PL101421B1 - Sposob zajarzania luku w urzadzeniach do ciecia plazmowego - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób zajarzania luku w urzadzeniach do ciecia plazmowego.

Zródlo ciepla pizy cieciu plazmowym stanowi zawezony luk plazmowy jarzacy sie w oslonie gazu po¬ miedzy katoda palnika a materialem cietym. Zawezenie luku uzyskuje sie przy pomocy specjalnej dyszy, która koncentruje energie luku na malej powierzchni przekroju dyszy, dajac wzrost temperatury do kilkudziesieciu tysiecy stopni.

Pod dzialaniem takiej temperatury nastepuje miejscowe topienie materialu i wydmuchiwanie go strumie¬ niem zjonizowanych gazów dajac w efekcie szczeline ciecia.

Im wieksa koncentracja energii tzn. im mniejsza srednica dyszy, tym uzyskuje sie wyzsze temperatury strumienia plazmowego oraz wieksza sprawnosc palnika i wydajnosc procesu ciecia.

Wraz ze wzrostem koncentracji energii zwiekszaja sie jednak trudnosci z zajarzaniem luku oraz pogarsza sie zywotnosc dyszy. W dotychczasowych rozwiazaniach konstrukcyjnych urzadzen, zajarzanie tzw. luku glów¬ nego pomiedzy katoda palnika a cietym materialem odbywa sie posrednio poprzez uprzednie zajarzenie luku pomocniczego jarzacego sie pomiedzy katoda i dysza palnika. Podczas jarzenia luku pomocniczego stosuje sie gazy o niskiej energii jonizacji lub tez mniejsze niz wymagane w procesie ciecia przeplywy gazu, a dopiero po zajarzeniu luku glównego zalacza sie wymagane podczas ciecia przeplywy gazu. W momencie zajarzenia luku glównego i rozpoczynania procesu ciecia wystepuja nieustabilizowane warunki pracy powodujace pogorszenie trwalosci palnika. W celu polepszenia tej stabilizacji warunków pracy stosowane sa rozwiazania konstrukcyjne miedzy innymi automatyczne sterowanie zaworami gazowymi lub tez instalowanie zaworów gazowych w palniku plazmowym w celu skrócenia czasu doplywu gazów do dyszy palnika. Rozwiazania te jednak nie eliminuja nieustabilizowanych warunków pracy, a jedynie skracaja czas ich trwania.

Celem wynalazku jest zapewnienie stabilnych warunków pracy w momencie zajarzenia luku glównego i podczas ciecia.2 101 421 Cel ten zostal osiagniety poprzez zmiane sposobu zajarzania luku glównego. Luk glówny pomiedzy katoda palnika a cietym materialem zajarza sie w oslonie gazu lub mieszanki gazowej przy przeplywach co naj¬ mniej równych lub wiekszych od przeplywów stosowanych podczas ci\ da. Proces zajarzania luku plazmowego odbywa sie równiez za pomoca luku pomocniczego jarzacego sie pi.:y przeplywach wymaganych podczas procesu ciecia. Juz podczas jarzenia sie luku pomocniczego nastepuje ustabilizowanie przeplywu gazów co stwarza warunki prawidlowego zajarzania luku glównego. Przy takim sposobie doprowadzania gazów zwiekszaja sie jednak trudnosci z zajarzeniem luku pomocniczego. Trudnosci te rozv,iazano przez zastosowanie jonizatoiów iskrowych odpowiedniej mocy. Podstawowe zalety przedstawionego rozwiazania stanowi uproszczenie sposobu sterowania przeplywu gazów w procesie ciecia, polepszenie warunków zajarzania luku plazmowego i tym samym zwiekszenie trwalosci dysz plazmowych, mozliwosc uzyskania wiekszej koncentracji energii poprzez zastosowa¬ nie dysz o mniejszej srednicy dla danej mocy luku oraz polepszenie jakosci krawedzi oraz zmniejszenie szczeliny ciecia.

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób zajarzania luku w urzadzeniach do ciecia plazmowego, znamienny t y m, ze zajarzenie luku pomocniczego a nastepnie plazmowego odbywa sie w oslonie gazu lub mieszanek gazowych przy przeply¬ wach co najmniej równych lub wiekszych od przeplywów stosowanych podczas ciecia. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl