PL108601B2 - Method of galvanically generating glittering zinc coatings - Google Patents
Method of galvanically generating glittering zinc coatings Download PDFInfo
- Publication number
- PL108601B2 PL108601B2 PL20416078A PL20416078A PL108601B2 PL 108601 B2 PL108601 B2 PL 108601B2 PL 20416078 A PL20416078 A PL 20416078A PL 20416078 A PL20416078 A PL 20416078A PL 108601 B2 PL108601 B2 PL 108601B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- zinc
- electrolytes
- coatings
- compounds
- glittering
- Prior art date
Links
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 239000011701 zinc Substances 0.000 title claims description 21
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 25
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 10
- -1 aromatic hydroxy ketones Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 5
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical group COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób galwanicznego wytwarzania blyszczacych powlok cynkowych w elek¬ trolitach amioochlorkowych zawierajacych dodatek wyblyszczajacy stanowiacy mieszanine ketonów i hydroksy- ketonów aromatycznych oraz eterów mieszanych.W szczególnosci wynalazek dotyczy kompozycji wyblyszczajacych stosowanych w slabokwasnych elektroli¬ tach aminochlorkowych do galwanicznego cynkowania.W celu ochrony naturalnego srodowiska znaczne wysilki skierowane sa na zmniejszenie lub wyeliminowanie odprowadzania scieków galwanicznych zawierajacych cyjanki, fosforany i szereg innych substancji zanieczysz¬ czajacych i wrecz zatruwajacych naturalne srodowisko. Z tego powodu poszukuje sie nowych sposobów cynko¬ wania z polyskiem, zamiast klasycznych metod galwanicznego cynkowania w elektrolitach cyjankowych. Zamiast elektrolitów cyjankowych najczesciej stosowane sa roztwory alkaliczne zawierajace kompleksowe zwiazki cynku i pirofosforany.Elektrolity pirofosforanowe daja jednak malo trwale pokrycia, a osadzona powloka cynkowa jest chropowata i nie posiada dostatecznego polysku. Poza tym elektrolity pirofosforanowe maja szereg innych manka¬ mentów. Znane sa takze bezcjankowe elektrolity do cynkowania zawierajace cynkany. Jednakze i te elektrolity nie sa pozbawione istotnych wad. W tym przypadku ograniczony jest zakres gestosci pradu podczas cynkowania, co utrudnia a nawet uniemozliwia cynkowanie przedmiotów o skomplikowanych ksztaltach. Dodatek cyjanku do ta¬ kich elektrolitów umozliwia rozszerzenie zakresu gestosci pradu stosowanego w procesie cynkowania, w którym uzyskuje sie powloki blyszczace^ale wtedy kapiel juz nie jest bezcyjankowa.Znane sa tez bezcyjankowe elektrolity silnie kwasne, ale przy stosowaniu ich nie otrzymuje sie blyszczacych powlok ozdobnych. Ponadto przy stosowaniu malej gestosci pradu ma miejsce bardzo zle powlekanie powierz - chni. Elektrolity te równiez nie nadaja sie do galwanicznego cynkowania przedmiotów o skomplikowanych ksztal¬ tach.Stosowane sa tez slabo-alkaiczne lub slabo-kwasne bezcyjankowe elektrolity do cynkowania zawierajace znaczne ilosci srodków buforujacych i kompleksujacych w celu stabilizacji pH jak i kompleksowania jonów cynkowych. Takie elektrolity skladaja sie zwykle z wodnego roztworu zawierajacego rozpuszczalna sól cynku np.2 108601 chlorek cynku, siarczan cynku oraz sól amonowa np. halogenek amonu lub siarczan amonu. Elektrolity te moga ponadto zawierac organiczny srodek kompleksujacy lub jego sole wzglednie podobne substancje zapobiegajace wytracaniu sie cynku z kapieli w postaci nierozpuszczalnego wodorotlenku przy wyzszych wartosciach pH.Slabo-kwasne, obojetne, slabo-zasadowe elektrolity do cynkowania wytwarzaja polyskowe powloki cynkowe, jednak koniecznosc wlaczenia do ich skladu organicznych czynników kompleksujacych takich jak kwasy karboksylowe i ich sole lub inne zwiazki kompleksujace bardzo utrudnia usuwanie jonów cynku ze scie¬ ków galwanizerskich. Wyeliminowanie organicznych zwiazków kompleksujacych metale z kapieli do cynkowania polyskowego pozwala na prowadzenie procesu cynkowania w roztworze slabo-kwasnym, ale utrudnione jest wtedy otrzymywanie odpowiednich powlok cynkowych w szerokim zakresie gestosci pradu. Poza tym uzyskane powloki z kapieli bez dodatku zwiazków kompleksujacych sa zwykle silnie prazkowane lub pokryte dendrytami w zakresie srednich i duzych gestosci pradu.W celu poprawy równomiernego krycia i polysku powlok cynkowych dodawane sa substancje blaskotwór- cze typu aromatycznych zwiazków karbonylowych. Stosowane dotychczas substancje blaskotwórcze — aromaty¬ czne zwiazki karbonylowe, zwykle daja zadawalajace powloki cynkowe ze swiezo przygotowanych elektrolitów cynkowych, to jednak powloki wykazuja tendencje do matowienia przy niskich zakresach gestosci pradu. Do¬ dawane dotychczas typowe karbonylowe zwiazki aromatyczne podczas dlugotrwalej elektrolizy tworza szkod¬ liwe oleiste produkty - ujemnie wplywajace na proces cynkowania z polyskiem.Znane sa tez elektrolity do galwanicznego cynkowania z polyskiem-slabokwasne, obojetne lub slaboalka- liczne,które poza zwiazkami dostarczajacymi jonów cynku musza zawierac co najmniej jeden zwiazek z grupy zwiazków heteroaromatycznyeh niekarbonylowych, np. zwiazki heterocykliczne z atomem azotu w pierscieniu.Sa to zwiazki, których synteza jest bardzo kosztowna i najczesciej sa one importowane, podobnie zreszta jak i zwiazki aromatyczne karbonylowe.Celem wynalazku jest usuniecie wad elektrolitów galwanicznego cynkowania z polyskiem.Sposób wedlug wynalazku umozliwia galwaniczne wytwarzanie powlok cynkowych w aminochlorkowych elektrolitach dzieki zastosowaniu dodatków wyblyszczajacych stanowiacych produkt rozkladu wodoronadtlen- ku kumenu w srodowisku alkoholi alifatycznych. Dodatki takie latwo mozna syntezowac w oparciu o tanie, zawsze dostepne surowce krajowe.Stosowane wedlug wynalazku elektrolity cynkowe zawieraja dodatki, wyblyszczajace w postaci mieszaniny zwiazków typu ketonów aromatycznych, o wzorze 1 hydroksyketonów aromatycznych o wzorze 2 i eterów mieszanych o wzorze 3. W dalszej czesci opisu mieszanina tych zwiazków oznaczana bedzie symbolem Ar-A. Mieszanina ta stanowi produkt rozkladu wodoronadtlenku kumenu w srodowisku nasyconych alifaty¬ cznych alkoholi I-rzedowych (Cs - Cj 8).Dodatki Ar-A pozwalaja otrzymywac galwaniczne blyszczace powloki cynkowe w szerokim zakresie ge¬ stosci pradu w szczególnosci z elektrolitów slabo-kwasnych aminochlorkowych, przy jednoczesnym ograniczeniu do minimum operacji zwiazanych z preparowaniem kapieli galwanicznej. Kapiel galwaniczna cynkowa z tymi dodatkami moze zawierac lub nie zawierac srodek kompleksujacy.Stosowanie jako dodatków wyblyszczajacych zwiazków Ar-A podczas dlugotrwalej elektrolizy zapobiega tworzeniu sie w elektrolicie oleistych produktów. Ponadto powloka cynkowa wytworzona w obecnosci dodatku Ar-A jest blyszczaca - lustrzana w calym zakresie gestosci pradu. Preparowanie kapieli do galwanicznego cynko¬ wania z polyskiem jest bardzo proste i ogranicza sie wylacznie do sporzadzenia roztworu podstawowego z do¬ daniem niejonowego zwiazku powierzchniowo czynnego i dodaniu zwiazków Ar-A w ilosci 0,05-5,0 g/dm3 ka¬ pieli, korzystnie 0,1 - 1,0 g/dm3 kapieli.W elektrolicie o skladzie: Przykladl.ZnO NH4C1 Niejonowy zwiazek powierzchniowo-czynny Ar-A pH = 4,5 - 5,5 Temperatura elektrolitu Katodowa gestosc pradu 40g/dm3 200g/dm3 5g/dm3 0,05 - 5,0/dm3 285 - 305°K 1-5 A/dm2 w komórce Hulla uzyskuje sie na plytce stalowej powloke cynkowa o duzym polysku w calym zakresie gestosci pradu, przy przeplywie pradu o natezeniu 1 A.108601 W elektrolicie o skladzie : Przyklad II.ZnCl2 60g/dm3 NH4CL 180g/dm3 Niejonowy zwiazek powierzchniowo-czynny 2g/dm3 Ar-A 0,05- 5,0g/dm3 pH = 4,5 - 5,5 Temperaturaelektrolitu 285 - 305°K Katodowa gestosc pradu 1 — 5 A/dm2 w komórce Hulla uzyskuje sie na plytce stalowej powloke cynkowa o duzym polysku w calym zakresie gestosci pradu, przy przeplywie pradu o natezeniu 1 A.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób galwanicznego wytwarzania blyszczacych powlok cynkowych w elektrolitach aminochlorkowych, znamienny tym, ze jako dodatek wyblyszczajacy stosuje sie mieszanine ketonów aromatycznych o wzorze 1, hydroksyketonów aromatycznych o wzorze 2, eterów mieszanych o wzorze 3. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie 0,05 — 5,0 g/dm3 dodatku wyblyszczaja* cego,korzystnicO,I - 1,0 g/dm3 kapieli. 0 0 ^C^rtC^ r^U^)nOH ^J-H%)nCHs PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób galwanicznego wytwarzania blyszczacych powlok cynkowych w elektrolitach aminochlorkowych, znamienny tym, ze jako dodatek wyblyszczajacy stosuje sie mieszanine ketonów aromatycznych o wzorze 1, hydroksyketonów aromatycznych o wzorze 2, eterów mieszanych o wzorze 3.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie 0,05 — 5,0 g/dm3 dodatku wyblyszczaja* cego,korzystnicO,I - 1,0 g/dm3 kapieli. 0 0 ^C^rtC^ r^U^)nOH ^J-H%)nCHs PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20416078A PL108601B2 (en) | 1978-01-23 | 1978-01-23 | Method of galvanically generating glittering zinc coatings |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20416078A PL108601B2 (en) | 1978-01-23 | 1978-01-23 | Method of galvanically generating glittering zinc coatings |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL204160A1 PL204160A1 (pl) | 1979-01-02 |
| PL108601B2 true PL108601B2 (en) | 1980-04-30 |
Family
ID=19987181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20416078A PL108601B2 (en) | 1978-01-23 | 1978-01-23 | Method of galvanically generating glittering zinc coatings |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL108601B2 (pl) |
-
1978
- 1978-01-23 PL PL20416078A patent/PL108601B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL204160A1 (pl) | 1979-01-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5435898A (en) | Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes | |
| US6165342A (en) | Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys | |
| CN102089466B (zh) | 改良的铜-锡电解液和沉积青铜层的方法 | |
| US4469569A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
| US4581110A (en) | Method for electroplating a zinc-iron alloy from an alkaline bath | |
| US4075066A (en) | Electroplating zinc, ammonia-free acid zinc plating bath therefor and additive composition therefor | |
| KR20110011613A (ko) | 개질된 구리-주석 전해액, 및 청동 층의 침착 방법 | |
| US3035991A (en) | Wetting agents for electroplating baths | |
| GB2062010A (en) | Electroplating Bath and Process | |
| US4904354A (en) | Akaline cyanide-free Cu-Zu strike baths and electrodepositing processes for the use thereof | |
| US2812299A (en) | Electrolytic deposition of gold and gold alloys | |
| US4184929A (en) | Trivalent chromium plating bath composition and process | |
| EP0663460B1 (en) | Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same | |
| US3879270A (en) | Compositions and process for the electrodeposition of metals | |
| JPH06104914B2 (ja) | 地色ないし光沢のある銅・スズ合金被膜を電着させるためのアルカリ性シアン化物浴 | |
| US4119502A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
| NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| CA2372579A1 (en) | Alloy plating | |
| US3617452A (en) | Gold plating | |
| PL108601B2 (en) | Method of galvanically generating glittering zinc coatings | |
| HK74389A (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys | |
| US4565611A (en) | Aqueous electrolytes and method for electrodepositing nickel-cobalt alloys | |
| US3972788A (en) | Zinc anode benefaction | |
| US4740277A (en) | Sulfate containing bath for the electrodeposition of zinc/nickel alloys |