PL111427B1 - Developer for printing plates processing - Google Patents

Developer for printing plates processing Download PDF

Info

Publication number
PL111427B1
PL111427B1 PL1975183442A PL18344275A PL111427B1 PL 111427 B1 PL111427 B1 PL 111427B1 PL 1975183442 A PL1975183442 A PL 1975183442A PL 18344275 A PL18344275 A PL 18344275A PL 111427 B1 PL111427 B1 PL 111427B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
developer
lactam
image
weight
acid
Prior art date
Application number
PL1975183442A
Other languages
Polish (pl)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL111427B1 publication Critical patent/PL111427B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Opis patentowy optubldikowaino: 31. 03.1982 111427 Int. CL* G03C 5/24 Twórca wynalazku: Uprawniony z patentu: Yickers Limited, Londyn (Wielka Brytania) Wywolywacz do obróbki plyt drukarskich Przedcmioteim wynalazku jest wywolywacz do obróbki plyt drukarskich, zawierajacych naswiet¬ lona obrazem swiatloczula warstwe fotopolimeru.Warstwy takie sa szeroko uzywane do tworze¬ nia obrazów na róznych podlozach i sluza do wy¬ twarzania róznych produktów, takich jak wzory trawione, obwody drukowane ii plyty lub matryce drukarskie. Szczególnie waznym jest zastosowanie wynalazku w wytwarzaniu litograficznych plyt drukarskich, chociaz moze takze znalezc zastoso¬ wanie w wytwarzaniu innych rodzajów plyt dru¬ karskich, takich jak plyt typograficznych pras drukarskich, gdzie obraz jest trawiony w postaci reliefu oraz do wytwarzania obwodów drukowa¬ nych, obwodów scalonych itp.Drukowanie wzorów, typogpnafii i ilustracji na róznych materialach, takich jak papier, karton, tworzywa sztuczne i imetal prowadzi sie czesto przy uzyciu litografii. W druku litograficznym sto¬ suje sie specjalne plyty drukarskie, które gdy sa zwilzone woda, selektywnie przyjmuja farbe ole¬ jowa z jednego lub wiecej walców pokrytych farba i przenosza ja posrednio lub bezposrednio na pa¬ pier lub inny drukowany material. Litograficzne plyty drukarskie znane sa jako plyty planograficz- ne lub plyty powierzchniowe. Drukowany obraz na litograficznej plycie drukarskiej nie wystaje ponad powierzchnia plyty i nie jest zaglebiony po¬ nizej poziomu lub plaszczyzny otaczajacej po¬ wierzchni nie zawierajacej obrazu, stad okreslenie 10 15 20 25 planografiezny. Tym rózni sie on od plyt, form i walców, stosowanych w dwóch innych glównych metodach druku, a mianowicie typografod i druku wkleslego.Drukowany obraz na przyklad do druku typo¬ graficznego jest zasadniczo wyniesiony ponad pod¬ trzymujacy go material, nie zawierajacy obrazu, a w plytach lub walcach do druku wkleslego jest obnizony ponizej otaczajacej powierzchni nie sta¬ nowiacej obrazu. W technice litograficznej plyta musi posiadac odpowiednie wlasciwosci powierzch¬ ni, umozliwiajace przyleganie farby do zadanej powierzchni obrazu i nie przyleganie jej do czy¬ stych powierzchni -nie stanowiacych obrazu. Dla¬ tego wazny jest wlasciwy dobór skladników ma¬ terialów stosowanych do sporzadzania plyt litogra¬ ficznych. Wazne jest takze aby plyta i znajdujace sie na niej materialy byly odpowiednio przygoto¬ wane, w przeciwnym bowiem razie nie mozna uzyskac istotnych odpowiednio oleofilowych i hyd- rofilowych wlasciwosci powierzchni stanowiacych i nie stanowiacych obrazu.W ostatnich latach ulegly zmianie metody foto¬ graficzne, stosowane do uzyskiwania obrazów me¬ toda litografii. Podczas gdy do wytwarzania tak zwanego obrazu powierzchniowego przez naswiet¬ lanie pod . negatywem fotograficznym stosowano zwykle koloidy naturalne (np. albumina) uczulane dwuchromianem, obecnie w procesie obróbki ne¬ gatywowej stosuje sie dwa alternatywne sposoby. 111 427111 427 3 4 W jednym z nich stosuje sie plyte swiatloczula zawierajaca powloke zywicy dwuazowej, tworzaca bardzo cienka warstwe na powierzchni metalowego podloza, wykonanego zwykle z aluminium. W dru¬ gim sposobie stosuje sie w tym samym celu plyte swiatloczula stanowiaca podloze, pokryte grubsza warstwa swiatloczulego polimeru (np. cynamoilo- wanej zywicy). Teswiatloczule polimery zachowuja sie jek materialy negatowywe, utwardzaja sie pod wplywem swiatla i mozna je okreslic jako poli¬ mery zawierajace liczne grupy o wzorze —CH= =«CH—CO—. ^topoliimery takie opisano w bry¬ tyjskich opisach patentowych nr nr 695197, 794572, 813605, 838547, 846908, 913764, 921530, 949919, 966296, 966297, 1112277, 1117197, 1311692, 1313390, 1314689, 1317818, 1338020, 1341004, 1350351, 1353501, 1363214, 1377740, 1377747, 1378535, Takie uklady polimeryczne obrabia sie w spo¬ sób, zwany subtraktywnym. Sposób wedlug wy¬ nalazku dotyczy obróbki takich wlasnie swiatlo¬ czulych plyt, zawierajacych warstwy fotopolime- rów, zachowujacych sie jak material negatywowy.Swiatloczule plyty oparte na tych ukladach foto- polimerycznych stanowia podloze o powierzchni calkowicie pokrytej warstwa swiatloczulego poli¬ meru. Podloze stanowi zwykle metal, ewentualnie szlifowany i odpowiednio anodyzowany w celu poprawienia jego wlasciwosci. Warstwe polimeru naswietla sie obrazem przy uzyciu odpowiedniego negatywu, stosujac swiatlo aktyniczne.Naswietlona czesc warstwy polimerowej utwar¬ dza sie. Plyte naswietlona obrazem poddaje sie obróbce, polegajacej na usuwaniu z powierzchni podlozy nienaswietlonych i zbednych obszarów (tzn. plyta jest „wywolywalna,,) i nadaniu pod- warstwowym obszarom powierzchni nosnka, od¬ slonietych po usunieciu obszarów nienaswietlonych, wlasciwosci odpowedniej chlonnosci wody (tzn. plyta jest „gumowana" lub „odczulana").Typowym przykladem ukladu fotopolimeryczne- go tego rodzaju, którego dotyczy sposób wedlug wynalazku jest policynamonian winylu. Ten i po¬ dobne polimery swiatloczule, które czesto miesza sie z odpowiednimi sensybilizatorami dla nadania im czulosci na swiatlo i barwniki, wywoluje sie wywolywaczem, zawierajacym jeden lub wiecej cieklych organicznych rozpuszczalników. Stosuje sie takie rozpuszczalniki, które rozpuszczaja nie- naswietlone obszary polimeru a nie rozpuszczaja jego obszarów poddanych dzialaniu swiatla. Od¬ czulanie powierzchni podloza odslanianej podczas wywolywania wykonuje sie w tradycyjny sposób, stosujac odpowiednie materialy blonotwórcze lub tworzace warstwy, i doprowadzajac do ich zetknie¬ cia i ewentualnie reakcji z powierzchnia metalu.Materialy takie sa dobrze znane i moga to byc odazulacze koloidalne, np. guma arabska lub kar- boksymetyloeeluloza sodowa badz kwasy odczula¬ jace takie jak kwas fosforowy.Opisany poprzednio sposób wytwarzania plyt litograficznych umozliwia dostarczanie uczulonych plyt uzytkownikom, a tym ostatnim tanie i szyb¬ kie sporzadzanie plyt litograficznych. Takie plyty drukarskie zdolne sa do wydrukowamia 50.000 lub wiecej zadawalajacych kopii Gdy stosuje sie od¬ powiednie podloza metalowe, wydajnosc uzyskana z jednej plyty moze siegac 400.000 kopii.Dobór rozpuszczalnika organicznego, stosowane¬ go w wywolywaczu nie jest latwy ze wzgledu na istniejace liczne ograniczenia. Jesli rozpuszczalnik jest zbyt silny; obraz utworzony przez naswietlone obszary polimeru jest oslabiony, jesli zas rozpu¬ szczalnik nie jest dostatecznie mocny, niepozadane, nienaswietlone obszary polimeru nie zostaja usu¬ niete w dostatecznym stopniu. Ponadto, jesli roz¬ puszczalnik nadmiernie odparowuje w temperatu¬ rze pokojowej, jest on niewygodny i przypuszczal¬ nie drogi w uzyciu. Nalezy takze unikac rozpu¬ szczalników w jakims stopniu toksycznych. Wresz¬ cie, zwykle konieczne jest wlaczenie w sklad wy¬ wolywacza kwasu odczulajacego i tym samym uzywany rozpuszczalnik nie .powinien ulegac latwo hydrolizie, powodowanej przez kwas.Wszystkie rozpuszczalniki organiczne, stosowane zwykle do wywolywania fotopolimerów, wykazuja jedna lub wiecej z powyzszych wad. Np. cyklo- heksanon jest toksyczny i ma nieprzyjemny za¬ pach, zwlaszcza w podwyzszonej temperaturze nie¬ których pomieszczen roboczych; alkohol czterowo- dorofurfurylowy nie jest toksyczny, ale nie jest dostatecznie mocnym rozpuszczalnikiem, butyro- lakton nie jest toksyczny, ale latwo ulega hydro¬ lizie w obecnosci kwasów; octan metoksybutylu jest toksyczny, posiada mdly zapach i ulega hyd¬ rolizie w obecnosci kwasów; octan 2-metoksyetylu jest toksyczny i latwo ulega hydrolizie w obec¬ nosci kwasów; dwumetyloformamid jest bardzo toksyczny.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera laktam o ogólnym wzorze 1, w którym n oznacza 0 lub liczbe calkowita 1—9, R oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy, alkenylowy, aralkilowy, arylowy lub acylowy, a R' i R" sa takie same lub rózne i oznaczaja kazdy atom wodoru, rodnik alkilowy lub arylowy, a ponadto kwas, srodek zwilzajacy, obojetny rozcienczalnik i/lub dodatkowa ciecz orga¬ niczna, stanowiaca selektywny rozpuszczalnik nie¬ naswietlonych obszarów fotopolimeru naswietlone¬ go obrazem.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera 50— —99,99a/o wagowych laktamu, 0,01—5,00% wago¬ wych rozcienczalnika i 1,0—50,0% wagowych do¬ datkowej cieczy organicznej.Korzystne sa zwiazki o ogólnym wzorze 1, w którym n ma wartosc 0—3. Przykladami takich Y — laktanów sa pirolidynon-2 (temperatura top¬ nienia 25°C) i jego hydrat (temperatura topnienia 41°C), l-winylopirolidynon-2, 1-etylopirolidynon, l-izopropylopirolidynon-2, l-n-butylopirolidynon-2, l-pentylopirolidynon-2, l-fenylopirolidynon-2 (tem¬ peratura topnienia 68°C), l^CP-toluilo) pirolidynon-2 (temperatura topnienia 88,5°C), 1-acetylopirolidy- non-2. Przykladowymi o — laktamami sa pipery- don-2 (temperatura topnienia 39°C), lHnetylopipe- rydon-2, 3-metylopiperydon-2 (temperatura topnie¬ nia 53°C), 3^etylopiperydon-2 (temperatura topnie¬ nia 68°C), 3^n-propylopiperydon-2 (temperatura topnienia 59°C) i 6-n-propylopiperydon-2 (tempe¬ ratura topnienia 84°C). Przykladowym e — lakta¬ mem jest 6-heksanolaktam. W przypadku, gdy 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 605 111 427 6 laktam jest w temperaturze -pokojowej cialem sta¬ lym, trzeba go przed uzyciem przeprowadzic w stan ciekly przez ogrzanie lub rozpuszczenie.Szczególnie korzystnymi laktamami sa 1-metylo- pirolidynon-2, l-butylopirolidyinon-2, 1-cykloheksy- lopirolidynon-2, pirolidynon-2, 1-winylopirolidy- non-2 i e — kaprolaktam. Stwierdzono, ze lakta¬ my te odznaczaja sie szczególnie dobrym dziala¬ niem rozpuszczajacym wobec nienaswietlonych powierzchni fotopolimerów i tym samym moga byc stosowane w postaci rozcienczonej, natomiast nie powoduja zbednego pecznienia polimeru, utwar¬ dzonego dzialaniem swiatla. Szczególnie korzystny jest l-metylopirolidynon-2, gdyz jest on nietoksy¬ czny, ma niska preznosc par i nieznaczny zapach.Jest on równiez trwaly w warunkach kwasnych.W przypadku gdy wywolywacz dodatkowo za¬ wiera kwas, moze to byc kwas nieorganiczny, np. kwas fosforowy, kwas siarkowy lub kwas solny, badz organiczny kwas karboksylowy a zwlaszcza jednokarboksylowy taki jak kwas octowy, kwas hydroksykarboksylowy taki jak kwas mlekowy i kwas glikolowy, lub nienasycony kwas karbo¬ ksylowy taki jak kwas a-butenokarboksylowy.Ilosc kwasu w wywolywaczu wynosi 1—5°/o obje¬ tosciowych w przeliczeniu na objetosc stosowanego laktamu, a pH wywolywacza korzystnie wynosi 2—6.Dla nadania wywolywaczowi dobrej rozlewnosci i ulatwienia utrzymania w nim w stanie zawie¬ siny polimeru i pigmentu (w przypadku gdy warstwa fotopolimeru zawiera pigment) usuniety z nienaswietlonych obszarów, korzystna jest obec¬ nosc w nim jednego lub wiecej srodków zwilza¬ jacych. Przykladowymi srodkami zwilzajacymi sa Texofer FP 85 i 65A9P (kondensaty eteru polioxy- etylenowego wytwarzane przez firme Glovers Che¬ mical Ltd), Perminal BX (sól sodowa alkilowanego kwasu naftalenosulfonowego wytwarzana przez firme ICI Ltd), Aerosol OT i Tergitol MPX (pro¬ dukt kondensacji nonylofenolu z tlenkiem etylenu wytwarzany przez firme Union Carbide).W przypadku gdy wywolywacz zawiera obojet¬ ny rozcienczalnik, moze to byc np. woda, etano- loamina, eter jednoetylowy glikolu etylenowego (2-etoksyetanol), glikol etylenowy, glikol dwuety- lenowy^ eter jednoetylowy glikolu dwuetylenowego tzn. 2-(2-etoksy etoksy) etanol, dwuacetonoalkohol, izopropanol lub inna ciecz, która stosowana sama nie wykazuje znaczniejszego dzialania rozpuszcza¬ jacego na warstwe naswietlana obrazem.W przypadku gdy utrwalacz zawiera dodatkowa ciecz organiczna bedaca selektywnym rozpuszczal¬ nikiem obszarów nienaswietlonych, moze nia byc dowolny, mieszajacy sie z innymi skladnikami wy¬ wolywacz ciekly rozpuszczalnik organiczny, stoso¬ wany zwykle do wywolywania fotopolimeru. Ta¬ kimi przykladowymi dodatkowymi organicznymi cieczami rozpuszczajacymi sa octan 2-metoksyety¬ lu, y-butyrolakton, alkohol czterowodorofarfury- lowy, n-propanol i octan metoksybutylu.Stwierdzono, ze wywolywacz wedlug mynalazku nadaje sie do wywolania licznych warstw foto¬ polimeru naswietlonych obrazem, a zwlaszcza do wywolywania warstw fotopolimerów zawierajacych liczne grupy o wzorze —CH=CH—CO— jak opi¬ sano poprzednio. Przykladami takich fotopolime¬ rów sa zywice estrowe polimeryzujace pod wply¬ wem swiatla, takie jak zywice pochodne polime- 5 rów zawierajacych wolne grupy wodorotlenowe, np. alkoholu poliwinylowego lub zywic epoksy¬ dowych i nienasyconych kwasów karboksylowych takich jak kwas cynamonowy.W praktycznym zastosowaniu wywolacz wedlug wynalazku do wytwarzania plyt drukarskich, swiatloczula plyte, stanowiaca warstwe fotopoli¬ meru powleczona na powierzchni polloza naswietla sie odpowiednio obrazem przy uzyciu swiatla akty- nicznego. Nastepnie naswietlona warstwe wywolu¬ je sie, stosujac wywolywacz przez okres czasu, po¬ trzebny do usuniecia polimeru z obszarów niena¬ swietlonych. Dzialaniu rozpuszczalnika sprzyja dzialanie mechaniczne. I tak, bardzo uzytecznym sposobem nakladania wywolywacza na plycie jest pedzlowanie. Wywolywacz ma wystarczajaca aktywnosc, aby mozna go bylo stosowac w tem¬ peraturze pokojowej, w miare potrzeby mozna go jednak stosowac w temperaturze podwyzszonej do 50°C. Po poczatkowym nalozeniu wywolywacza, mozna go nakladac powtórnie, po czym dla nada¬ nia obszarom powierzchni podloza odslonietym przez usuniecie nienaswietlonych obszarów polime¬ rów wlasciwosci hydrofilowyeh naklada sie jedno¬ krotnie lub dwukrotnie material odczulajacy. Na¬ stepnie plyte suszy sie otrzymujac na niej obraz do druku, utworzony przez obszary naswietlone i obszary nie ulegajace odcisnieciu podczas dru¬ ku, utworzone przez odsloniete obszary powierz¬ chni podkladu.Wynalazek jest blizej wyjasniony w ponizszych przykladach wykonania, w niczym nie ogranicza¬ jacych jego zakresu. Wszystkie ilosci, o ile nie podano inaczej, sa wyrazone w czesciach wago¬ wych.Przyklad I. Swiatloczula plyte drukarska Super Sensalith produkcji firmy Howson-Algraphy i stanowiaca podloze z anodyzowanego aluminium z naniesiona warstwa fotopolimeru, zawierajaca cynamoilowana zywice epoksydowa styka sie z ne¬ gatywem fotograficznym i naswietla w ciagu pieciu minut swiatlem lampy z lukiem weglowym. Na¬ stepnie plyte poddaje sie recznej obróbce przez na¬ cieranie w ciagu trzydziestu sekund 1-metylopiro- lidynonem-2 i odczula roztworem, zawierajacym 46% objetosciowych wody, 50*/o objetosciowych gumy arabskiej (ciezar wlasciwy 1,17), O,90/o obje¬ tosciowych Perminal BX, 2*/o objetosciowych dwu- wodorofosforanu amonowego i l,lf/o objetoscio¬ wych kwasu fosforowego (ciezar wlasciwy 1,75).Gdy otrzymana plyte drukarska zwilza sie woda i nadaje farba olejowa, widac wyraznie nadany fairba obraz, który ma byc drukowany.Przyklad II. Postepuje sie jak w przykla- lzie I z ta róznica, ze plyte swiatloczula stanowi anodyzowane podloze aluminiowe powleczone war¬ stwa Waycoat photoresist (produkcji firmy Phillip A, Hunt Chemical Corporation).Waycoat photoresist stanowi polimer, uwazany 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60111427 8 20 za .policynamonian winylu. Widac wyrazny nadany farba obraz, który ma byc drukowany.Przyklad III. Postepuje sie jak w przykla¬ dzie I, stosujac z równie dobrym wynikiem jako wywolywacz nastepujacy roztwór. 5 l-metylopirolidynon-2 5 czesci 4-hydroksy-4-metylopentanon-2 (rozcienczalnik) 4,6 czesci ikwas fosforowy (ciezar wlasciwy 1,75) 0,4 czesci Przyklad IV. Plyte Super Sensalith produk- 10 cji firmy Howson-Algraphy poddaje sie obróbce na automatycznym 'Uirzadzenaiu do obróbki plyt ne¬ gatywnych majacym szerokosc 76,2 cm i .przy pred¬ kosci przesuwu 91,44 cm/minute po naswietleniu jej ze zródla pulsujacego swiatla ksenonawegó 15 pod negatywem fotograficznym o strukturze krop¬ kowej. Sekcja odczulajaca urzadzenia do obróbki jest wypelniona IOVo wodnym roztworem poliakry- loaanidu, a sekcja wywolujaca zawiera wywoly¬ wacz o nastepujacym skladzie: l-metylopirolidynon-2 5 czesci alkohol czterowodorofurfurylowy 3 czesci Texofor 65A9P (produkt Glovers ChemicalsLtd) 1 czesc kwas siarkowy OJ. czesci ^ Waxoline Bhie AS (produkt ICI Ltd) 0,1 czesci TexofoT 65A9P :est srodkiem zwilzajacym i sta¬ nowi kondensat eteru polioksyetylenowego o wzo¬ rze R.O.(C2H40)nH, w którym R oznacza grupe alifatyczna o dlugimlancuchu. * Nie stwierdzono trudnosci w uzyskiwaniu wy¬ raznych czarnych cdbitek kopii obrazu uzyskanego na plycie planograficznej przy sporzadzaniu ich na pras:e do druku technika litografii. Tempera¬ tura roztworu w sekcji wywolujacej urzadzenia 3B wynosi 24°C.Przyklad V. Postepujac jak w przykladzie IV osiaga sie podobne wyniki, stosujac roztwór wywolujacy o letmperaturze 40°C. W pomieszcze¬ niach roboczych nie stwierdza sie niepozadanych zapachów. Wywolywanie mozna prowadzic przy wiekszej predkosci przesuwu.Przyklad VI. Wytwarza sie plyte swiatlo¬ czula, powlekajac szlifowana i anodyzowaina blache 45 aluminiowa swiatloczula cynamoilowana zywice epoksydowa w ilosci 0,5 grama na metr kwadra¬ towy. Po starannym wysuszeniu plyte naswietla sie stykowo w ciagu 1,5 minuty polowicznie tono¬ wanym negatywem w swietle halogenowej lampy ^ rteciowej. Plyte tnie sie na cztery czesci, i kazda z nich wywoluje sie nastepujaco: A — Wywolywanie l-butylopirolidynonem-2 w temperaturze 22°C B — Wywolywanie 1-cykloheksylopirolidyno- 55 nem-2 w temperaturze 50°C C — Wywolywanie pirolidynanem-2 w tempe¬ raturze 50°C D — Wywolywanie lawinylopirolidynonem-2 w temperaturze22°C w Kazda z czesci plyty odczula sie roztworem od¬ czulajacym o skladzie podanym w przykladzie I i po zwilzeniu nadaje czarna fa*rba olejowa.W kazdym przypadku otrzymuje sie wyrazny obraz dodruku. 6S 40 Przyklad VII. W przykladzie tym przedsta¬ wiono jak znacznie mozna rozcienczac odpowiedni laktam aby uzyskac niskie koszty procesu bez obnizenia jego uzytecznosci Postepuje sie jak w przykladzie I, stosujac wy¬ wolacze o nastepujacym skladzie: A. 9 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 1 czesc wo¬ dy B.-.8 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 2 czesci eta- noloaminy C. 6,5 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 3,5 czesci etanoloaminy D. 10 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 9 czesci etoksyetanolu , E. 6 czesci l-metylopdrolidynanu-2 i 4 czesci 2-(2-etoksy efcaksy) etanolu F. 10 czesci l-metylopi«)liid,iaioniU-2 i 9 czesci 4-hydroksy-4^me[ylopenta»nonu-2.W kazdym przypadku uzyskuje sie zadawalajace plyty dirukairskie.Postepuje sie równiez jaik w przykladzie I, sto¬ sujac mieszanine laktamów z octanem 2-metoksy- etylu i mieszanine laktamów z Y^^yrolaktonem.Równiez i w tym przypadku osiaga sie zadawala¬ jace wyniki.Przyklad VIII. Postepuje sie jak w przy¬ kladzie IV, stosujac jako wywolywacz cieply roz¬ twór czesci e-kaprolaktamu w 9 czesciach 2-etok- syeianolu. Uzyskuje sie podobne wyniki.Przyklad IX. Postepuje sie jak w przykla¬ dzie I z ta róznica, ze stosuje sie plyte litogra¬ fie :,na LNL produkcji fumy Kodak Limited. Jest to plyta do obróbki negatywowej i stanowi pod¬ klad pokryty powloka fo^opolimeru. Uzyskuje sie wyrazny obraz do druku.Przyklad X. Czolowa powierzchnie, nieuzy¬ wanej plyty cynkowej do chemigrafii produkcji fiirmy S. D. Syndicate Ud oczyszcza sie i pokrywa warstwa KPR produkcji firmy Kodak Limited.Uwaza sie, ze KPR stanowi fotopolimer policyna- rnonianiu winylu. Po wysuszeniu otrzymana swiat¬ loczula plyte naswietla sie stykowo w ciagu kilku minut kontrastowym negatywem przy uzyciu swiatla aktynicznego. Nastepnie plyte wywoluje sie przy uzyciu lHmetyloporolidynonu-2 i suszy.Obraz, pozostaly na plycie po wywolaniu stosuje sie jako warstwe ochronna podczas trawienia plyty srodkiem trawiacym zawierajacym kwas azotowy, otrzymujac plyte drukarska do druku typograficz¬ nego zawierajaca obraz do druku w postaci re¬ liefu.Przyklad XI. Gladki kawalek miedziowego laminatu z krtonu laminowanego zywica, stoso¬ wanego do wytwarzania obwodów drukowanych, powleka sie warstwa Waycoat photo-resist (pro¬ dukcji firmy Philip i A. Hunt Chemical Corpora¬ tion). Otrzymana swiatloczula plyte naswietla sie pod ugatywowa fotograficzna reprodukcje obwodu elektronicznego i wywoluje roztworem zawieraja¬ cym 10 czesci l-metylopirolidynomu-2 i 8 czesci izopropamolu (rozcienczalnik). Otrzymuje sie czysto wywolany wyraznie obraz w postaci wytrawione} powloki.111 427 9 PLPatent description optubldikowaino: 31. 03.1982 111427 Int. CL * G03C 5/24 Inventor: Authorized by the patent: Yickers Limited, London (Great Britain) Developer for processing printing plates. The subject of the invention is a developer for processing printing plates containing an image exposed to an image The photosensitive photopolymer layer. Such layers are widely used to form images on a variety of substrates and are used to produce a variety of products such as etching patterns, printed circuit boards, and printing plates or matrices. The use of the invention is particularly important in the manufacture of lithographic printing plates, although it may also find application in the manufacture of other types of printing plates, such as letterpress printing press plates, where the image is etched in relief form, and for the production of printed circuits, etc. Printing patterns, typography and illustrations on various materials such as paper, cardboard, plastics and metal is often done using lithography. In lithographic printing, special printing plates are used which, when wetted with water, selectively receive the oil ink from one or more ink-coated rolls and transfer it directly or indirectly to the paper or other printed material. Lithographic printing plates are known as planographic plates or surface plates. The printed image on the lithographic printing plate does not protrude above the plate surface and is not sunk below the level or plane surrounding the non-image surface, hence the term planography. This differs from the plates, molds and cylinders used in the other two main printing methods, namely letterpress and gravure printing. The printed image, for example for typographic printing, is generally elevated above the supporting material, containing no image, and in plates or rollers for gravure printing is reduced below the non-image surrounding surface. In the lithographic technique, the plate must have appropriate surface properties that allow the paint to adhere to the desired image surface and not to adhere to clean surfaces that constitute the image. Therefore, it is important to properly select the components of the materials used in the preparation of lithographic plates. It is also important that the plate and the materials on it are properly prepared, otherwise it is not possible to obtain significant, respectively, oleophilic and hydrophilic properties of the surfaces that constitute and do not constitute an image. In recent years, the photographic methods used have changed. for obtaining images by lithography. Whereas for the production of a so-called surface image by irradiation under. In the photographic negative, natural colloids (eg albumin) sensitized with dichromate have usually been used, currently, two alternative methods are used in the negative treatment process. 111 427111 427 3 4 One uses a photosensitive plate containing a diazo resin coating that forms a very thin layer on the surface of a metal substrate, usually made of aluminum. In the second method, for the same purpose a photosensitive plate is used as a substrate, covered with a thicker layer of a photosensitive polymer (eg cinnamylated resin). The photosensitive polymers behave as negative materials, cure under the influence of light and can be described as polymers containing numerous groups of the formula —CH = "CH — CO—. Such popolymers are described in British patents Nos. 695197, 794572, 813605, 838547, 846908, 913764, 921530, 949919, 966296, 966297, 1112277, 1117197, 1311692, 1313390, 1314689, 1320, 134100480, 1320, 1341, 13300480. 1353501, 1363214, 1377740, 1377747, 1378535. Such polymeric systems are processed in a so-called subtractive manner. The method according to the invention relates to the treatment of such photosensitive plates containing photopolymer layers which behave like a negative material. The photosensitive plates based on these photopolymer systems constitute a substrate with a surface completely covered with a photosensitive polymer layer. The substrate is usually metal, possibly ground and properly anodized in order to improve its properties. The polymer layer is irradiated with the image using an appropriate negative, using actinic light. The exposed part of the polymer layer is cured. The plate exposed to the image is treated to remove the non-illuminated and redundant areas from the surface of the substrate (i.e. the plate is "developable") and to give the sub-layered areas of the surface of the nose, exposed after removal of the non-illuminated areas, the properties of a suitable water absorption (i.e. the disc is "gummed" or "desensitized"). A typical example of a photopolymer system of the type to which the method of the invention relates is vinyl polycinnamate. This and similar photosensitive polymers, which are often mixed with suitable sensitizers to make them sensitive to light and dyes, are developed with a developer containing one or more liquid organic solvents. Such solvents are used which dissolve the non-illuminated areas of the polymer and do not dissolve its areas exposed to the light. The desensitization of the surface of the substrate that is exposed during development is carried out in the traditional way, using suitable film forming or film-forming materials, and bringing them into contact and possibly reacting with the metal surface. Such materials are well known and may be colloidal desensitisers, e.g. gum arabic or sodium carboxymethyl cellulose or desensitizing acids such as phosphoric acid. The previously described method of producing lithographic plates enables the delivery of sensitized plates to users, and the latter to the cheap and quick preparation of lithographic plates. Such printing plates are capable of printing 50,000 or more satisfactory copies. When an appropriate metal substrate is used, the yield from one plate can be as high as 400,000 copies. The selection of the organic solvent used in the developer is not easy due to numerous limitations. If the solvent is too strong; the image formed by the illuminated regions of the polymer is weakened, if the solvent is not strong enough, undesirable, unexposed regions of the polymer are not sufficiently removed. Moreover, if the solvent evaporates excessively at room temperature, it is inconvenient and possibly expensive to use. Also, to some extent toxic solvents should be avoided. Finally, it is usually necessary to include a desensitizing acid scavenger in the composition and therefore the solvent used should not be easily hydrolysed by the acid. All organic solvents commonly used to develop photopolymers suffer from one or more of the above drawbacks. For example, cyclohexanone is toxic and has an unpleasant odor, especially at elevated temperatures in some workrooms; tetrahydrofurfuryl alcohol is not toxic but is not a strong enough solvent, butyrolactone is not toxic but is easily hydrolyzed in the presence of acids; methoxybutyl acetate is toxic, has a faint odor and is hydrolyzed in the presence of acids; 2-methoxyethyl acetate is toxic and is readily hydrolyzed in the presence of acids; Dimethylformamide is very toxic. The developer according to the invention contains a lactam of the general formula I in which n is 0 or an integer 1-9, R is hydrogen, alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl or acyl, and R 'and R "are the same or different and denote each hydrogen atom, an alkyl or aryl radical, and in addition, an acid, a wetting agent, an inert diluent and / or an additional organic liquid that is a selective solvent for the unexposed regions of the photopolymer illuminated by the image. The developer of the invention comprises 50 to 99.99% by weight of lactam, 0.01 to 5.00% by weight of the diluent and 1.0-50.0% by weight of additional organic liquid. The compounds of the general formula I are preferred, in which n has a value of 0 to 3. Examples of such Y-lactanes are 2-pyrrolidinone (melting point 25 ° C) and its hydrate (mp 41 ° C), 1-vinylpyrrolidinone-2,1-ethylpyrrolidinone, 1-isopropyl-2-pyrrolidinone. , ln-butylpyrrolidinone-2,1-pentylpyrrolidinone-2,1-fe 2-nylpyrrolidinone (m.p. 68 ° C.), 1-CP-toluyl) 2-pyrrolidinone (m.p. 88.5 ° C.), 2-acetylpyrrolidinone. Examples of o-lactams are piperidone-2 (m.p. 39 ° C), 1H-methylpiperidone-2,3-methylpiperidone-2 (mp. 53 ° C), 3-ethylpiperidone-2 (mp 68 ° C.), 2-n-propylpiperidone-3 (mp. 59 ° C.) and 6-n-propyl-piperidone-2 (mp. 84 ° C.). An exemplary e-lactam is 6-hexanolactam. In the case where the lactam is a solid at room temperature, it must be liquefied by heating or dissolving before use. Particularly preferred lactams are 1-methyl-lactam. pyrrolidinone-2,1-butylpyrrolidinone-2,1-cyclohexyl-2-pyrrolidinone-2, pyrrolidinone-2,1-vinylpyrrolidin-2 and e-caprolactam. It has been found that these lactams have a particularly good dissolving effect on non-illuminated photopolymer surfaces and can therefore be used in a diluted form, but do not cause unnecessary swelling of the light-hardened polymer. 1-methylpyrrolidinone-2 is particularly preferred as it is non-toxic, has a low vapor pressure and a low odor. It is also stable under acidic conditions. Where the developer additionally contains an acid, it may be an inorganic acid, e.g. phosphoric acid, sulfuric acid, or hydrochloric acid, or an organic carboxylic acid, in particular a monocarboxylic acid such as acetic acid, a hydroxycarboxylic acid such as lactic acid and glycolic acid, or an unsaturated carboxylic acid such as a-butenecarboxylic acid. The acid amount in the developer is 1 -5% by volume based on the volume of lactam used, and the developer pH is preferably 2-6. In order to give the developer a good flow and help keep it suspended in the polymer and pigment (if the photopolymer layer contains pigment ) removed from non-illuminated areas, it is preferable to have one or more wetting agents therein. Examples of wetting agents are Texofer FP 85 and 65A9P (polyethylene ether condensates manufactured by Glovers Chemical Ltd), Perminal BX (sodium alkylated naphthalene sulfonic acid manufactured by ICI Ltd), Aerosol OT and Tergitol MPX (condensation product) nonylphenol with ethylene oxide manufactured by Union Carbide). Where the developer contains an inert diluent, it may be, for example, water, ethanolamine, ethylene glycol monoethyl ether (2-ethoxyethanol), ethylene glycol, diethylene glycol. diethylene glycol monoethyl ether, i.e. 2- (2-ethoxy ethoxy) ethanol, diacetone alcohol, isopropanol or other liquid which, when used alone, does not have a significant dissolving effect on the layer exposed to the image. If the fixer contains an additional organic liquid that is a selective solvent unlit areas, it can be any liquid developer that mixes with other ingredients an organic solvent usually used to develop a photopolymer. Examples of additional organic dissolving liquids are 2-methoxyethyl acetate, γ-butyrolactone, tetrahydrofarfuryl alcohol, n-propanol, and methoxybutyl acetate. The developer has been found to be capable of developing multiple photo-polymer layers illuminated by the image according to the invention. and in particular for developing photopolymer layers containing numerous groups of the formula —CH = CH — CO — as previously described. Examples of such photopolymers are ester resins polymerizing under the influence of light, such as resins derived from polymers containing free hydroxyl groups, for example polyvinyl alcohol or epoxy resins and unsaturated carboxylic acids such as cinnamic acid. According to the invention, for the production of printing plates, the photosensitive plate, constituting the photopolymer layer coated on the surface of pollen, is suitably illuminated with the image by means of actinic light. The irradiated layer then develops, applying the developer for the period of time necessary to remove the polymer from the unexposed areas. The action of the solvent is favored by mechanical action. Thus, a very useful way of applying a developer to a plate is brushing. The developer is sufficiently active to be used at room temperature, but may, if necessary, be used at temperatures elevated to 50 ° C. Following the initial application of the developer, it can be reapplied and the desensitizing material is applied once or twice to give the surface areas of the substrate exposed by removing the unexposed areas of the polymers a hydrophilic property. The plate is then dried to obtain a print image on it, formed by the light areas and the non-imprinted areas formed by the exposed areas of the primer surface. The invention is explained in more detail in the following embodiment examples and is by no means limited. its scope. All quantities, unless otherwise stated, are expressed by weight. Example I. A photosensitive Super Sensalith printing plate manufactured by Howson-Algraphy and an anodized aluminum substrate with a photopolymer layer applied with cinnamylated epoxy resin comes into contact with photo and illuminates it within five minutes with the light of a carbon arc lamp. Then the plate is manually processed by rubbing for thirty seconds with 1-methylpyrrolidinone-2 and desensitized with a solution containing 46% by volume of water, 50% by volume of gum arabic (specific weight 1.17), O, 90% volumetric Perminal BX, 2% volumetric dihydrogen phosphate il, lf% volumetric phosphoric acid (specific weight 1.75). When the obtained printing plate is moistened with water and gives the oil ink, it is clearly visible an image to be printed on the fairb Example II. The procedure is as in example I with the difference that the photosensitive plate is an anodized aluminum substrate coated with a Waycoat photoresist layer (produced by Phillip A, Hunt Chemical Corporation). Waycoat photoresist is a polymer, considered 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 111 427 8 20 for vinyl polynnamate. You can see the clear ink given to the image to be printed. Example III. The procedure of example I is followed, using the following solution as developer with equally good results. 5 1-methylpyrrolidinone-2 5 parts 4-hydroxy-4-methylpentanone-2 (thinner) 4.6 parts and phosphoric acid (specific weight 1.75) 0.4 parts Example IV. Super Sensalith plates from Howson-Algraphy are processed on an automatic machine for processing negative plates with a width of 76.2 cm and a travel speed of 91.44 cm / minute when illuminated from a pulsating light source. xenonavide under a dotted photographic negative. The desensitization section of the treatment equipment is filled with IOVO with an aqueous solution of polyacrylate and the developing section contains a developer of the following composition: 1-methylpyrrolidinone-2 5 parts tetrahydrofurfuryl alcohol 3 parts Texofor 65A9P (product of Glovers Chemicals Ltd). parts of Waxoline Bhie AS (product of ICI Ltd) 0.1 parts of TexofoT 65A9P: is a wetting agent and is a polyoxyethylene ether condensate of the formula R.O. (C2H40) nH where R is a long-chain aliphatic group. * No difficulties were found in obtaining distinct black copies of the image obtained on a planographic plate when making them on a press: lithographic technique for printing. The temperature of the solution in the developing section of apparatus 3B is 24 ° C. EXAMPLE 5 Following Example IV, similar results are obtained using an developing solution having a letmperature of 40 ° C. There are no undesirable odors in the work rooms. Retrieval can be done at higher traversing speed. Example VI. A photosensitive plate is produced by coating a ground and anodized sheet of 45 aluminum photosensitive cinnamoylated epoxy resin at a rate of 0.5 grams per square meter. After thorough drying, the plate is contact-irradiated with a semi-tones negative negative under the light of a halogen mercury lamp for 1.5 minutes. The plate is cut into four parts, and each of them develops as follows: A - L-butylpyrrolidinone-2 development at 22 ° CB - 1-cyclohexylpyrrolidine-2 development at 50 ° C - Pyrrolidinate-2 development at 50 ° CD - Avalanche-2-avalanche-2 induction at 22 ° C w Each part of the plate is felt with a desensitizing solution of the composition given in Example I and after wetting it gives a black oil film. In each case a clear image of the imprint is obtained. 6S 40 Example VII. This example shows how much a suitable lactam can be diluted in order to obtain low process costs without reducing its utility. The procedure is as in example I, using the following tweezers: A. 9 parts of 2-methylpyrrolidinone and 1 part of water. dy B .-. 8 parts of l-methylpyrrolidinone-2 and 2 parts of ethanolamine C. 6.5 parts of l-methylpyrrolidinone-2 and 3.5 parts of ethanolamine D. 10 parts of l-methylpyrrolidinone-2 and 9 parts of ethoxyethanol, E 6 parts of 1-methylpdrolidinan-2 and 4 parts of 2- (2-ethoxy efcaxy) ethanol F. 10 parts of l-methylpyri), iaioniU-2 and 9 parts of 4-hydroxy-4 ^ methylpenta »nonu-2 . Satisfactory printing plates are obtained in each case. Example 1 is also followed by using a lactam mixture with 2-methoxyethyl acetate and a lactam mixture with Y-yrolactone. Satisfactory results are also achieved in this case. Example VIII. The procedure is as in Example IV, using a warm solution of a part of β-caprolactam in 9 parts of 2-ethoxyeanol as developer. Similar results are obtained. Example IX. The procedure is as in example and with the difference that the lithographic plates are used: for LNL produced by Kodak Limited. It is a negative treatment plate and is a base coated with a foil of a polymer. A clear image is obtained for printing. Example X. The front surface of an unused zinc plate for chemigraphy produced by S. D. Syndicate Ud is cleaned and covered with a KPR film by Kodak Limited. KPR is considered to be a vinyl polycarbonate photopolymer. After drying, the resulting photosensitive plate is contact-irradiated within a few minutes with a contrasting negative by means of actinic light. The plate is then developed with 1H-methylporolidinone-2 and dried. The image remaining on the plate after development is used as a protective layer during etching of the plate with an etching agent containing nitric acid, obtaining a printing plate for letterpress printing containing an image for re-printing. Example XI The smooth pieces of a resin-laminated copper croton laminate used in the manufacture of printed circuit boards are coated with a Waycoat photo-resist layer (manufactured by Philip and A. Hunt Chemical Corporation). The resulting photosensitive plate is exposed to photographic reproduction of the electronic circuit and developed with a solution containing 10 parts 1-methylpyrrolidinome-2 and 8 parts isopropamol (diluent). You get a cleanly developed image in the form of an etched} shell. 111 427 9 EN

Claims (7)

Zastrzezenia patentowe 10 1. Wywolywacz do obróbki plyt drukarskich za¬ wierajacych naswietlona obrazem swiatloczula war¬ stwe polimeryzujacej pod wplywem swiatla zywi¬ cy estrowej z wiekszoscia grup o wzorze —CH= =CH—CO—, obejmujacy ciekly organiczny roz¬ puszczalnik w polaczeniu z kwasem, srodek zwil¬ zajacy, obojetny rozcienczalnik i/lub dodatkowa ciecz organiczna stanowiaca selektywny rozpusz¬ czalnik nienaswietlonych obszarów warstwy na¬ swietlonej obrazem, znamienny tym, ze zawiera laktam o ogólnym wzorze 1, w którym n oznacza 0 lub liczbe calkowita 1—9, R oznacza atom wo¬ doru, rodnik alkilowy, alkenyliowy, aralkilowy, arylowy lub acylowy, a R' i R" takie same lub rózne oznaczaja kazdy atom wodoru, rodnik alki¬ lowy lub arylowy.Claims 10 1. Developer for the treatment of printing plates containing a light-sensitive polymerizable layer under the influence of light of an ester resin of the formula —CH = = CH — CO—, including a liquid organic solvent in combination with acid, wetting agent, inert diluent and / or additional organic liquid as a selective solvent for non-illuminated areas of the image-exposed layer, characterized in that it comprises lactam of the general formula where n is 0 or an integer 1-9 , R represents a hydrogen atom, an alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl or acyl radical, and R 'and R "being the same or different are each hydrogen, alkyl or aryl radical. 2. Wywolywacz wedlug zastnz. 1, znamienny 10 15 tym, ze zawiera jako laktam l^butylopiirolidynon-2, 1-cykloneksylopiroiidynon-2, pirolidynon-2 lub e- -ikaprolaktam.2. Developer by substitute. A composition according to claim 1, characterized in that the lactam is 1,3-butylpyrrolidinone-2,1-cyclonexylpyrrolidinone-2, pyrrolidinone-2 or e-caprolactam. 3. Wywolywacz wedlug zastrz. 1 albo 2, zna¬ mienny tym, ze zawiera 50—99,99% wagowych lak¬ tamu.3. Developer according to claim 1 or 2, characterized in that it contains 50-99.99% by weight of lactam. 4. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera 0,01—5,00% wagowych kwasu.4. Developer according to claim The process of claim 1, wherein the acid content is 0.01-5.00% by weight. 5. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera 1,0—50,0% wagowych rozcienczal¬ nika.5. Developer according to claim The process of claim 1, containing 1.0-50.0% by weight of the diluent. 6. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze dodatkowo zawiera 1,0—50% wagowych cieczy organicznej, takiej jak alkohol czterowodo- rofarfurylowy, octan 2-metoksyetylu lub 8-butyro- laktanu.6. Developer according to claim The process of claim 1, additionally containing 1.0-50% by weight of an organic liquid such as tetrahydrofarfuryl alcohol, 2-methoxyethyl acetate or 8-butyrolactate. 7. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera jako laktam 1-metylo-pirolidy- non-2. C=0 PL7. Developer according to claim A composition according to claim 1, characterized in that it contains 1-methyl-pyrrolidin-2 as the lactam. C = 0 PL
PL1975183442A 1974-09-19 1975-09-19 Developer for printing plates processing PL111427B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB40949/74A GB1523877A (en) 1974-09-19 1974-09-19 Processing fo printing plates

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL111427B1 true PL111427B1 (en) 1980-08-30

Family

ID=10417398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1975183442A PL111427B1 (en) 1974-09-19 1975-09-19 Developer for printing plates processing

Country Status (23)

Country Link
JP (1) JPS5158104A (en)
AT (1) AT342626B (en)
BE (1) BE833591A (en)
BR (1) BR7506029A (en)
CA (1) CA1061154A (en)
CH (1) CH604216A5 (en)
CS (1) CS205008B2 (en)
DD (1) DD125502A5 (en)
DE (1) DE2541950A1 (en)
DK (1) DK418875A (en)
ES (1) ES441129A1 (en)
FI (1) FI752611A (en)
FR (1) FR2285636A1 (en)
GB (1) GB1523877A (en)
IE (1) IE41719B1 (en)
IT (1) IT1042707B (en)
KE (1) KE2945A (en)
LU (1) LU73430A1 (en)
NL (1) NL7510979A (en)
NO (1) NO753182L (en)
PL (1) PL111427B1 (en)
SE (1) SE7510307L (en)
ZA (1) ZA755870B (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2941960A1 (en) * 1979-10-17 1981-04-30 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt DEVELOPER MIXTURE AND METHOD FOR DEVELOPING EXPOSED LIGHT-SENSITIVE COPY LAYERS
US4428871A (en) * 1981-09-23 1984-01-31 J. T. Baker Chemical Company Stripping compositions and methods of stripping resists
US4395479A (en) * 1981-09-23 1983-07-26 J. T. Baker Chemical Company Stripping compositions and methods of stripping resists

Also Published As

Publication number Publication date
SE7510307L (en) 1976-03-22
KE2945A (en) 1979-04-12
FR2285636B1 (en) 1981-09-25
ATA720975A (en) 1977-08-15
GB1523877A (en) 1978-09-06
IT1042707B (en) 1980-01-30
AT342626B (en) 1978-04-10
AU8497575A (en) 1977-03-24
DK418875A (en) 1976-03-20
DD125502A5 (en) 1977-04-20
CH604216A5 (en) 1978-08-31
NO753182L (en) 1976-03-22
ES441129A1 (en) 1977-04-01
DE2541950A1 (en) 1976-04-08
JPS5158104A (en) 1976-05-21
FR2285636A1 (en) 1976-04-16
CA1061154A (en) 1979-08-28
BR7506029A (en) 1976-08-03
IE41719L (en) 1976-03-19
FI752611A (en) 1976-03-20
CS205008B2 (en) 1981-04-30
LU73430A1 (en) 1976-04-13
IE41719B1 (en) 1980-03-12
NL7510979A (en) 1976-03-23
ZA755870B (en) 1976-08-25
BE833591A (en) 1976-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880001192B1 (en) Light-curable mixture and light-sensitive copying mixture
US2848328A (en) Light sensitive diazo compound and binder composition
US3890152A (en) Light-sensitive copying composition containing diazo resin and quinone diazide
CA1195869A (en) Process for preparing relief images
US4510227A (en) Light-sensitive aqueous developable copying material and product by coating process thereof utilizing polysiloxane and alkylene oxide copolymer as coating aid
US4487823A (en) Light-sensitive copying material and process for the manufacture thereof utilizing non-ionic fluorinated ester surfactant
CA1096221A (en) Manufacture of imaged articles by laser irradiation of a non-photo sensitive material
CA1172492A (en) Process for the production of lithographic printing forms using a light-sensitive material based on diazonium salt polycondensation products
US3373021A (en) Presensitized positive working lithographic plate
EP0507008B1 (en) Lithographic printing plate based on a resin comprising aryldiazosulfonates
US2766118A (en) Light-sensitive material for the photomechanical reproduction and process for the production of images
US3495979A (en) Copying material for use in the photochemical preparation of printing plates
JPH0519460A (en) Diazo-base lithographic plate capable of being developed by water
US4177073A (en) Photosensitive resin composition comprising cellulose ether aromatic carboxylic ester
US3269837A (en) Light-sensitive salts of omicron-naphthoquinone diazide sulfonic acid with an amine and the preparation of printing plates therefrom
US3493371A (en) Radiation-sensitive recording material
US4618562A (en) Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor
CA1183382A (en) Production relief copies by subjecting an exposed photosensitive layer to ultrasonic treatment
US3836368A (en) Photopolymerizable element comprising a conjugated diacetylene layer on the photopolymer layer
US2729562A (en) Process for producing images
PL111427B1 (en) Developer for printing plates processing
US3738973A (en) Furoic acid esters of hydroxycontaining polymers
US5200291A (en) Photosensitive diazonium resin, element made therefrom, method of preparing the resin and method for producing negative lithographic image utilizing the resin
JPH0272A (en) Pre-sensitized image forming material ideal for use as lithographic plate
US3795640A (en) Furfuryl,allyl and methylol acrylamide esters of polymeric acids