PL112168B1 - Low-cyanide bath for electro-galvanizing with lustre - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest kapiel niskocyjankowa do galwanicznego cynkowania z polyskiem. Przezna¬ czona jest do wytwarzania blyszczacych powlok cynko¬ wych w urzadzeniach stacjonarnych i obrotowych.W celu ochrony srodowiska oraz poprawy warunków BHP pracowników galwanizerni bada sie mozliwosci wyeliminowania lub obnizenia stezeniasoli cyjankowych w procesach elektrolitycznych.Znane kapiele niskocyjankowe do cynkowania z poly¬ skiem stanowia wodny roztwórjonów cynku z wodorot¬ lenkiem sodowym, cyjankiem sodowym i dodatkiem substancji blaskotwórezej.Znane na przyklad z opisów patentowych RFN nr nr 2 712515 i 2 643 898 kapiele niskocyjankowe do galwani¬ cznego cynkowania z polyskiem zawieraja substancje blaskotwórcze typu zwiazków heterocyklicznych, takie jak imidazol lub piperazyna.Znane na przyklad z opisów patentowych RFN nr nr 2 704 628 i 2 654214kapiele niskocyjankowe do galwani¬ cznego cynkowania z polyskiem zawierajajako substan¬ cje blaskotwórcze aldehydy aromatyczne takie jak aldehyd anyzowy lub ortodwumetoksybenzaldehyd hib siarczynowe pochodne aldehydów aromatycznych.Znane substancje blaskotwórcze typu zwiazków hete¬ rocyklicznych oznaczaja sie niska trwaloscia wsrodowi¬ sku niskocyjankowej kapieli do galwanicznego cynko¬ wania oraz daja waski zakres polysku powlok.Znane jako substancje blaskotwórcze aldehydy aro¬ matyczne lub siarczynowe pochodne aldehydów aroma¬ tycznych sa trwale w srodowisku kapieli i zapewniaja szeroki zakres polysku, ale w kapieli niskocyjankowej powoduja duze obnizenie wglebnosci i wydajnosci pra¬ dowej kapieli.Celem wynalazku jest opracowaniekapieli niskocyjan¬ kowej do cynkowania z polyskiem charakteryzujacej sie duzym zakresem polysku i dobra wglebnoscia przy duzej wydajnosci pradowej oraz wystarczajacej trwalosci sub¬ stancji blaskotwórezej w kapieli.Kapiel wedlug wynalazku stanowi wodny roztwór jonów cynku w ilosci 5—50g/l, wodorotlenku sodowego w ilosci 60—150 g/l, cyjankusodowegowilosci 5—50g/l oraz jako substancje blaskotwórcza mieszanine dwóch zwiazków A i Bwstosunku molowym od2:1 do.10:1 przy lacznym stezeniu tych zwiazków od 0,1 do 3g/l owzorze r,__(CH2—CH2—NH).—R2, w którym n moze przybie¬ rac wartosci od 1 do 5, przy czym podstawnikiem Ri w zwiazku A jest —NH—CH2OH albo —NH—CH2— CH(OH—CH2OH a podstawnikiem R2 jest —H rab —CH2OH albo —CH2—CH2—OH, podstawnikiem Ri w zwiazku B jest jedno z ugrupowan pokazanych na rysunku apodstawnikiem Rajest —Halbo—CH3OH rab —CH2—CH(OH)—CH2OH hib —CHa—CH2OH.Zwiazek A spelnia role nosnika polysku tojest dziala wyrównujaco na strukturepowlokii zwiekszawglftmosc kapieli. Zwiazek B stanowi zasadniczy dodatek blasko- twórczy i powoduje silne wyblyszczenie powloki cynko¬ wej. Korzystny zakres gestosci pradu wynosi od 1 do 5 A/dm2 a temperatura pracy kapieli 20—3(PC.Wynalazek jest blizej wyjasniony w-nitej opisanych przykladach.3 112 168 4 P r z y k la d I. Sporzadzono kapiel podstawowa przez rozpuszczenie 25g/l tlenku cynkowego, 20 g/l cyjanku sodowego i 85 g/l wodorotlenku sodowego. Do roztworu dodano 0,5 g/l zwiazku HOCH2—NH—(CH2CH2 NH)2—CH2OH i 0,07 g/l C6H5—CH=N—(CH2CH2 NH)4—CH2CH2OH.Przy gestosci pradu 3 A/dm2 w ciagu 20 minut cynko¬ wano silnie profilowane detale — kubki kondensatorów.Detale zostaly pokryte powloka cynkowa o wysokim polysku i przecietnej grubosci 15 /im.Przykladu. Sporzadzono kapiel podstawowaprzez rozpuszczenie 15 g/l tlenku cynku, 12 g/l cyjanku sodu i 90g/l wodorotlenku sodu. Do roztworu dodano lg/1 dodatku A w postaci HO—CHaCH(OH)CH2NH— CH2CH2NH—CH2CH2OH i 0,070g/l dodatku B w postaci C«H5—CH=N—(CH2CH2NH)j—CH2OH. W kapieli w bebnie skosnym umieszczono gwozdzie. Proces cynkowania prowadzono w ciagu 45 minut przy sredniej gestosci pradu 1 A/dm*. Otrzymana powloka cynkowa wykazywala wysoki polysk a przecietna jej grubosc wynosila 15/im.Zastrzezenie patentowe Kapiel niskocyjankowa do cynkowania z polyskiem stanowiaca wodny roztwór jonów cynku, wodorotlenku sodowego, cyjanku sodowego i substancji blaskotwór- czej, znamienna tym, ze jonów cynku zawiera 5—50g/l, wodorotlenku sodu od 60—150^1, cyjanku sodowego od 5—50 g/l i jako substancje blaskotwórcza mieszanine dwóch zwiazków A i B w stosunku molowym od 2:1 do 10:1 przy lacznym stezeniu od 0,1 do 3 g/l, o wzorze Ri—(CH2—CH2—NH)„—R2,w którymn mozeprzybie- rac wartosci od 1 do 5, przy czym podstawnikiem Ri zwiazku A jest —NH—CH^H lub —NH—CH2- CH(OH)—CH^H a R2 jest —H albo —CH^H lub —CH2—CH2—OH, podstawnikiem Ri, zwiazku B jest jedno z ugrupowan przedstawionych narysunku a R2jcst —H albo -CHjOH lub —CH2—CH2-OH lub — CH2—CH(OH)—CH^H.-N=CH-( ) -N=CH OCH, -N= CH-CH=CH-^ -N=CH^C3^ OCH, Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 egz.Cena 45 zl PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Kapiel niskocyjankowa do cynkowania z polyskiem stanowiaca wodny roztwór jonów cynku, wodorotlenku sodowego, cyjanku sodowego i substancji blaskotwór- czej, znamienna tym, ze jonów cynku zawiera 5—50g/l, wodorotlenku sodu od 60—150^1, cyjanku sodowego od 5—50 g/l i jako substancje blaskotwórcza mieszanine dwóch zwiazków A i B w stosunku molowym od 2:1 do 10:1 przy lacznym stezeniu od 0,1 do 3 g/l, o wzorze Ri—(CH2—CH2—NH)„—R2,w którymn mozeprzybie- rac wartosci od 1 do 5, przy czym podstawnikiem Ri zwiazku A jest —NH—CH^H lub —NH—CH2- CH(OH)—CH^H a R2 jest —H albo —CH^H lub —CH2—CH2—OH, podstawnikiem Ri, zwiazku B jest jedno z ugrupowan przedstawionych narysunku a R2jcst —H albo -CHjOH lub —CH2—CH2-OH lub — CH2—CH(OH)—CH^H. -N=CH-( ) -N=CH OCH, -N= CH-CH=CH-^ -N=CH^C3^ OCH, Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 egz. Cena 45 zl PL