Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do jednoczesnego nanoszenia kilku warstw cieszy na ruchome podloze, przesuwajace sie w plaszczyznie poziomej, stosowane zwlaszcza w przemysle fotochemicznym przy produkcji barwnych materialów swiatloczulych.Dotychczas istniejace urzadzenia skladaja sie z szeregu termostatowanych, scisle ze soba dopasowanych pionowych plyt, zmontowanych w jedna calosc zwana dalej ekstruderem, w którego szczelinach o stalych niezmiennych grubosciach ciecze plyna pionowo do góry, a nastepnie splywaja po plaskiej powierzchni, nachylonej pod katem do poziomu, tworzac wielofazowa warstwe cieczy, która ze zwisajacego menisku tworzacego sie w pionowej szczelinie podcisnieniowej jest nakladana na pionowo przesuwajace sie podloze.Wada istniejacych urzadzen jest wystepowanie dosc znacznego mieszania miedzy warstwami w miejscach wyplywu cieczy z pionowych szczelin ekstrudera. Wielokrotna zmiana kierunku przemieszczanie sie warstw cieczy równiez wplywa na ich mieszanie, co jest szczególnie niekorzystne przy produkcji barwnych materialów swiatloczulych.Celem wynalazku jest wyeliminowanie znanych wad i niedogodnosci przez skonstruowanie urzadzenia, umozliwiajacego w maksymalnym stopniu mieszanie sie nakladanych warstw.Istota wynalazku polega na tym, ze poziome plyty polaczone sa uszczelkami o grubosciach, równych szerokosci poziomych szczelin wyplywajacych, nachylonych do poziomu dociskanego za pomoca odpowiednio uksztaltowanej uszczelki przez pozioma gladka plyte, tworzac z komora podcisnieniowa uklad podcisnieniowy z pozioma szczelina o szerokosci, limitowanej gruboscia uszczelki.Zaleta wynalazku w stosunku do znanych rozwiazan jest to, ze eliminuje w bardzo znacznym stopniu mieszanie miedzy warstwami cieczy i umozliwia dowolna regulacje szerokosci poziomych szczelin ekstrudera, w których plyna ciecze, jak równiez regulacje szczeliny podcisnieniowej w punkcie nanoszenia wielofazowej warstwy cieczy na ruchome podloze, co w znacznym stopniu poszerza zakres jego stosowalnosci.2 109 270 Przykladowe rozwiazanie urzadzenia do jednoczesnego nanoszenia dwu warstw cieczy wedlug wynalazku przedstawiono na zalaczonych rysunkach, na których fig. 1 przedstawia urzadzenie w przekroju z boku, fig. 2 — widok urzadzenia od strony pochylej sciany ekstrudera.Ekstruder sklada sie z trzech poziomych plyt 1,2,3, polaczonych za pomoca uszczelek 9 w jeden blok, zaopatrzonych w wewnetrzne otwory 4, którymi przeplywa czujnik termostatujacy. W plytach 2 i 3 istnieja okragle poziome przewody 5, zakonczone podluznymi kolektorami 6, powodujacymi równomierny rozplyw cieczy. Plyta 3 posiada dodatkowa komore 7, polaczona z ukladerrrpodcisnieniowym za pomoca krócców 8.Odpowiedniego ksztaltu i grubosci uszczelki 9 umozliwiaja regulacje szerokosci poziomych szczelin 10, z których ciecze wyplywaja na plaska powierzchnie nachylona do poziomu pod katem a= 20-40°. Splywajaca dwuwarstwowa ciecz nanoszona jest na poziomo przesuwajace sie podloze 11. Ruchome podloze 11, przylegajace do gladkiej dolnej plaszczyzny ekstrudera przez odpowiedniego ksztaltu uszczelke 12, jest dociskane gladka pozioma plyta 13. Szerokosc szczeliny podcisnieniowej 14, utworzonej miedzy dolna plaszczyzna ekstrudera a ruchomym podlozem 11, regulowana jest gruboscia zastosowanej uszczelki 12.Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do jednoczesnego nanoszenia kilku warstw cieczy na ruchome podloze, zbudowane z szeregu termostatowanych plyt, zmontowanych w jedna calosc, tworzaca ekstruder ze szczelinami wyplywowymi, znamienne tym, ze poziome plyty (1), (2) i (3) polaczone sa uszczelkami (9) o grubosciach, równych szerokosci poziomych szczelin wyplywowych (10), nachylonych do poziomu dociskanego za pomoca odpowiednio uksztaltowanej uszczelki (12) przez pozioma gladka plyte (13), tworzac z komora podcisnieniowa (7) uklad podcisnieniowy z pozioma szczelina (14) o szerokosci limitowanej gruboscia uszczelki (12).Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120 + 18 Cena 45 zl PL