NO830781L - Solcelle - Google Patents

Solcelle

Info

Publication number
NO830781L
NO830781L NO830781A NO830781A NO830781L NO 830781 L NO830781 L NO 830781L NO 830781 A NO830781 A NO 830781A NO 830781 A NO830781 A NO 830781A NO 830781 L NO830781 L NO 830781L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
copper
layer
sulphide
cell
contact
Prior art date
Application number
NO830781A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter John Bassett
Augustinus Wilhelmus Verheijen
Original Assignee
Prutec Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Prutec Ltd filed Critical Prutec Ltd
Publication of NO830781L publication Critical patent/NO830781L/no

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/0328Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, semiconductor materials provided for in two or more of groups H01L31/0272 - H01L31/032
    • H01L31/0336Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, semiconductor materials provided for in two or more of groups H01L31/0272 - H01L31/032 in different semiconductor regions, e.g. Cu2X/CdX hetero- junctions, X being an element of Group VI of the Periodic Table
    • H01L31/03365Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, semiconductor materials provided for in two or more of groups H01L31/0272 - H01L31/032 in different semiconductor regions, e.g. Cu2X/CdX hetero- junctions, X being an element of Group VI of the Periodic Table comprising only Cu2X / CdX heterojunctions, X being an element of Group VI of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

Ved fremstilling av en kadmiumsulfid-solcelle blir en celle dannet på et glassubstrat (10), hvoretter det dannes en frontkontakt (12), f. eks. av tinnoksyd, et kadmiumsulfidlag (14) og et kobbersulfidlag (16). Forbindelsen mellom lagene (14 og 16) er fotoelektrisk. For å danne en kontakt på kobbersulfidlaget foreslås en damputfelling av et blandet lag av kobber og kobberoksyd på sulfidlaget. Det er også foreslått en varmebehandling etter dannelsen av den bakre kontakt for å optimalisere cellens elektriske ytelse.

Description

Oppfinnelsen vedrører kadmiumsulfid-solceller og fremstilling av disse.
De forberedende trinn ved fremstilling av en kadmi-umsulf id-solcelle skal først beskrives under henvisning til fig. 1 på tegningen, som viser et snitt gjennom en delvis oppbygget solcelle.
Et substrat 10, fremstilt f. eks. av glass, beleg-ges med et materiale, såsom tinnoksyd eller indiumtinnoksyd, for dannelsen av en transparent frontkontakt. Et kadmiumsulfidlag 14 blir deretter tilformet for å ligge over kontakten 12. Dette siste trinn kan oppnås ved hjelp av flere forskjellige teknikker innbefattende damputfelling, sputter-ing, sintring og sprøyting. Hver av disse teknikker har sine tilhørende fordeler og ulemper med hensyn til utfellingshas-tighet og kornstørrelse som påvirker fremstillingskostnadene og celleytelsen. Ved den foretrukkede teknikk blir en for-løperoppløsning sprøytet på det forvarmede substrat.
Det neste trinn innbefatter dannelsen av et kobbersulf idlag , og også her kan flere forskjellige teknikker bli benyttet for å oppnå dette trinn. Den foretrukkede metode bringer substratet til å reagere med en oppløsning som inneholder kobberioner, f. eks. ved dypping, med det resultat at den øvre flate av kadmiumsulfidlaget 14 blir omformet til et kobbersulfidlag 16, som mellom lagene 14 og 16 danner en fotoelektrisk forbindelse. Kobbersulfidlaget er ikke støkio-metrisk, idet det er noe mindre enn to atomer kobber for hvert svovelatom.
Det som nå gjenstår er å danne den bakre kontakt for å gi ohmsk kontakt med kadmiumsulfidlaget. Det har allerede vært forsøkt å danne et lag av rent kobber over kobbersulfidlaget ved damputfelling av en tykk film. Denne metode har imidlertid den ulempe at detn maksimale strømutgang (kortslutningsstrøm) for cellen er betydelig redusert på grunn av en tilsynelatende økning i indre motstand for cellen.
En forklaring for den tilsynelatende -økning i indre motstand for cellen kan finnes i en artikkel av F. Pfisterer et al, side 762 i "the Proceedings of the International Conference of Photovoltaic Solar Energy", holdt i Cannes, Frankrike, 27. -.31. oktober 1980. Denne artikkel som er resultatet av arbeide som er gjennomført ved universitetet i Stuttgart foreslår at kobber-til-kobber-sulfidgrenseflaten danner en Schottky-barriére som på uheldig måte påvirker cellens effektivitet.
Den løsning som er foreslått av forskerne ved Stuttgart-universitetet omfatter reduksjon av flaten av kobbersulf idlaget mot rent kobber ved å utsette laget for en hydrogen glødeutladning og derpåfølgende oppvarming av det rene kobberlag i luft for gjentatt oksydering av kobberet. Ved denne kombinasjon av trinn vil flaten for kobbersulfidlaget bli omdannet til kobberoksyd som ikke danner en Schottky-barriére til kobbersulfidlaget.
Mens.dette forslag har vært gunstig med hensyn
til å forbedre cellens effektivitet, lider den fremdeles av ulempene sett ut fra synspunktet fremstilling i stor måle-stokk. De fleste fordeler skriver seg fra det faktum at man ikke kan lett danne en ohmsk kontakt med dén tynne film av kobberoksyd fordi lagmotstanden for filmen er høy og fordi det er vanskelig å lodde direkte på filmen. Den celle som er foreslått av forskerne ved Stuttgart-universitetet består av et glasslaminat.,. i. hvilket...den .hedre .glassplate^bærér.... kadmiumsulfidlaget og den andre glassflate bærer et gullbe-lagt kobbergitter som mekanisk presses mot dette filmkobber-oksydlag på de enkelte celler for dannelsen av denønskede kontakt.. En gullbelegning er krevet for at kontakten skal bli ohmsk.
Konstruksjonen av dette glasslaminat er beskrevet i artikkelen utgitt ved samme konferanse av W. Arndt et al med tittel "Integrated Copper Sulphide Cadmium Sulphide Thin rFilm-Solar Cell Panels with higher output voltages". Selv om denne oppbygging skal ha visse fordeler sett ut fra lang oppdriftstid (se artikkelen av W. H. Bloss et al ved samme konferanse), fremgår det at fremstillingen av derTbakre kontakt innbefatter like mange trinn som fremstilling av hele cellen. I tillegg til dette må kontaktgitteret, som tidligere nevnt, bli belagt med gull som tilføyer ytterligere kostnader til fremstilling. Glasslaminatet medfører begrensning av størrelsen for platen, da trykket må anbringes på alle celler i platen for å holde kontaktgitteret mot kobberoksydlagene.
Foreliggende oppfinnelse har til hensikt å tilveiebringe en fremgangsmåte for dannelsen av kontakt med kobbersulfidlag i en kadmiumsulfid-celle, som er mindre dyr å fullføre enn de tidligere foreslåtte fremgangsmåter og like-vel ikke i alvorlig grad påvirker solcellens ytelse.
I samsvar med foreliggende oppfinnelse er det til-veiebragt en fremgangsmåte for dannelsen av en elektrisk kontakt med kobbersulfidlaget i en kadmiumsulfid-kobbersulfid-solcelle, i hvilken et tykt kobber og kobberoksydlag utfelles på kobbersulfidlaget.
Inntil nu er ved utfelling:, av kobber på kobbersulf idlaget tatt hensyn til at man bestandig skal holde laget så rent som mulig. I motsetning hertil foreslår fore-, liggende oppfinnelse innføring av oksygen i systemet under fordampning for å gi en blandet utfelling av kobber og kobberoksyd ved grenseflaten med kobbersulfid for å unngå Schottky-barriéreeffekten. På grunn av utfellingen av dette tykke kobberholdige lag kan man nå lodde ledninger direkte til de kobberholdige lag, og en hvilken som helst egnet form for innkapsling kan bli benyttet for å sikre langtidsstabiliteten for cellene. Videre har det kobberholdige lag som har form av en tykk film en lavere sjiktmotstand enn den tynne film i den tidligere kjente teknikk, slik at det ikke lenger er vesentlig for kontakten at den dannes over hele lagområdet.
Fortrinnsvis blir cellen etter damputfelling av det kobberholdige lag utsatt for en varmebehandling ved oppvarming i luft i et forutbestemt tidsrom. En varmebehandling består av oppvarming til 150°C i ti minutter, noe man har funnet optimaliserer effektiviteten for cellen. Formå-let med varmebehandlingen tror man er å bevirke en migrering av kobber for således å forbedre støkiometrien for kobbersulfidlaget for å gi en høy diffusjonslengde for minoritets-bærere. Temperaturen med hvilken varmebehandlingen gjennom- føres og varigheten for utsettelsen for oksygen er viktig fordi ved overskridelse av optimal varmebehandling vil effek-. tiviteten for cellen igjen avta på grunn av dannelsen av kupri- i steden for kuprooksyder. Da kuprioksyd er en isola-tor, vil sjiktmotstanden for materialet også øke når konsen-trasjonen av kupriioner øker.
Fordelene ved varmebehandlingen har allerede blitt diskutert i de foran nevnte artikler, men det skal bemerkes at ekstra blandet utfelling av kobber og kobberoksyd som damputfelles i samsvar med foreliggende oppfinnelse gir et kobberforråd, fra hvilket kobberioner kan trekkes ut for å forbedre støkiometrien for kobbersulfidlaget.
Oppfinnelsen skal nu beskrives ytterligere ved hjelp av et utførelseseksempel som er fremstilt på tegningen, som viser: fig. 1, som tidligere anført, et skjematisk snitt gjennom en delvis oppbygget solcelle, og
fig. 2 et snitt gjennom en solcelle ifølge oppfinnelsen.
På fig. 2 er lagene 10, 12, 14 og 16 dannet på den måte som er beskrevet ovenfor med henvisning til fig. 1. Lag 18 er en blandet utfelling av kobber og kobberoksyd som dannes ved en utfellingsteknikk, såsom damputfelling. Kobber-damp utfelles på kobbersulfidlaget 16 i en oksygenholdig atmosfære, hvorved temperaturen og oksygenkonsentrasjonen er slik at et blandet lag som inneholder kuprooksyd utfelles som en tykk film over kobbersulf idlaget. "Hvis ønsket kan oksygenkonsentrasjonen reduseres når filmtykkelsen bygges opp for å gi en større oksygenkonsentrasjon ved grenseflaten med kobbersulfid enn ved den øvre flate av laget.
Etter utfellingen av blandet kobber og kobberoksydlag blir substratet varmebehandlet til en temperatur på ca. 150°C i ti minutter i luft. Denne varmebehandling resul-terer i en vesentlig forbedring i den elektriske ytelse for cellen, noe som antas å være resultatet av forbedringen i støkiometrien for kobbersulfidlaget som et resultat av migrer-ingen av kobberioner fra kobberoksydlaget.
For å illustrere forbedringen som oppnås i en celleytelse som oppnås med foreliggende oppfinnelse, skal det nå betraktes den åpne kretsspenning og kortslutnings-strømmen for en celle som måler 1 cm x 1 cm. I tilfelle av en celle som er fremstilt ved utfelling av kobber direkte på kobbersulfidlaget, vil den maksimale åpne kretsspenning være 2 milliampere. I en celle som i samsvar med oppfinnelsen har et blandet kobber og kobberoksydlag utfelt på kobbersulfidlaget, vil før varmebehandlingen den åpne kretsspenning være 150 mV, men kortslutningsstrømmen nu er 5 mA. Etter varmebehandlingen stiger den åpne kretsspenning til 450 mV, og kortslutningsstrømmen stiger til 15 mA.
Hvilken som helst av flere metoder kan nu bli benyttet for å tilveiebringe en ohmsk kontakt med det blandede kobber og kobberoksydlag 18. På fig. 2 er det vist et lag av loddemetall 20 som kan anbringes på vanlig måte og en kob-berutgangselektrode 22. Utgangselektroden 22 kan danne en del av et tykkfilmsutfelt gitter som forbinder cellene i en plate i serie, parallelt eller på annen ønsket grupperings-måte for å oppnå den ønskede utgangsstrøm og utgangsspenning.
Etter dannelsen av utgangselektrodene kan de øvre flater av cellen bli belagt f. eks. med en epoksyharpiks for å forhindre forurensning og gi mekanisk beskyttelse til cellen. En slik innkapslingsmetode sikrer langtidsstabilitet for cellen, mens det er billigere å gjennomføre en såkalt "glasslaminering", som er beskrevet ovenfor.

Claims (5)

1. Fremgangsmåte for dannelsen av elektrisk kontakt med kobbersulfidlaget i en kadmiumsulfid-kobbersulfid-solcelle, karakterisert ved at et tykt kobber og kobberoksydlag (18) utfelles på kobbersulfidlaget.
2. Fremgangsmåte til fremstilling av en kadmiumsulfid-solcelle, omfattende trinnene med dannelsen av en frontkontakt ved belegging av et substrat med et elektrisk ledende materiale, dannelsen over frontkontakten et lag av kadmiumsulfid, dannelsen av et kobbersulfidlag over kadmiumsulfidlaget for dannelsen av en fotoelektrisk forbindelse og dann-else av en bakre kontakt på kobbersulfidlagene, karakterisert ved at den bakre kontakt dannes ved utfelling på kobbersulfidlaget (16) av et blandet lag av kobber og kobberoksyd (18).
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at etter utfellingen av kobber og kobberoksydlaget blir cellen utsatt for en varmebehandling for å bevirke migrering av kobberioner for å forbedre den elektriske ytelse for cellen.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 3, karakterisert ved at varmebehandlingen omfatter behandling av cellen ved en temperatur på 150°C i ti minutter i luft.
5. Fremgangsmåte ifølge ett eller flere av kravene 2, 3 og 4, karakterisert ved at det etter dannelsen av den bakre kontakt foretas en innkapsling av cellen.
NO830781A 1982-03-08 1983-03-07 Solcelle NO830781L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP82301152A EP0091998A1 (en) 1982-03-08 1982-03-08 Cadmium sulphide solar cells

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO830781L true NO830781L (no) 1983-09-09

Family

ID=8189594

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO830781A NO830781L (no) 1982-03-08 1983-03-07 Solcelle

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4463215A (no)
EP (1) EP0091998A1 (no)
JP (1) JPS58212185A (no)
KR (1) KR840004310A (no)
AR (1) AR230897A1 (no)
AU (1) AU1212583A (no)
BR (1) BR8301111A (no)
CA (1) CA1194970A (no)
DK (1) DK100983A (no)
ES (1) ES8404570A1 (no)
GR (1) GR77860B (no)
IL (1) IL68061A0 (no)
NO (1) NO830781L (no)
NZ (1) NZ203464A (no)
ZA (1) ZA831566B (no)
ZW (1) ZW6083A1 (no)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1207421A (en) * 1983-11-14 1986-07-08 Ottilia F. Toth High efficiency stable cds cu.sub.2s solar cells manufacturing process using thick film methodology
US4666569A (en) * 1984-12-28 1987-05-19 Standard Oil Commercial Development Company Method of making multilayer ohmic contact to thin film p-type II-VI semiconductor
DE3542111A1 (de) * 1985-11-28 1987-06-04 Nukem Gmbh Verfahren zur durchfuehrung eines glimmprozesses
DE3542116A1 (de) * 1985-11-28 1987-06-04 Nukem Gmbh Photovoltaische zelle
GB2196650A (en) * 1986-10-27 1988-05-05 Prutec Ltd Cadmium sulphide solar cells
JPH01111380A (ja) * 1987-10-23 1989-04-28 Sumitomo Metal Ind Ltd 光起電力素子及びその製造方法
US6169246B1 (en) 1998-09-08 2001-01-02 Midwest Research Institute Photovoltaic devices comprising zinc stannate buffer layer and method for making

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4104420A (en) * 1975-08-25 1978-08-01 Photon Power, Inc. Photovoltaic cell
DE2732933C2 (de) * 1977-07-21 1984-11-15 Bloss, Werner H., Prof. Dr.-Ing., 7065 Winterbach Verfahren zum Herstellen von Dünnschicht-Solarzellen mit pn-Heteroübergang
US4267398A (en) * 1979-05-29 1981-05-12 University Of Delaware Thin film photovoltaic cells
US4318938A (en) * 1979-05-29 1982-03-09 The University Of Delaware Method for the continuous manufacture of thin film solar cells
US4239553A (en) * 1979-05-29 1980-12-16 University Of Delaware Thin film photovoltaic cells having increased durability and operating life and method for making same
US4251286A (en) * 1979-09-18 1981-02-17 The University Of Delaware Thin film photovoltaic cells having blocking layers
US4260428A (en) * 1980-03-05 1981-04-07 Ses, Incorporated Photovoltaic cell

Also Published As

Publication number Publication date
ZA831566B (en) 1983-11-30
DK100983D0 (da) 1983-02-28
CA1194970A (en) 1985-10-08
ZW6083A1 (en) 1983-05-25
ES520376A0 (es) 1984-04-16
DK100983A (da) 1983-09-09
EP0091998A1 (en) 1983-10-26
ES8404570A1 (es) 1984-04-16
NZ203464A (en) 1985-07-12
AR230897A1 (es) 1984-07-31
IL68061A0 (en) 1983-06-15
AU1212583A (en) 1983-09-15
JPS58212185A (ja) 1983-12-09
BR8301111A (pt) 1983-11-22
GR77860B (no) 1984-09-25
KR840004310A (ko) 1984-10-10
US4463215A (en) 1984-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4239553A (en) Thin film photovoltaic cells having increased durability and operating life and method for making same
US4251286A (en) Thin film photovoltaic cells having blocking layers
JP6096790B2 (ja) 光電池のための導電性基材
US4267398A (en) Thin film photovoltaic cells
CN102206801B (zh) 基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
CN108155293A (zh) 一种铜铟镓硒钙钛矿叠层太阳能电池及其制备方法
US8766088B2 (en) Dopant-containing contact material
USRE29812E (en) Photovoltaic cell
TW200952193A (en) Solar module and system composed of a solar cell with a novel rear surface structure
CN102810581B (zh) 基于碲化镉的薄膜光伏器件的多层n型堆栈及其制造方法
CN105870246A (zh) 通过溶液工艺修复吸收件表面的方法
CN118198165A (zh) 太阳能电池及其制备方法、光伏组件
JP5815848B2 (ja) 光電変換装置の製造方法
CN102208484B (zh) 基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
US20100307561A1 (en) Doped metal contact
NO830781L (no) Solcelle
US20110265868A1 (en) Cadmium sulfide layers for use in cadmium telluride based thin film photovoltaic devices and methods of their manufacture
CN103201854A (zh) 太阳能电池设备及其制造方法
CN102810597B (zh) 在基于碲化镉的薄膜光伏器件中形成窗口层的方法
US20130133714A1 (en) Three Terminal Thin Film Photovoltaic Module and Their Methods of Manufacture
US4104420A (en) Photovoltaic cell
WO2011039991A1 (en) Solar cell module
US9147794B2 (en) Three terminal thin film photovoltaic module and their methods of manufacture
US8188562B2 (en) Multi-layer N-type stack for cadmium telluride based thin film photovoltaic devices and methods of making
US20120024692A1 (en) Mixed sputtering targets and their use in cadmium sulfide layers of cadmium telluride vased thin film photovoltaic devices