PL102427B1 - A bath for electrochemical cadmium plating with lustre - Google Patents

A bath for electrochemical cadmium plating with lustre Download PDF

Info

Publication number
PL102427B1
PL102427B1 PL19738277A PL19738277A PL102427B1 PL 102427 B1 PL102427 B1 PL 102427B1 PL 19738277 A PL19738277 A PL 19738277A PL 19738277 A PL19738277 A PL 19738277A PL 102427 B1 PL102427 B1 PL 102427B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cadmium
bath
formaldehyde
electrochemical
acid
Prior art date
Application number
PL19738277A
Other languages
English (en)
Other versions
PL197382A1 (pl
Inventor
Stanislaw Szczepaniak
Zygmunt Doborwolki
Jerzy Polowniak
Original Assignee
Lozysk Tocznych Iskra Fab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lozysk Tocznych Iskra Fab filed Critical Lozysk Tocznych Iskra Fab
Priority to PL19738277A priority Critical patent/PL102427B1/pl
Publication of PL197382A1 publication Critical patent/PL197382A1/pl
Publication of PL102427B1 publication Critical patent/PL102427B1/pl

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest kapiel do elektrochemicznego osadzania powlok kadmowych z kapieli kwasnych. Kapiel ta przeznaczona jest do wytwarzania powlok blyszczacych o duzej wglebnosci, w urzadzeniach stacjonarnych i obrotowych.
Znane kapiele kwasne do elektrochemicznego osadzania kadmu, oparte sa przewaznie na siarczanie kadmowym z dodatkiem zwiazków buforujacych, zwiekszajacych przewodnosc kapieli i rozpuszczalnosc anod, lub z nadmiarem wolnych kwasów mineralnych. Oprócz siarczanu kadmu, kwasów i soli nieorganicznych do kapieli kadmowych dodaje sie celem poprawy jakosci osadzanych powlok, specjalne dodatki takie jak: klej, pepton, zelatyna, fenol, krezol, tiomocznik oraz jonowe i niejonowe srodki powierzchniowo czynne. Kapiele te nie znajduja szerokiego zastosowania w praktyce wskutek otrzymywania jakosciowo gorszych powlok kadmowych w stosunku do powlok uzyskiwanych z kapieli cyjankowych i aminochlorkowych. Elektrolity kwasne równiez nie nadaja sie do pokrywania skomplikowanych detali ze wzgledu na mala wglebnosc i ograniczony zakres gestosci pradu od 1-2 A/dm2.
W zwiazku z powyzszym zaistniala koniecznosc opracowania kapieli malo toksycznej, która winna charakteryzowac sie duza wglebnoscia i stabilnoscia skladników w czasie pracy oraz pozwalac na prace w szerokim zakresie pradu katodowego, a powloki z nich otrzymywane winny charakteryzowac sie chropowatoscia TÓwna lub nizsza od chropowatosci podloza. Cel ten udalo sie osiagnac i otrzymano kapiel spelniajaca wyzej wymienione warunki.
Kapiel wedlug wynalazku stanowiaca wodny roztwór soli kadmu i kwasu siarkowego lub/i fluoroborowego o wartosci pH 0,5—2,5 zawiera ponadto specjalnie dobrany zestaw organicznych substancji blaskotwórczych i wygladzajacych.
Istota wynalazku polega na tym, ze do kwasnej kapieli kadmowej wprowadza sie jednoczesnie co najmniej dwa podstawowe rodzaje substancji wyblyszczajacych. W sklad grupy pierwszej wchodza produkty reakcji sulfopochodnych aminobenzenu i/lub aminonaftalenu czy aminoantracenu z formaldehydem o wzorze przedstawionym ponizej, w którym n wynosi 2 do 20, Me-jest wodorem lub kationem tworzacym rozpuszczalna w wodzie sól.2 102 427 N-CH2- S03Me I 2 S03Me n Zwiazki te dodawane do kapieli kadmowych w ilosci 0,1—10 g/l wykazuja znacznie lepsze wlasnosci blaskotwórcze niz produkty reakcji zwiazków naftalenosulfonowych z formaldehydem.
Grupa druga zawiera rozpuszczalne w wodzie produkty reakcji kondensatorów tiomocznikowo-formaldehydowych z siarczynem i/lub kwasnym siarczynem i/lub podsiarczynem metalu alkalicznego i/lub rongalitem w ilosci 0,01 g — 10 g/l. • Dla przykladu podaje sie jeden z wariantów syntezyjej grupy zwiazków: 1/ H2N-C-NH2 + HCHO - S 2/ H2N-C-NHCH2OH "Hg°> S 3/ nH0H-C-N=CH0 ' 2 n 2 S 4/ / i 2 -N-CH2- c—s NHCH20H nHCHO nMeHSO- HoN0 - NHCH0 2 || 2 S OH 2 II 2 S -N-CH2- C=S NH2 n ^_ »- ¦""^^ -N-CH2- 1 c = s N-HCH2OH n —i -HpO =-> 1 -N-CH9- NHC V- S03Me n gdzie: Me -jest metalem, n — liczba 2 do 20 Wspólne synergetyczne dzialanie substancji wyblyszczajacych umozliwia uzyskanie blyszczacych powlok kadmowych o duzej plastycznosci i gestosci pradowych stosowanych obecnie dla cyjankowych kapieli do galwanicznego kadmowania. Mozna stosowac gestosci zawarte miedzy 0,05 i 5 A/dm2, ustalajac je praktycznie, na przyklad w komórce Hulla. Jako dodatki uzupelniajace w/w substancje wyblyszczajace w kapieli galwanicznej mozna stosowac znane zwiazki jak (zelatyna, pepton, jonowe i niejonowe srodki powierzchniowo-czynne itp.102 427 3 Szeroki zakres polysku umozliwia stosowanie tej kapieli do kadmowania wyrobów ze stali, miedzi, brazu, zeliwa o duzych powierzchniach i stosunkowo skomplikowanych ksztaltach.
Niniejsze rozwiazania obejmuje wodna, kwasna kapiel, zawierajaca rozpuszczalne jony kadmu i stosowany w nadmiarze kwas siarkowy lub/i fluoroborowy, celem zwiekszenia przewodnosci i polaryzacji.
Kapiel wedlug wynalazku charakteryzuje sie wglebnoscia i zdolnoscia krycia odpowiadajaca kapielom cyjankowym do kadmowania oraz duza wydajnoscia katodowa. Scieki powstajace nie wymagaja specjalnej obróbki uzdatniania poniewaz nie zawieraja trwalych kompeksów kadmu. Mozna je bez obawy laczyc ze sciakami pochodzacymi z odtluszczania czy innych bezcyjankowych alkalicznych kapieli celem ich wzajemnej samoneutralizacji. • Kadmowanie wykonuje sie w przedziale temperatur od 10—50°C, korzystnie 20-35°C, zmieszaniem lub bez mieszania. Kapiel mozna mieszac sprezonym powietrzem, albo przez mechaniczny ruch szyny katodowej.
Mieszanie to umozliwia stosowanie wiekszych gestosci pradu na pokrywanych galwanicznie przedmiotach.
Ilosc kadmu obecna w kapieli nie jest decydujaca i moze wahac sie okolo 10-50 g/l.
Przyklad I.
CdS04-8/3H20 50 g/l H2S04 50g/l Produkt reakcji formaldehydu z kwasem 4-amino-benzenosulfonowym , 6g/l Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego z kwasnym siarczynem sodowym (c.cz;500) 2 g/l Przykladu.
CdS04-8/3H20 80 g/l H2S04: 20 g/1 Produkt reakcjiformaldehydu / z kwasem 4-amino-naftaleno-4-sulfonowym 5 g/l Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego z kwasnym siarczynem sodowym (c.cz;500) 3 g/l Przyklad III.
CdO 25 g/l H2S04 80 g/1 Produkt reakcji formaldehydu z kwasem 4-amino-benzenosulfonowym 2 g/l Oksyetylowanynonylofenol 1,5 g/L Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego z formaldehydosulfoksylenu sodu (c.cz800) 2 g/l Przyklad IV.
CdO 30 g/l H2S04 100 g/1 Zelatyna 0,15 g/l Produkt reakcji formaldehydu z kwasem4-amino-naftaleno-4-sulfonowym 3 g/l Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowo-formaldehydowego z formaldehydosulfoksylenu sodu (c.cz;800) 1,5 g/l Przyklad V. ¦ Cd(BF4)2 80 g/l HBF440% 60 ml Oksyetylowany alkoholtluszczowy 1 g/l Produkt reakcji formaldehydu z kwasem4-amino-benzenosulfonowym 5 g/l Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego z kwasnym siarczynem sodowym c.cz:500 1 g/l Wszystkie próby przeprowadzano w komórce Hulla o poj 267 ml, przy uzyciu anody kadmowej i plytek stalowych, zeliwnych i miedzianych. W czasie elektrolizy przez komórke plynal prad o nastezeniu 1 A przez 15 minut w temperaturze 15-35°C. We wszystkich próbach otrzymano blyszczace szczelne powloki kadmowe w szerokim zakresie gestosci pradu. Roztwór podstawowy bez dodatków organicznych dawal ciemne, porowate i chropowate powloki.4 102 427

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do elektrochemicznego kadmowania z polyskiem, stanowiaca wodny roztwór soli kadmu i kwasu siarkowego lub/i fluoroborowego, znamienna tym, ze zawiera produkty reakcji sulfopochodnycli aminobenzenu i/lub aminonaftalenu i/lub aminonatracenu z formaldehydem w ilosci 0,1-10 g/l oraz produkty reakcji kondensatów tiomocznikowo-formaldehydowych z siarczynem i/lub kwasnym siarczynem i/lub podsiarczynem metalu alkalicznego i/lub formaldehydosulfoksylenu sodu w ilosci 0,01-10 g/L. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl
PL19738277A 1977-04-12 1977-04-12 A bath for electrochemical cadmium plating with lustre PL102427B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19738277A PL102427B1 (pl) 1977-04-12 1977-04-12 A bath for electrochemical cadmium plating with lustre

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19738277A PL102427B1 (pl) 1977-04-12 1977-04-12 A bath for electrochemical cadmium plating with lustre

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL197382A1 PL197382A1 (pl) 1978-02-13
PL102427B1 true PL102427B1 (pl) 1979-03-31

Family

ID=19981942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19738277A PL102427B1 (pl) 1977-04-12 1977-04-12 A bath for electrochemical cadmium plating with lustre

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL102427B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL197382A1 (pl) 1978-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5174887A (en) High speed electroplating of tinplate
DE2830572A1 (de) Waessriges bad fuer die galvanische abscheidung von glaenzenden metallueberzuegen
US3084111A (en) Wetting agents for electroplating baths
KR100738824B1 (ko) 반도체 장치의 마이크론 또는 서브마이크론 치수의 트렌치 또는 비어 금속화용 구리 전기도금액 및 이를 사용한 금속화 방법
JPH0317912B2 (pl)
CN105420770A (zh) 一种防变色无氰镀银电镀液及其电镀方法
US4462874A (en) Cyanide-free copper plating process
US3692641A (en) Electrodeposition of low stress ruthenium alloy
US4411965A (en) Process for high speed nickel and gold electroplate system and article having improved corrosion resistance
GB2179676A (en) Zinc alloy electroplating
CN106591897B (zh) 一种无氰离子液体镀铜溶液及镀铜工艺
ES339183A2 (es) Procedimiento para recubrir por electrolisis la superficie de objetos con un revestimiento de cromo de estructura mi- crofisurada.
US3694330A (en) Electroplating bath for depositing bright zinc plates
US4069113A (en) Electroplating gold alloys and electrolytes therefor
PL102427B1 (pl) A bath for electrochemical cadmium plating with lustre
CA1162505A (en) Process for high speed nickel and gold electroplate system
US5264112A (en) Acidic nickel baths containing 1-(2-sulfoethyl)-pyridiniumbetaine
CN112410832A (zh) 一种钢丝电化镀铜工艺
US4016051A (en) Additives for bright plating nickel, cobalt and nickel-cobalt alloys
JP4545367B2 (ja) 高光沢白色ロジウムコーティングを電気メッキするための槽および電気メッキ槽のための白色化剤
JPS6112038B2 (pl)
CN111349953B (zh) 一种环保型无载体水性硫酸盐镀锌添加剂
US4178217A (en) Zinc electroplating bath
US3748236A (en) Additive for nickel plating baths
US3558448A (en) Method of electroplating zinc and electrolyte therefor