NO853264L - Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift. - Google Patents

Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift.

Info

Publication number
NO853264L
NO853264L NO853264A NO853264A NO853264L NO 853264 L NO853264 L NO 853264L NO 853264 A NO853264 A NO 853264A NO 853264 A NO853264 A NO 853264A NO 853264 L NO853264 L NO 853264L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
main
laser
electrodes
auxiliary
chamber
Prior art date
Application number
NO853264A
Other languages
English (en)
Inventor
Gerhard Brumme
Konrad Paur
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NO853264L publication Critical patent/NO853264L/no

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
    • H01S3/09713Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
    • H01S3/09716Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation by ionising radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0384Auxiliary electrodes, e.g. for pre-ionisation or triggering, or particular adaptations therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Arc Welding In General (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)

Description

Oppfinnelsen angår en gasslaser som angitt i innledningen til patentkrav 1. En slik TE-laser inngår i gjenstanden for søkernes prioritetseldre patentsøknad 84 1491.
Ved lasertypen ifølge den anførte søknad blir hovedutladningen forberedt ved hjelp av en fri koronoautladning frem-bragt mellom hjelpeutladninger. Hjelpeelektrodene består av hver sin leder som er omhyllet av et dielektrikum, og omhyll-ingen for flere ledere kan også være sammenfattet til en felles bærekappe. Et slikt elektrodesystem lar seg fremstille og montere rasjonelt, er relativt uavhengig av hovedelektrodenes utformning og byr ikke minst mulighet for å variere høyspenning, gasstrykk og gassammensetning innen visse grenser. Dermed muliggjøres en "sealed-off"-drift, hvor partialtrykkene av gassblandingen og dermed også den nødvendige høyspenning som bekjent forandrer seg i tidens løp.
For å øke toleransen like overfor parametervariasjoner
og dermed også forlenge den ventelige levetid i sealed-off drift kunne man tenke på å koble en såkalt "peaking capacitor" parallelt med hovedutladningsstrekningen. Denne kondensator kan om den er riktig dimensjonert, i mange tilfeller bedre hovedutladningens stabilitet og homogenitet betraktelig (jfr.
i den forbindelse Opt.Quant.Elec.J_3 ( 1 981 ) 251). Ved den foreliggende laseranordning bringer anvendelsen av en "peaking capacitor" riktignok etter hva forsøk har vist, ingen for-bedring. Årsakene til dette forhold, som også er omtalt i
Opt .Quant .Elec. J_5 (1983) 185, er ennå ikke klarlagt.
Til grunn for oppfinnelsen ligger den oppgave å utforme
en laser av den innledningsvis angitte art slik at den gjennom lengre tidsrom kan drives med et avlukket gassvolum og spesielt også utholder forholdsvis sterke høyspenningsvariasjoner.
Denne oppgave blir ifølge oppfinnelsen løst med en laser med de trekk som er angitt i patentkrav 1.
Den foreslåtte innsnevring i hjelpeelektrodemantelen
gir koronoautladningen en form hvor UV-lyset preferert blir strålt ut i rommet mellom hovedelektrodene. Dermed blir gassens ioniseringsgrad særlig høy nettopp der hvor tilstedeværelsen av frie elektroner gjør seg sterkest gjeldende. Det har vist
seg at allerede dette enkle tiltak bedrer laserens funksjons-dyktighet i påtagelig grad.
Enda gunstigere blir forholdene dersom man i tillegg innstiller kapasiteten av hjelpeelektrodeanordningen riktig. Den optimale verdi er i regelen noe større enn den kapasitet som dannes av selve de dielektrisk omhyllede ledere. Man vil derfor normalt også metallisere den dielektriske mantel på utsiden, nærmere bestemt på steder hvor metalliseringen bare virker kapasitetsøkende og ikke kommer med i en utladning.
Ved optimerte hjelpeelektrodekapasiteter tolererer f.eks. en CC^-laser uten videre høyspenningsendringer opp til 15%. En tilfredsstillende forklaring på dette bemerkelsesverdige fenomen finnes ennå ikke. Man kan vel ikke utelukke at lignende mekanismer som ved den ellers benyttede "peaking capacitor"
kan spille en rolle. Dog skiller de repektive gunstigste kapasi-tetsverdier seg i de to tilfeller vanligvis fra hverandre mer enn en størrelsesorden.
Ytterligere gunstige utformninger og videreutviklinger
av oppfinnelsesgjenstanden er angitt i ytterligere patentkrav.
Det foreliggende forslag til løsning vil nå bli belyst nærmere under henvisning til tegningen.
Fig. 1 viser skjematisk tverrsnitt av laseren i et fore-trukket utførelseseksempel, og
fig. 2 viser driftskoblingen for dette eksempel.
Laseren på fig. 1 er en pulset TE-gasslaser. Den inneholder et sylindrisk keramikkrør 1, hvori der er innsatt en elektrode-anordning. Den samlede anordning er utformet som selvbærende enhet og har form av et langstrakt parallellepiped med rektangu-lært tverrsnitt. To overfor hinannen liggende langsider av parallellepipedet dannes i det vesentlige av hovedelektroder (hovedkatode 2, hovedanode 3) med de respektive tilførsels-ledninger 4 og 5. I de to langsider av parallellepipedet er et par hjelpeelektroder integrert. Parallellepipedets kortsider er lukket med hver sin - ikke viste - plate som tjener som speilbærer.
Hvert hjelpeelektrodepar inneholder et felles keramikklegeme 6, 7 med profil som en "B", med ett og ett knekket steg ntil og nedentil. B-formens bakside og to hulrom er metalli-sert (metalliseringer 8-13), og de metalliseringer 8, 9 som ligger nærmest hovedkatoden 2, tjener som hjelpekatoder, og de metalliseringer 10, 11 som er nærmest hovedanoden 3, som hjelpeanoder, mens de utvendige metalliseringer 12, 13 tjener til økning av kapasitetene. De knekkede steg er stivt fastholdt med hver sin av hovedelektrodene.
Fig. 2 viser en særlig enkel driftskobling for laseren
på fig. 1. Mellom en høyspenningstilslutning 14 og gods befinner seg en triggbar gniststrekning 15. Parallelt med denne bryter ligger et serieledd dannet av en ladekondensator og en ohmsk motstand R. Hovedutladningsstrekningen er tilkoblet tvers over motstanden, og dens katode og anode er forbundet med henholdsvis hjelpekatodene og hjelpeanodene. På figuren er hjelpeelektrodeparene erstattet med de respektive kapasiteter som de danner: Kapasitetene og C symboliserer de kondensa-torer som metalliseringene 8 og 10 resp. 9 og 11 danner med
- hverandre, kapasitetene og CLkapasitetene av metalliseringene 8 og 12 resp. 9 og 13 og kapasitetene Cg og C? de kondensa-- torer som dannes av metalliseringene 10 og 12 resp. 11 og 13.
Koblingen er dimensjonert som følger: Høyspenningstilslut-ningen mottar en høyspenning på 26(-3)kV, ladekondensatoren har en kapasitet av 10nF, den ohmske motstand er på 10kft,
og kapasiteten av hvert hjelpeelektrodepar utgjør ca. 40pF.
Ytterligere detaljer ved fremstilling og drift fremgår
av den ovennevnte eldre søknad.
- Oppfinnelsen er ikke begrenset til det viste utførelses-eksempel. Således ville man også kunne gi hjelpeelektrodenes keramikklegeme andre former, forutsatt at den foreskrevne innsnevring på innsiden beholdes. F.eks. vil det være mulig om plassforholdene tillater det, å velge et "8"-profil, som gir særlig høye kapasiteter. Bortsett fra dette ville de mulig-heter for frihet når det gjelder parametervalg som oppfinnelsen bringer, også kunne utnyttes til å velge en gassblanding med særlig høyt volumutbytte. F.eks. vil der kunne realiseres en C02-laser med et C02~innhold på 30%.

Claims (6)

1. Transversalt eksitert gasslaser, særlig TEA-laser, inne-holdende 1) et langstrakt, gassfylt utladningskammer med a) to optiske elementer som befinner seg på begge sider av kammerets kortsider og ligger på en felles akse (optisk akse), b) to elektroder (hovedkatode, hovedanode) som er anbragt i kammerets indre og strekker seg langs den optiske akse, nærmere bestemt slik at denne akse forløper i rommet (hovedutladningrommet) mellom hovedkatode og hovedanode, c) minst to ytterligere elektroder (hjelpeelektroder) som er anordnet i det indre av kammeret, strekker seg parallelt med den optiske akse i området for en av de to åpne sider av hovedutladningsrommet, hver består av en leder omgitt av en felles dielektrisk mantel, og har en overslagsmotstand mot alle øvrige elektroder, 2) en påstyringsenhet hvormed under gasslaserens drift a) hovedkatoden og hovedanoden legges på slik for-skjellige potensialer at 'der skjer en elektrisk utladning (hovedutladning) mellom dem, b) hjelpeelektroder som parvis ligger på slik forskjel-lige potensialer at der mellom dem skjer en koronautladning som forioniserer gassen i hovedutladningsrommet , (i samsvar med patentsøknad 84 1491), karakterisert ved at mantelen (6, 7) oppviser et profil med en innsnevring mellom lederne hos hvert hjelpeelektrodepar (metalliseringer 8, 10 resp. 9, 11) på den side (innsiden) som vender mot hovedutladningsrommet.
2. Laser som angitt i krav 1, karakterisert ved at et hjelpeelektrodepars mantel (6, 7) oppviser et "8"- eller "B"-profil.
3. Laser som angitt i krav 1 eller 2, karakterisert ved at hjelpeelektrodelederen består av en metallisering (8-11) som fortrinnsvis dekker hele mantelens (6, 7) innervegg.
4. Laser som angitt i krav 1 eller 3, karakterisert ved at mantelens (6, 7) utside bærer en metallisering (12, 13).
5. Laser som angitt i krav 4, med en ladekondensator med kapasitet C^ , karakterisert ved at der for kapasiteten C2 av en kondensator som dannes av et hjelpeelektrodepar, gjelder: 10~ <3> C1 <C2 <10~ <2> C1 , særlig 3 x 10~ <3> C1 <C2 <0,6x10~ <2> C1 .
6. Fremgangsmåte til drift av en laser som angitt i et av kravene 1-5, omfattende en bryter i kretsen for en høyspennings-kilde, et ledd som ligger på tvers av bryteren og dannes av en ladekondensator i serie med en ohmsk motstand, en hoved-utladningsstrekning som ligger på tvers av den ohmske motstand, og minst to hjelpeelektrodepar hvor den respektive ene elektrode er forbundet med hovedkatoden og den annen med hovedanoden, karakterisert ved at høyspenningstilslutningen får en høyspenning U mellom 20kV og 30kV, at ladekondensatorens kapasitet (C^ ) ligger mellom 5nF og 15nF, at hvert par av hjelpeelektroder har en kapasitet C, mellom 30pF og 70pF, og at motstandsverdien (R) av den ohmske motstand ligger mellom 5 og 15 kV, særlig idet følgende relasjoner gjelder: 23kV<U<29kV, 8nF<Cl <12nF, 40pF<Ch <60pF, 8kft<R<12kft.
NO853264A 1984-10-15 1985-08-19 Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift. NO853264L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3437738 1984-10-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO853264L true NO853264L (no) 1986-04-16

Family

ID=6247915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO853264A NO853264L (no) 1984-10-15 1985-08-19 Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4703490A (no)
EP (1) EP0178621A3 (no)
JP (1) JPS61105883A (no)
CA (1) CA1260530A (no)
NO (1) NO853264L (no)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0256135B1 (en) * 1986-01-29 1992-04-29 Fanuc Ltd. Gas laser utilizing high-frequency excitation
DE3884832T2 (de) * 1987-03-19 1994-05-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laservorrichtung.
EP0304031B1 (de) * 1987-08-20 1992-11-04 Siemens Aktiengesellschaft Gaslaser, insbesondere CO2-Laser
US4905251A (en) * 1988-11-07 1990-02-27 Spectra-Physics, Inc. Self-preionizing resistively ballasted semiconductor electrode
US7856044B2 (en) 1999-05-10 2010-12-21 Cymer, Inc. Extendable electrode for gas discharge laser
US6414979B2 (en) 2000-06-09 2002-07-02 Cymer, Inc. Gas discharge laser with blade-dielectric electrode
US7132123B2 (en) * 2000-06-09 2006-11-07 Cymer, Inc. High rep-rate laser with improved electrodes
US6654403B2 (en) 2000-06-09 2003-11-25 Cymer, Inc. Flow shaping electrode with erosion pad for gas discharge laser
US7190708B2 (en) 2000-11-01 2007-03-13 Cymer, Inc. Annealed copper alloy electrodes for fluorine containing gas discharge lasers
US6690706B2 (en) 2000-06-09 2004-02-10 Cymer, Inc. High rep-rate laser with improved electrodes
US6466602B1 (en) 2000-06-09 2002-10-15 Cymer, Inc. Gas discharge laser long life electrodes
US6560263B1 (en) 2000-06-09 2003-05-06 Cymer, Inc. Discharge laser having electrodes with sputter cavities and discharge peaks
US6711202B2 (en) 2000-06-09 2004-03-23 Cymer, Inc. Discharge laser with porous insulating layer covering anode discharge surface
US6363094B1 (en) 2000-06-09 2002-03-26 Cymer, Inc. Gas discharge laser electrode with reduced sensitivity to adverse boundary layer effects
US7230965B2 (en) * 2001-02-01 2007-06-12 Cymer, Inc. Anodes for fluorine gas discharge lasers
US7095774B2 (en) * 2001-09-13 2006-08-22 Cymer, Inc. Cathodes for fluorine gas discharge lasers
US7339973B2 (en) * 2001-09-13 2008-03-04 Cymer, Inc. Electrodes for fluorine gas discharge lasers
US7671349B2 (en) * 2003-04-08 2010-03-02 Cymer, Inc. Laser produced plasma EUV light source
US7301980B2 (en) * 2002-03-22 2007-11-27 Cymer, Inc. Halogen gas discharge laser electrodes
US7633989B2 (en) 2005-06-27 2009-12-15 Cymer, Inc. High pulse repetition rate gas discharge laser
US7542502B2 (en) * 2005-09-27 2009-06-02 Cymer, Inc. Thermal-expansion tolerant, preionizer electrode for a gas discharge laser
US7706424B2 (en) * 2005-09-29 2010-04-27 Cymer, Inc. Gas discharge laser system electrodes and power supply for delivering electrical energy to same
US20070071047A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 Cymer, Inc. 6K pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements
US7655925B2 (en) 2007-08-31 2010-02-02 Cymer, Inc. Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source
US7812329B2 (en) 2007-12-14 2010-10-12 Cymer, Inc. System managing gas flow between chambers of an extreme ultraviolet (EUV) photolithography apparatus
US8519366B2 (en) 2008-08-06 2013-08-27 Cymer, Inc. Debris protection system having a magnetic field for an EUV light source
JP5687488B2 (ja) 2010-02-22 2015-03-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
JP6411120B2 (ja) * 2014-08-04 2018-10-24 株式会社アマダミヤチ レーザ装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2144141A6 (no) * 1971-07-01 1973-02-09 Comp Generale Electricite
DE3313811A1 (de) * 1983-04-15 1984-10-18 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Transversal angeregter gaslaser

Also Published As

Publication number Publication date
EP0178621A3 (de) 1988-07-27
CA1260530A (en) 1989-09-26
US4703490A (en) 1987-10-27
EP0178621A2 (de) 1986-04-23
JPS61105883A (ja) 1986-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO853264L (no) Transversalt eksitert gasslaser og fremgangsm¨te til dens drift.
EP0313027B1 (en) Arc discharge lamp with ultraviolet radiation starting source
US5990599A (en) High-pressure discharge lamp having UV radiation source for enhancing ignition
EP0967631B1 (en) Capacitive glow starting of ceramic high intensity discharge devices
US4179640A (en) Hid sodium lamp which incorporates a high pressure of xenon and a trigger starting electrode
EP0146383A2 (en) Apparatus for forming electron beams
JPH01134849A (ja) 無電極の紫外線始動源を備えたアーク放電ランプ
US4491766A (en) High pressure electric discharge lamp employing a metal spiral with positive potential
EP0115653B1 (en) Discharge lamp
EP0087830B1 (en) High pressure discharge lamp
JP2003502804A (ja) メタルハライドランプ
US4963790A (en) Low wattage metal halide discharge lamp
US4950938A (en) Discharge lamp with discharge vessel rupture shield
US3828214A (en) Plasma enshrouded electric discharge device
US3307069A (en) Electric discharge lamp
JPS61109254A (ja) 低ワツト数のメタルハライド放電ランプ
US5130602A (en) High-pressure gas discharge lamp
US7301283B1 (en) Starting aid for low wattage metal halide lamps
EP0184217B1 (en) Low pressure arc discharge tube having increased voltage
US2678408A (en) High-frequency transmission control tube
US4884007A (en) Low pressure arc discharge tube having increased voltage
US4415840A (en) Combined flash tube and quench tube apparatus
US4621216A (en) High-pressure discharge lamp with shielded electrode
US20060158092A1 (en) High-Pressure Discharge Lamp
US3895248A (en) Gas discharge device with glow discharge igniting structure