w sposób ciagly pod- warstwy miedzi o sumarycznej grubosci 4,2 /*m. Na¬ stepnie na tak przygotowane podloze nanosi sie warstwy magnetyczne. W tym celu drut przepuszcza sie kolejno przez szesc elektrolizerów, z których pierwszy, czwarty i szósty zawieraja cyrkulujacy roztwór do osadzania stopu nikiel-zelazo o skladzie: siarczan niklawy siedmiowodny chlorek niklawy szesciowodny siarczan amonowo-zelazawy dwunastowodny kwas borowy laurylosiarczan sodowy kwas 1-askorbinowy PH 225 g/l 22 g/l 4,9 g/l 25 g/l 0,05 g/l ? 1 g/l 2,65 10 15 20 25 30 35 40 Roztwór ten ma temperature 55°C i cyrkluje z szybkoscia 1,8 l/min. Z roztworu tego osadza sie trzy warstwy stopu nikiel-zelazo o grubosciach 1900 A, 2300 A, 1800 A. W elektrolizerze drugim przeprowadza sie anodowe roztwarzanie pierwszej warstwy .magnetycznej stosujac 10% wodny roztwór H2SO4 o temperaturze 55°C i cyrkulacji 1,6 l/min. Gestosc pradu anodowego wynosi 4,5 A/dm2. W elektrolizerach trzecim i piatym na¬ nosi sie warstwy stopu nikiel-kobalt o grubosci 300 A i 600 A. Proces prowadzi sie z roztworu zawiera¬ jacego: siarczan niklawy siedmiowodny 225 g/l chlorek niklawy szesciowodny 22 g/l siarczan kobaltowy siedmiowodny 75 g/l kwas borowy 30 g/l sacharyna 0,8 g/l laurylosiarczan sodowy 0,2 g/l *" pH 4,2 Roztwór ma temperature 55°C i cyrkuluje z szyb¬ koscia 1,6 l/min. Uzyskany uklad magnetyczny cha¬ rakteryzuje sie nastepujacymi parametrami: zakres dopuszczalny pradów bitowych 35— 85 mA zakres dopuszczalny pradów slowa 450—650 mA amplituda sygnalu odpowiedzi 3—5 mV Zastrzezenie patentowe Ciagly sposób wytwarzania cienkowarstwowych ukladów magnetycznych na podlozu metalicznym, zwlaszcza o przekroju kolowym, skladajacych sie z podwarstw niemagnetycznych i warstw magne¬ tycznych nanosznych elektrochemicznie, znamienny tym, ze co najmniej jedna warstwe magnetyczna chropowaci sie na powierzchni przez anodowe roz¬ twarzanie.ZGK, zam. 8786/1110/4/81, 120 Cena 45 zl PL