NO123177B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO123177B NO123177B NO170826A NO17082667A NO123177B NO 123177 B NO123177 B NO 123177B NO 170826 A NO170826 A NO 170826A NO 17082667 A NO17082667 A NO 17082667A NO 123177 B NO123177 B NO 123177B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- hydrogen
- silicon dioxide
- containing compound
- stated
- submicron
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 155
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 64
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 40
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 29
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 claims 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 claims 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- -1 kaolinite Chemical class 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/30—Particle morphology extending in three dimensions
- C01P2004/32—Spheres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/11—Powder tap density
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Fremgangsmåte til fremstilling av submikrone silisiumdioksydpartikler.
Foreliggende oppfinnelse angår fremstilling av submikrone silisiumdioksydpartikler.
Når det i den foreliggende beskrivelse er tale
om submikron silisiumdioksyd, siktes det til pulverformet silisiumdioksyd, i hvilket størstedelen av partiklene er mindre enn 500 millimikroTi. I slikt pulver kan det finnes større partikler, men generelt skal det ikke være mere enn 2% partikler av en størrelse på over 500 millimikron. Disse partikler danner et pulver med en romvekt på mellom 20 og 500 g/l.
Det har i noen tid vært kjent at forskjellige anorganiske stoffer i meget finfordelt form har egenskaper som avviker fra de egenskaper de samme stoffer har i lettere til-gjengelig partikkelstørrelse, men hittil har fremgangsmåtene til fremstilling av slike anorganiske stoffer i meget fin par-tikkelstørrelse vært forholdsvis kostbar, og den høye pris av de fremstilte produkter har begrenset bruken av disse.
Det har f.eks. vært foreslått å anvende høye temperaturer som kan frembringes ved hjelp av en elektrisk lysbue, se tysk patent 916 288, for overføring av anorganisk materiale, omfattende silisiumdioksyd, til dampform, og deretter å kjøle dampen for frembringelse av et fint anorganisk pulver. Videre er det i fransk patent 1 443 350 foreslått å fordampe titandioksyd i et plasmaapparat, og å kjøle den frem-bragte damp for dannelse av små partikler av titandioksyd.
Britisk patentskrift 1 033 391 inneholder generelle angivelser med hensyn til bruk av plasmateknikk ved varmebehandling av ildfaste materialer. Det angis i beskrivel-sen at ildfaste materialer kan smeltes, og at det kan fremstilles kuleformede partikler av ildfaste materialer ved varmebehandling i en plasmagenerator, og likeledes at det ildfaste materialet under visse omstendigheter kan bringes til fordampning i et slikt apparat.
Patentsøkerne har funnet at damper av silisiumdioksyd, som kan tilveiebringes i en plasmagenerator med haleflamme, under omhyggelig valgte bråkjølingsbetingelser leverer meget fine submikrone partikler. Ved omhyggelig utførelse av apparatet og varmegjenvinning i plasmastrømmen kan foreliggende oppfinnelse muliggjøre en billig fremstilling av submikrone silisiumpartikler.
Kontrollen med bråkjølingsbetingelsene, dvs. - med den hastighet med hvilken dampen kondenseres og kjøles, og valget av den atmosfære i hvilken kondenseringen eller subli-meringen finner sted, har én vesentlig innvirkning på den kjemiske tilstand av overflaten og strukturen av de dannede submikrone partikler, og dermed på deres egenskaper.
De ifølge foreliggende oppfinnelse fremstillede partikler er aktiverte submikrone silisiumpartikler.
Foreliggende oppfinnelse går nærmere angitt ut på en fremgangsmåte til fremstilling av submikrone silisiumdioksydpartikler, hvor silisiumdioksyd fordampes i en plasma generator som er utført slik at det dannes en haleflamme som inneholder fordampet silisiumdioksyd, og det karakteristiske for fremgangsmåten består i at haleflammen for fremstilling av aktiverte submikrone silisiumdioksydpartikler utsettes for en kontrollert kjøling ved innføring av en kjølegass i nærvær av hydrogen eller en hydrogeninneholdende forbindelse.
Den teknikk som anvendes ved innføring av den hydrogeninneholdende forbindelse i plasmageneratoren er kritisk med hensyn til aktiveringen av de submikrone silisiumdioksydpartikler. Hvis aktiveringen av de submikrone silisiumdioksydpartikler skal gjelde tiksotrope egenskaper, må den hydrogeninneholdende forbindelse innføres i plasmasystemet ved et punkt som sikrer at det er fritt hydrogen til stede under dannelsen av de faste submikrone silisiumdioksydpartikler. Tilstede-værelsen av fritt hydrogen på dette trinn kan sikres ved inn-føring av den hydrogeninneholdende forbindelse sammen med til-førselen av silisiumdioksydpartikler til plasmageneratoren,
slik at forbindelsen vil passere gjennom de varmeste partier av generatoren eller den hydrogeninneholdende forbindelse kan alternativt innføres sammen med et bråkjølingsfluidum under for-utsetning av at bråkjølingen utføres ved en temperatur som er tilstrekkelig høy til å sikre dannelsen av fritt hydrogen av den hydrogeninneholdende forbindelse.
Hydrogenet kan utvikles av en hvilken som helst egnet forbindelse som ved de høye temperaturer som forekommer i plasmageneratoren vil dissosieres under dannelse av fritt hydrogen. Egnede forbindelser for dette formål omfatter vann, ammoniakk, mono-, di- og polybasiske alkoholer, hydrokarboner og materialer som kaolinit, som selv inneholder og derfor kan innføre betydelige mengder vann i systemet. Alternativt kan passende mengder gassformet hydrogen innføres i systemet, enten som en del av den plasmadannende gass eller som en del av kjøle-gassen.
Hvis aktiveringen av det submikrone silisiumdioksyd skal gi et produkt med hydrofobe egenskaper, skal den hydrogenutviklende forbindelse være en polar med en hydrofob gruppe og skal innføres i plasmageneratorens haleflamme ved et punkt ved hvilket dannelsen av de submikrone partikler er begynt, og hvor temperaturen av plasmaet ikke er så høy at hele for-
bindelsen spaltes under dannelse av fri hydrogenatomer.
Egnede organiske forbindelser for dette formål omfatter alkylhalosilaner, som f.eks. dimetyldiklorosilan,
organiske alkoholer, fortrinnsvis alkoholer med lange rette kjeder, som f.eks. n-dekanol,, aminer og organiske syrer.
Foretrukne forbindelser er alkoholer med rette
kjeder og klorosilaner.
Plasmageneratorer som er egnet til bruk ved fremgangsmåten ifølge foreliggende oppfinnelse, er generatorer som angitt i de belgiske patenter 682.338 og 706.366, mens andre er beskrevet i US patent 2.922.869 og US Reissue patent 25.088.
Videre kan anvendes radiofrekvens (RF) plasmageneratorer, og som
følge av at slike ikke nødvendiggjør bruk av elektroder, kan disse med fordel anvendes når det skal fremstilles produkter av overordentlig høy renhet.
Hvis det anvendes en likestrøms (DC) eller lav-frekvent vekselstrøms (AC) plasmagenerator med elektroder, kan fint silisiumdioksyd innføres gjennom den ene av elektrodene eller i en sone i haleflammen, hvor temperaturen er tilstrekkelig høy til fordampning av silisiumdioksydet. videre kan silisiumdioksydet tilføres til generatoren under anvendelse av en vibra-
tor og/eller innføres sammen med en gass-strøm.
Den kontrollerte bråkjøling tilveiebringes ved
at der i generatorens haleflamme, som inneholder fordampet silisiumdioksyd, innføres en tilstrekkelig mengde av en kjølegass for å sikre rask og jevn kjøling av silisiumdioksydet for fremstilling av submikrone partikler. Det må sikres at det ikke opp-
står noe uøsnket mottrykk i generatoren, og hensiktsmessig kan kjølingen tilveiebringes ved å rette et antall stråler av kjøle-
gass fra et ringformet grenrør som strekker seg omkring hale-
flammens bane inn i haleflammen i dens strømningsretning og under en vinkel på omkring 45° i forhold til haleflammens akse.
RF plasmageneratoren (generator 1) som er an-
vendt i noen av de i det følgende beskrevne eksempler, består i det vesentligste av et vannkjølt (909 liter pr time) kvarts-
rør omkring hvilket det strekker seg fem vinninger av tykk kobbertråd, som er direkte koblet til en RF generator, som arbeider med en frekvens på 4..megasykler. Ved toppen av plasma-
røret er det anordnet tre adskilte gassinnløpsåpninger og en
fjerde åpning for tilførsel av sand. En fordampningsenhet er forbundet med et av innløpshullene for plasmagassen for å til-late innføring av damper av valgte væsker i plasmatilførsels-gassen for å påskynde aktiveringen av silisiumdioksydpartiklene. Fordampningsenheten består i det vesentligste av en spiral-viklet hetetråd som væsken som skal fordampes, kan dryppes ned på og derved fordampes og mates inn i ledningen for tilførsel av plasmagass.
Ved bunnen av plasmarøret er det anordnet en kjøle-enhet omfattende et ringformet rør forsynt med omkring hundre hull med en diameter på 0,4 mm og anordnet slik at det kan rettes stråler av kjølegass inn i haleflammen i plasmageneratoren i flammens strømningsretning og under en vinkel på omkring 45° med plasmaflammens akse. Kjølegassen og haleflammen føres deretter sammen inn i et stort kjølekammer, og de submikrone silisiumdioksydpartikler oppsamles i dette og i en finmasket pose av vevet fiberglass montert på et utløp fra kjølekammeret.
Under drift tilføres sand til plasmageneratoren etter at plasmaet er dannet med enOhastighet på 250 g/t sammen med en bæregass bestående av argon som tilføres i en mengde på 0,113 m 3/h. Stabiliseringsgassen tilføres til hullene ved toppen av plasmarøret og består av oksygen og argon som til-føres i en mengde på henholdsvis 0,708 m 3 /h og 0,566 m 3/h.
En likestrøms plasmagenerator (generator II) som
er anvendt i noen av de i det følgende beskrevne eksempler består i det vesentligste av en wolframknapp-anode adskilt fra en sylindrisk katode med et sylindrisk gasskammer forsynt med en rekke gasstilførselshull anordnet tangentialt omkring periferien av gasskammeret. Den sylindriske katode er gjennom et inn-snevret parti, som danner et tilførselskammer og som likeledes er forsynt med tangentielle innløpsåpninger forbundet med et katodeforlengeIsesrør.
Ved enden av katodeforlengelsesrøret er det anordnet en kjøleenhet av samme utførelse som beskrevet i forbindelse med RF generatoren I.
Generatoren II drives ved hjelp av en transformator/ likeretterenhet. Plasmadannende gass bestående av en blanding av nitrogen og argon tilføres til gasskammeret og generatoren startes. Silisiumdioksyd tilføres til tilførselskammeret sammen med nitrogen og fordampes raskt i plasmahaleflammen, og haleflammen inneholdende fordampet silisiumdioksyd bråkjøles ved hjelp av gass som innføres i kjøleenheten.
Den hydrogeninneholdende forbindelse kan innføres
i generator II sammen med den plasmadannende gass, sammen med silisiumdioksydet og den med silisiumdioksydet innførte gass eller sammen med kjølegassen, og i hvert tilfelle kan det anvendes en fordampningsenhet som beskrevet i forbindelse med generator II.
De submikrone silisiumdioksydprodukter som ble fremstillet under anvendelse av disse RF plasmaapparater, ble underkastet forskjellige prøver og de betegnelser som er anvendt ved undersøkelsen av de submikrone silisiumdioksydprodukter skal defineres i det følende: 1. Overflateareal - så fremt'annet ikke er angitt defineres overflatearealet ved standard BET bestemmelse av overflatearealet med hensyn til nitrogen. 2. Romvekt - denne bestemmes ved standard fritt fall metoden. Materialet faller^fra et tarert beger gjennom en filtertrakt ned i en målesylinder og det endelige
volum måles og bulktettheten beregnes.
3. Kamviskositetsprøven - denne prøve består i å påføre en film av en tykkelse fra 0,254 til 0,508 mm av en polyester harpiks (det blir anvendt Beck Koller harpiks 55) i hvilken det er iblandet en prøve på silisiumdioksydpulveret
(3 vektsprosent) på en glassplate. Det trekkes deretter en kam tvers over overflaten av filmen, slik at det dannes bånd med varierende mellomrom. Platen holdes vertikalt og de endringer som finner sted i kammerkene iaktas. Hvis kammerkene løper sammen, dvs. forsvinner, har dispersjonen ikke bestått prøven. Prøven er bestått hvis det etter at platen har stått en time ikke kan iaktas noen endringer i
kammerkene.
4.Tiksotropisk indeks - ved denne prøve trekkes en konsi-stenskurve på grunnlag av følgende eksperimenter. Omkring 25 ml av en dispersjon av 3 vektsprocent si-lisium-dioksydpulver i en polyesterharpiks (Beck Koller harpiks 55 med en Newtons strømning og en viskositet på I A poiser ved 25°C) tilføres til koppen for et viskosimeter og inn-stilles på termisk likevekt ved 25°C. Skjærhastigheten blir deretter økt og forminsket,lineært med tiden, og spenningene avlest i 10 minutter (tidsmellomrommet mellom hver spenningsavlesning er ett minutt). Hvis disse to kurver ikke faller sammen, men skjærer hverandre, fore-ligger det en tiksotropisk hysterese -sløyfe, og den under-søkte blanding er tiksotropisk. Både arealet av denne sløyfe og forholdet mellom viskositeten ved 5,4 pr. sekund og viskositeten ved 54 pr. sekund (den tiksotropiske indeks) er anvendt for bestemmelse av graden av tiksotropi som polyesterblandingen er meddelt. En prøve med tiksotropisk indeks under 1,8 ansees ikke å ha tiksotrope egenskaper.
Silisiumdioksydmaterialet som tilføres apparaturen kan være silisiumdioksydmel eller sand som kan passere en 200 BSS mesh sikt.
Det tiksotropisk aktiverte silisiumdioksyd fremstillet ved fremgangsmåten ifølge foreliggende oppfinnelse ved hvilken den hydrogeninneholdende forbindelse utsettes for meget høye temperaturer, har en kjedelignende struktur og kan brukes for fortykkelse av forskjellige komposisjoner og detaljer av hvilke noen anvendelser er angitt i de følgende eksempler 1-10.
Eksempel 11 til 14 illustrerer en annen form for silisiumdioksyd som kan fremstilles når den hydrogeninneholdende forbindelse innføres i en sone med meget lavere temperatur, og det oppnås en annen form for aktivering av silisiumdioksyd-produktet under økning av dets hydrofobe egenskaper og i noen tilfelle gir et typisk belagt silisiumdioksyd.
Ved anvendelse av RF plasmageneratoren II ble den
i det etterfølgende angitte serie eksperimenter utført, og resultatene er summarisk angitt i tabell I. Krafttilførselen til generatoren var 24 kilowatt.
Eksperiment A.
Med fordamperenheten utkoblet og under anvendelse av luft som kjølegass (trykket i plenumskammeret var 1,05 kg/cm 2) ble tørt silisiumdioksyd ført gjennom plasmageneratoren som beskrevet i det foranstående, og det fremstilte produkt var submikront silisiumdioksyd med et overflateareal på omkring 260 m /g.
Eksempel 1.
Med fordamperenheten innkoblet for innføring av etanol i plasmagassen ble det fremstilt mere silisiumdioksyd. Industriell etylalkohol ble fordampet i fordamperenheten og 3 vektprosent sand ble innført til den samme plasmagassblanding og det ble fremstilt aktivert submikront silisiumdioksyd.
Eksempel 2.
Med fordamperenheten utkoblet, men ved å la plasmagassen boble opp gjennom vann, ble en videre mengde silisiumdioksyd behandlet i generatoren. Vannet som ble ført inn i generatoren sammen med plasmagassen, var i en mengde på omkring 2 vektprosent av sandtilførselen, og det ble fremstilt aktivert submikront silisiumdioksyd.
Eksempel 3.
Under anvendelse av fordamperenheten som dampkilde ble 3 vektprosent vann beregnet i forhold til mengden av sand, innført i plasmagasstilførselen, og det ble fremstilt aktivert submikront silisiumdioksyd. Den tiksotrope natur av dette silisiumdioksydprodukt er illustrert på fig. 1 på tegningen anvendt i dibutylfta lat.
Eksperiment B og eksempel 4 og 5.
Med fordamperenheten utkoblet og under anvendelse av tørr luft etterfulgt av to perioder ved hvilke det ble anvendt luft mettet med vanndamp som kjølegass, ble det fremstilt ytterligere prøver submikront silisiumdioksyd, og tiksotrop indeksen for hver av disse prøver ble målt i polyester-harpiks.
Eksempel 6
Dette eksempel illustrerer virkningen av innføring av bundet vann med sanden på den fysikalsk-kjemiske struktur av det fremstilte aktiverte silisiumdioksyd.
Under anvendelse av samme driftsbetingeIser som i eksempel 1, ble det fremstilt en prøve aktivert silisiumdioksyd av tilført sand inneholdende 21, 5% kaolin (3% bundet vann). Submikrone partikler ble igjen fremstilt, og en vesentlig del av partiklene viste seg å henge sammen under dannelse av en kjedelignende struktur. Overflateegenskapene av materialet var
Romvekten var 0,065 g/cm<3>.
Fig. 2 viser et elektronmikroskopisk fotografi med en forstørrelse på 250.000 av det aktiverte silisiumdioksyd.
Under anvendelse av DC generatoren II som beskrevet i det foranstående, ble følgende arbeider utført.
Eksempel 7
Generator II ble drevet under anvendelse av damp
av kommersiell kvalitet, nitrogen som kjølegass i en mengde på 10,75 m<3>/h og 0,425 m"Vh nitrogen somjplasmagass. Den fine silisiumdioksydsand ble tilført i en mengde på 450 g/h, og det ble anvendt en strømtilførsel på 265 volt og 75 ampere. Det ble utført fire forsøk, to med fuktig kjølegass, og to med fuktig kjølegass tilsatt 0,1 vektprosent ammoniakk. Resultatene er angitt i den nedenstående tabell under henholdsvis 7 (a),
7 (b) , 7 (c) og 7 (d) .
Eksempel 8
Et DC aktivert silisiumdioksyd ble fremstilt under anvendelse av generator II og med våt nitrogen som plasma og kjølegass. Produktet ble separert som "ex filterpose" og "ex kammer". Det aktiverte submikrone silisiumdioksyd ble fremstilt i omkring 23 porsjoner med følgende generelle data:
Produktet var et hvitt, lett strømmende og lett dispergerbart pulver med en gjennomsnittlig partikkelstørrelse på omkring 20 - 30*1^ bestemt ved hjelp av elektronmikroskop.
Viskositeten ved 5,4 /sek. var 100 resp. 88 poiser for henholdsvis filterpose-materialet og kammer-materialet. Den tiksotropiske indeks var 2,1 resp. 1,85 i polyester. Begge be-stod kamviskositetsprøven.
Eksempel 9
Et DC aktivert silisiumdioksyd av typen beskrevet i eksempel 8 ble prøvet som forsterkende fyllmiddel for såvel naturgummi som syntetisk butylgummi. Det ble anvendt følgende blandinger:
I hvert tilfelle var modningstemperaturen 142 C.
Forsøksresultatene ble bestemt ifølge B.S. 903 o<g>1 gjennom-snittet av resultatene ble beregnet»
Til sammenligning ble anvendt silisiumdioksyd av høy kvalitet som i stor utstrekning brukes som tilsetning til gummi. Resultatene er gjengitt i nedenstående tabell 2.
Resultatene antyder at aktivert silisiumdioksyd "ex filterpose" har gummi forsterkende egenskaper i likhet med kommersielt materiale.
Sammenblandingen var litt vanskeligere for dette sterkt tiksotropiske aktiverte silisiumdioksyd enn for mindre tiksotropisk kommersielt materiale.
Eksempel 10
Fortykkelse av dibutyl- ftalat.
Dibutyl-ftalat kan anvendes som plastifiserings-middel og trenger ofte å gjøres tiksotropisk. For dette øye-
med anvendes i industrien en 5% w/w dispersjon av kommersiell røk-silisiumdioksyd» Aktivert submikront silisiumdioksyd fremstilt som angitt i eksempel 7 ble undersøkt for denne anvendelse.
Resultatene med en 5% w/w dispersjon av aktivert silisiumdioksyd ex-filterpose i dibutyl-ftalat er vist som en reologisk kurve på fig. 5.Dibutyl-ftalat er tatt med for sammenlignings skyld, og det samme gjelder det mest almindelig anvendte silisiumdioksyd (et røk-silisiumdioksyd). Det vil sees at det aktiverte silisiumdioksyd er bedre enn kommersielt silisiumdioksyd. Resultatene oppnådd med silisiumdioksyd ex-kammer gir omtrent samme tiksotropi som kommersielt silisiumdioksyd.
Fig. 3 og 4 er eiektronmikrofotografier av kommersielt silisiumdioksyd og aktivert silisiumdioksyd anvendt ifølge det nevnte eksempel. Begge figurer er elektronmikroskop-iske fotografier ved en forstørrelse på 1.000.000.
Fremstillingen av submikront silisiumdioksyd aktivert med hensyn til sine hydrofobe egenskaper kan létt oppnås ved å innføre den hydrogeninneholdende forbindelse, fortrinnsvis en alkohol eller alkylhalosilan med lang, rett kjede i kjølekammeret for en av de foran beskrevne plasmageneratorer.
De følgende eksempler 11 til 14 illustrerer denne anvendelse av oppfinnelsen.
Eksempel 11
Under anvendelse av RF generatoren II med kjøle-enheten og med et kraftforbruk på 24 kilowatt ble det fremstilt ytterligere mengder aktivert submikront silisiumdioksyd, men i dette tilfelle ble det til det submikrone silisiumdioksyd i kjølekammeret tilsatt polare forbindelser inneholdende en hydrofob gruppe.
Når det ble tilsatt 3 vektprosent n-butånol beregnet i forhold til silisiumdioksydmengden ved 350°C, ble det dannet aktivert submikront silisiumdioksyd som var hydrofob,
men langsomt hydrolyserte.
Eksempel 12
Eksempel 11 ble gjentatt, denne gang under anvendelse av n-dekanol istedenfor n-butanol. Det ble dannet et hydrofobt submikront silisiumdioksyd.
Eksempel 13
Eksempel 11 ble gjentatt, denne gang under anvendelse av titan tetra klorid (3 vektprosent i forhold til silisiumdioksydmengden), men tilsatt ved 250°C og etterfulgt av en tilsetning på 3 vektprosent metanol. Det ble dannet et hydrofobt og organofilt submikront silisiumdioksyd.
Eksempel 14
Eksempel 13 ble gjentatt under anvendelse av
silisium tetraklorid istedenfor titan-tetraklorid og på ny under anvendelse av metanol. Det ble dannet et hydrofobt organofilt submikront silisiumdioksyd.
Claims (10)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av submikrone silisiumdioksydpartikler hvor silisiumdioksyd fordampes i en plasmagenerator som er utført slik at det dannes en haleflamme som inneholder fordampet silisiumdioksyd, karakterisert ved at haleflammen for fremstilling av aktiverte submikrone silisiumdioksydpartikler utsettes for en kontrollert kjøling ved innføring av en kjølegass i nærvær av hydrogen eller en hydrogeninneholdende forbindelse.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, kara k-
terisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse
innføres i plasmasystemet på et sted hvor det sikres at for-
bindelsen utvikler fritt hydrogen som er til stede under dannelsen av de faste submikrone silisiumdioksydpartikler.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karak-
terisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse
innføres sammen med tilførselen av silisiumdioksydpartikler.
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karak-
terisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse
innføres sammen med kjølegassen.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karak-
terisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse
er vann.
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 2, karakterisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse er en hydrokarbon.
7. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse innføres i plasmageneratorens haleflamme ved et punkt hvor stivningen av de submikrone partikler er begynt, og hvor plasmatemperåturen ikke er høy nok til å spalte forbindelsen under dannelse av fritt hydrogen.
8.F remgangsmåte som angitt i krav 7, karakterisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse er en organisk polar forbindelse med en hydrofob gruppe.
9. Fremgangsmåte som angitt i krav 8, karakterisert ved at den organiske forbindelse er en alkohol med rett kjede.
10. Fremgangsmåte som angitt i krav 7 eller 8, karakterisert ved at den hydrogeninneholdende forbindelse er en alkylhalosilan.
Anførte publikasjoner:
Norsk patent nr. 85.536
Britisk patent nr. 1.005.473, 1.033.391
Fransk patentnr. 1.443.350
Tysk patent nr. 916.288
Tysk uti. skrift nr. 1.082.578, 1.087.581
Baddour & Timmins"The Application of Plasmas to Chemical Processing" A - <<> (1967) side 31.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB55110/66A GB1211702A (en) | 1966-12-08 | 1966-12-08 | Fine particles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO123177B true NO123177B (no) | 1971-10-11 |
Family
ID=10472987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO170826A NO123177B (no) | 1966-12-08 | 1967-12-04 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3558337A (no) |
BE (2) | BE707755A (no) |
CH (2) | CH507159A (no) |
DE (2) | DE1667766A1 (no) |
FR (2) | FR1567961A (no) |
GB (1) | GB1211702A (no) |
NL (2) | NL6716766A (no) |
NO (1) | NO123177B (no) |
SE (2) | SE316156B (no) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1255498A (en) * | 1968-08-13 | 1971-12-01 | Monsanto Chemicals | Production of finely divided silica |
US3948676A (en) * | 1970-11-24 | 1976-04-06 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for preparing hydrophobic particles |
FR2120491A5 (no) * | 1971-01-06 | 1972-08-18 | Anvar | |
CH604897A5 (no) * | 1976-05-21 | 1978-09-15 | Alusuisse | |
DE2904199A1 (de) * | 1979-02-05 | 1980-08-07 | Degussa | Verfahren zur gelenkten herstellung von kieselsaeure mittels flammenhydrolyse |
DE3616133A1 (de) * | 1985-09-25 | 1987-11-19 | Merck Patent Gmbh | Kugelfoermige sio(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-partikel |
US7695705B2 (en) * | 2005-08-26 | 2010-04-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method and apparatus for the production of ultrafine silica particles from solid silica powder and related coating compositions |
US20080075649A1 (en) * | 2006-09-22 | 2008-03-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods and apparatus for the production of ultrafine particles |
US20100314788A1 (en) * | 2006-08-18 | 2010-12-16 | Cheng-Hung Hung | Production of Ultrafine Particles in a Plasma System Having Controlled Pressure Zones |
US7758838B2 (en) * | 2006-08-18 | 2010-07-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method and apparatus for the production of ultrafine particles and related coating compositions |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE538477A (no) * | 1954-05-28 | 1900-01-01 |
-
1966
- 1966-12-08 GB GB55110/66A patent/GB1211702A/en not_active Expired
-
1967
- 1967-12-04 NO NO170826A patent/NO123177B/no unknown
- 1967-12-07 FR FR1567961D patent/FR1567961A/fr not_active Expired
- 1967-12-07 US US688777A patent/US3558337A/en not_active Expired - Lifetime
- 1967-12-07 DE DE19671667766 patent/DE1667766A1/de active Pending
- 1967-12-07 SE SE16842/67A patent/SE316156B/xx unknown
- 1967-12-07 SE SE16843/67A patent/SE318862B/xx unknown
- 1967-12-07 FR FR1568826D patent/FR1568826A/fr not_active Expired
- 1967-12-07 DE DE19671667765 patent/DE1667765A1/de active Pending
- 1967-12-07 US US688811A patent/US3524496A/en not_active Expired - Lifetime
- 1967-12-08 CH CH1722367A patent/CH507159A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-12-08 BE BE707755D patent/BE707755A/xx unknown
- 1967-12-08 NL NL6716766A patent/NL6716766A/xx unknown
- 1967-12-08 BE BE707756D patent/BE707756A/xx unknown
- 1967-12-08 NL NL6716765A patent/NL6716765A/xx unknown
- 1967-12-08 CH CH1722267A patent/CH507158A/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6716765A (no) | 1968-06-10 |
FR1568826A (no) | 1969-05-30 |
DE1667766A1 (de) | 1971-08-05 |
FR1567961A (no) | 1969-05-23 |
NL6716766A (no) | 1968-06-10 |
CH507158A (de) | 1971-05-15 |
GB1211702A (en) | 1970-11-11 |
BE707756A (no) | 1968-06-10 |
BE707755A (no) | 1968-06-10 |
US3558337A (en) | 1971-01-26 |
SE316156B (no) | 1969-10-20 |
DE1667765A1 (de) | 1971-07-15 |
SE318862B (no) | 1969-12-22 |
CH507159A (de) | 1971-05-15 |
US3524496A (en) | 1970-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100438228B1 (ko) | 도핑되고 열분해법으로 제조된 산화물 | |
NO170826B (no) | Flyradaranordning | |
US2915365A (en) | Method of preparing activated alumina from commercial alpha alumina trihydrate | |
NO123177B (no) | ||
EP3567130B1 (en) | Reactor for fabrication of graphene | |
KR950013987A (ko) | α-알루미나 분말의 제조방법 | |
WO1995003907A1 (en) | Method and apparatus for making nanostructured materials | |
Liu et al. | Large-scale synthesis of monodisperse SiC nanoparticles with adjustable size, stoichiometric ratio and properties by fluidized bed chemical vapor deposition | |
JP2000109306A (ja) | 窒化ホウ素ナノチューブの製造方法 | |
US3138435A (en) | Deposition apparatus and method for forming a pyrolytic graphite article | |
BRPI0611607A2 (pt) | processo para preparação de compostos de lantanìdeo/boro nanoparticulados | |
Hernandez-Tabares et al. | Stabilization methods in the submerged arc discharge synthesis of carbon nanostructures | |
Snirer et al. | Structure of microwave plasma-torch discharge during graphene synthesis from ethanol | |
US4724134A (en) | Production of tailor-made particle size distributions of substantially spherical metal hydroxide/oxide particles comprising single or multiple hydroxides by hydrolysis of one or more metal alkoxide aerosols | |
CN206509522U (zh) | 一种纳米铍粉的制备装置 | |
RU2556763C2 (ru) | Способ синтеза ультрадисперсных алмазов | |
JPS62158195A (ja) | ダイヤモンドの合成法 | |
Boguslavskii et al. | Electrodischarge method for synthesizing nanocarbon from gaseous raw hydrocarbons | |
RU2647075C1 (ru) | Способ получения нанопорошка оксинитрида алюминия | |
JPH01203297A (ja) | 燃焼炎によるダイヤモンドの合成法 | |
RU2707596C2 (ru) | Способ получения нанопорошка карбида титана | |
RU2555994C1 (ru) | Способ получения полых керамических микросфер с расчетными параметрами | |
JPS6019034A (ja) | 複合プラズマを使用する化学反応方法及びその装置 | |
Lange | Spectral diagnostics of helium-carbon arc plasma during carbon nanostructure formation | |
Kim et al. | Preparation of indium oxide powders by microwave plasma dehydration of indium hydroxide powders |