PL102427B1 - A bath for electrochemical cadmium plating with lustre - Google Patents
A bath for electrochemical cadmium plating with lustre Download PDFInfo
- Publication number
- PL102427B1 PL102427B1 PL19738277A PL19738277A PL102427B1 PL 102427 B1 PL102427 B1 PL 102427B1 PL 19738277 A PL19738277 A PL 19738277A PL 19738277 A PL19738277 A PL 19738277A PL 102427 B1 PL102427 B1 PL 102427B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cadmium
- bath
- formaldehyde
- electrochemical
- acid
- Prior art date
Links
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 5
- 239000002932 luster Substances 0.000 title 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZNNYSTVISUQHIF-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;thiourea Chemical compound O=C.NC(N)=S ZNNYSTVISUQHIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 claims description 3
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 2
- ATTZFSUZZUNHBP-UHFFFAOYSA-N Piperonyl sulfoxide Chemical compound CCCCCCCCS(=O)C(C)CC1=CC=C2OCOC2=C1 ATTZFSUZZUNHBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- ISXSFOPKZQZDAO-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;sodium Chemical compound [Na].O=C ISXSFOPKZQZDAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- -1 sodium formaldehyde sulfoxide Chemical class 0.000 description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 229950000244 sulfanilic acid Drugs 0.000 description 3
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 3
- AUCCSYASSQDNOJ-UHFFFAOYSA-N 1-amino-2h-naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(N)(S(O)(=O)=O)CC=CC2=C1 AUCCSYASSQDNOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001888 Peptone Substances 0.000 description 2
- 108010080698 Peptones Proteins 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L cadmium sulfate Chemical compound [Cd+2].[O-]S([O-])(=O)=O QCUOBSQYDGUHHT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 235000019319 peptone Nutrition 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001828 Gelatine Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(N)=CC=CC3=CC2=C1 YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 229910000331 cadmium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+) Chemical compound [Cd+2] WLZRMCYVCSSEQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical class CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M rongalite Chemical compound [Na+].OCS([O-])=O XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest kapiel do elektrochemicznego osadzania powlok kadmowych z kapieli
kwasnych. Kapiel ta przeznaczona jest do wytwarzania powlok blyszczacych o duzej wglebnosci,
w urzadzeniach stacjonarnych i obrotowych.
Znane kapiele kwasne do elektrochemicznego osadzania kadmu, oparte sa przewaznie na siarczanie
kadmowym z dodatkiem zwiazków buforujacych, zwiekszajacych przewodnosc kapieli i rozpuszczalnosc anod,
lub z nadmiarem wolnych kwasów mineralnych. Oprócz siarczanu kadmu, kwasów i soli nieorganicznych do
kapieli kadmowych dodaje sie celem poprawy jakosci osadzanych powlok, specjalne dodatki takie jak: klej,
pepton, zelatyna, fenol, krezol, tiomocznik oraz jonowe i niejonowe srodki powierzchniowo czynne. Kapiele te
nie znajduja szerokiego zastosowania w praktyce wskutek otrzymywania jakosciowo gorszych powlok
kadmowych w stosunku do powlok uzyskiwanych z kapieli cyjankowych i aminochlorkowych. Elektrolity
kwasne równiez nie nadaja sie do pokrywania skomplikowanych detali ze wzgledu na mala wglebnosc
i ograniczony zakres gestosci pradu od 1-2 A/dm2.
W zwiazku z powyzszym zaistniala koniecznosc opracowania kapieli malo toksycznej, która winna
charakteryzowac sie duza wglebnoscia i stabilnoscia skladników w czasie pracy oraz pozwalac na prace
w szerokim zakresie pradu katodowego, a powloki z nich otrzymywane winny charakteryzowac sie
chropowatoscia TÓwna lub nizsza od chropowatosci podloza. Cel ten udalo sie osiagnac i otrzymano kapiel
spelniajaca wyzej wymienione warunki.
Kapiel wedlug wynalazku stanowiaca wodny roztwór soli kadmu i kwasu siarkowego lub/i fluoroborowego
o wartosci pH 0,5—2,5 zawiera ponadto specjalnie dobrany zestaw organicznych substancji blaskotwórczych
i wygladzajacych.
Istota wynalazku polega na tym, ze do kwasnej kapieli kadmowej wprowadza sie jednoczesnie co najmniej
dwa podstawowe rodzaje substancji wyblyszczajacych. W sklad grupy pierwszej wchodza produkty reakcji
sulfopochodnych aminobenzenu i/lub aminonaftalenu czy aminoantracenu z formaldehydem o wzorze
przedstawionym ponizej, w którym n wynosi 2 do 20, Me-jest wodorem lub kationem tworzacym
rozpuszczalna w wodzie sól.2 102 427
N-CH2-
S03Me
I 2
S03Me
n
Zwiazki te dodawane do kapieli kadmowych w ilosci 0,1—10 g/l wykazuja znacznie lepsze wlasnosci
blaskotwórcze niz produkty reakcji zwiazków naftalenosulfonowych z formaldehydem.
Grupa druga zawiera rozpuszczalne w wodzie produkty reakcji kondensatorów
tiomocznikowo-formaldehydowych z siarczynem i/lub kwasnym siarczynem i/lub podsiarczynem metalu
alkalicznego i/lub rongalitem w ilosci 0,01 g — 10 g/l. •
Dla przykladu podaje sie jeden z wariantów syntezyjej grupy zwiazków:
1/ H2N-C-NH2 + HCHO -
S
2/ H2N-C-NHCH2OH "Hg°>
S
3/ nH0H-C-N=CH0
' 2 n 2
S
4/
/
i 2
-N-CH2-
c—s
NHCH20H
nHCHO
nMeHSO-
HoN0 - NHCH0
2 || 2
S
OH
2 II 2
S
-N-CH2-
C=S
NH2
n
^_
»-
¦""^^
-N-CH2-
1 c = s
N-HCH2OH
n
—i
-HpO
=->
1 -N-CH9-
NHC
V- S03Me
n
gdzie: Me -jest metalem, n — liczba 2 do 20
Wspólne synergetyczne dzialanie substancji wyblyszczajacych umozliwia uzyskanie blyszczacych powlok
kadmowych o duzej plastycznosci i gestosci pradowych stosowanych obecnie dla cyjankowych kapieli do
galwanicznego kadmowania. Mozna stosowac gestosci zawarte miedzy 0,05 i 5 A/dm2, ustalajac je praktycznie,
na przyklad w komórce Hulla. Jako dodatki uzupelniajace w/w substancje wyblyszczajace w kapieli galwanicznej
mozna stosowac znane zwiazki jak (zelatyna, pepton, jonowe i niejonowe srodki powierzchniowo-czynne itp.102 427 3
Szeroki zakres polysku umozliwia stosowanie tej kapieli do kadmowania wyrobów ze stali, miedzi, brazu,
zeliwa o duzych powierzchniach i stosunkowo skomplikowanych ksztaltach.
Niniejsze rozwiazania obejmuje wodna, kwasna kapiel, zawierajaca rozpuszczalne jony kadmu i stosowany
w nadmiarze kwas siarkowy lub/i fluoroborowy, celem zwiekszenia przewodnosci i polaryzacji.
Kapiel wedlug wynalazku charakteryzuje sie wglebnoscia i zdolnoscia krycia odpowiadajaca kapielom
cyjankowym do kadmowania oraz duza wydajnoscia katodowa. Scieki powstajace nie wymagaja specjalnej
obróbki uzdatniania poniewaz nie zawieraja trwalych kompeksów kadmu. Mozna je bez obawy laczyc ze
sciakami pochodzacymi z odtluszczania czy innych bezcyjankowych alkalicznych kapieli celem ich wzajemnej
samoneutralizacji. • Kadmowanie wykonuje sie w przedziale temperatur od 10—50°C, korzystnie 20-35°C, zmieszaniem lub
bez mieszania. Kapiel mozna mieszac sprezonym powietrzem, albo przez mechaniczny ruch szyny katodowej.
Mieszanie to umozliwia stosowanie wiekszych gestosci pradu na pokrywanych galwanicznie przedmiotach.
Ilosc kadmu obecna w kapieli nie jest decydujaca i moze wahac sie okolo 10-50 g/l.
Przyklad I.
CdS04-8/3H20 50 g/l
H2S04 50g/l
Produkt reakcji formaldehydu
z kwasem 4-amino-benzenosulfonowym , 6g/l
Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego
z kwasnym siarczynem sodowym (c.cz;500) 2 g/l
Przykladu.
CdS04-8/3H20 80 g/l
H2S04: 20 g/1
Produkt reakcjiformaldehydu /
z kwasem 4-amino-naftaleno-4-sulfonowym 5 g/l
Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego
z kwasnym siarczynem sodowym (c.cz;500) 3 g/l
Przyklad III.
CdO 25 g/l
H2S04 80 g/1
Produkt reakcji formaldehydu
z kwasem 4-amino-benzenosulfonowym 2 g/l
Oksyetylowanynonylofenol 1,5 g/L
Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego
z formaldehydosulfoksylenu sodu (c.cz800) 2 g/l
Przyklad IV.
CdO 30 g/l
H2S04 100 g/1
Zelatyna 0,15 g/l
Produkt reakcji formaldehydu
z kwasem4-amino-naftaleno-4-sulfonowym 3 g/l
Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowo-formaldehydowego
z formaldehydosulfoksylenu sodu (c.cz;800) 1,5 g/l
Przyklad V. ¦
Cd(BF4)2 80 g/l
HBF440% 60 ml
Oksyetylowany alkoholtluszczowy 1 g/l
Produkt reakcji formaldehydu
z kwasem4-amino-benzenosulfonowym 5 g/l
Produkt reakcji kondensatu tiomocznikowoformaldehydowego
z kwasnym siarczynem sodowym c.cz:500 1 g/l
Wszystkie próby przeprowadzano w komórce Hulla o poj 267 ml, przy uzyciu anody kadmowej i plytek
stalowych, zeliwnych i miedzianych. W czasie elektrolizy przez komórke plynal prad o nastezeniu 1 A przez 15
minut w temperaturze 15-35°C. We wszystkich próbach otrzymano blyszczace szczelne powloki kadmowe
w szerokim zakresie gestosci pradu. Roztwór podstawowy bez dodatków organicznych dawal ciemne, porowate
i chropowate powloki.4 102 427
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do elektrochemicznego kadmowania z polyskiem, stanowiaca wodny roztwór soli kadmu i kwasu siarkowego lub/i fluoroborowego, znamienna tym, ze zawiera produkty reakcji sulfopochodnycli aminobenzenu i/lub aminonaftalenu i/lub aminonatracenu z formaldehydem w ilosci 0,1-10 g/l oraz produkty reakcji kondensatów tiomocznikowo-formaldehydowych z siarczynem i/lub kwasnym siarczynem i/lub podsiarczynem metalu alkalicznego i/lub formaldehydosulfoksylenu sodu w ilosci 0,01-10 g/L. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19738277A PL102427B1 (pl) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | A bath for electrochemical cadmium plating with lustre |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL19738277A PL102427B1 (pl) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | A bath for electrochemical cadmium plating with lustre |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL197382A1 PL197382A1 (pl) | 1978-02-13 |
| PL102427B1 true PL102427B1 (pl) | 1979-03-31 |
Family
ID=19981942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL19738277A PL102427B1 (pl) | 1977-04-12 | 1977-04-12 | A bath for electrochemical cadmium plating with lustre |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL102427B1 (pl) |
-
1977
- 1977-04-12 PL PL19738277A patent/PL102427B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL197382A1 (pl) | 1978-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5174887A (en) | High speed electroplating of tinplate | |
| DE2830572A1 (de) | Waessriges bad fuer die galvanische abscheidung von glaenzenden metallueberzuegen | |
| US3084111A (en) | Wetting agents for electroplating baths | |
| KR100738824B1 (ko) | 반도체 장치의 마이크론 또는 서브마이크론 치수의 트렌치 또는 비어 금속화용 구리 전기도금액 및 이를 사용한 금속화 방법 | |
| JPH0317912B2 (pl) | ||
| CN105420770A (zh) | 一种防变色无氰镀银电镀液及其电镀方法 | |
| US4462874A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
| US3692641A (en) | Electrodeposition of low stress ruthenium alloy | |
| US4411965A (en) | Process for high speed nickel and gold electroplate system and article having improved corrosion resistance | |
| GB2179676A (en) | Zinc alloy electroplating | |
| CN106591897B (zh) | 一种无氰离子液体镀铜溶液及镀铜工艺 | |
| ES339183A2 (es) | Procedimiento para recubrir por electrolisis la superficie de objetos con un revestimiento de cromo de estructura mi- crofisurada. | |
| US3694330A (en) | Electroplating bath for depositing bright zinc plates | |
| US4069113A (en) | Electroplating gold alloys and electrolytes therefor | |
| PL102427B1 (pl) | A bath for electrochemical cadmium plating with lustre | |
| CA1162505A (en) | Process for high speed nickel and gold electroplate system | |
| US5264112A (en) | Acidic nickel baths containing 1-(2-sulfoethyl)-pyridiniumbetaine | |
| CN112410832A (zh) | 一种钢丝电化镀铜工艺 | |
| US4016051A (en) | Additives for bright plating nickel, cobalt and nickel-cobalt alloys | |
| JP4545367B2 (ja) | 高光沢白色ロジウムコーティングを電気メッキするための槽および電気メッキ槽のための白色化剤 | |
| JPS6112038B2 (pl) | ||
| CN111349953B (zh) | 一种环保型无载体水性硫酸盐镀锌添加剂 | |
| US4178217A (en) | Zinc electroplating bath | |
| US3748236A (en) | Additive for nickel plating baths | |
| US3558448A (en) | Method of electroplating zinc and electrolyte therefor |