NO115071B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
NO115071B
NO115071B NO156951A NO15695165A NO115071B NO 115071 B NO115071 B NO 115071B NO 156951 A NO156951 A NO 156951A NO 15695165 A NO15695165 A NO 15695165A NO 115071 B NO115071 B NO 115071B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
coating
grams
acid
sensitive
aluminum
Prior art date
Application number
NO156951A
Other languages
English (en)
Inventor
J Houle
G Van Norman
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US347931A external-priority patent/US3342601A/en
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Priority to NO16987267A priority Critical patent/NO124113B/no
Publication of NO115071B publication Critical patent/NO115071B/no

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G12/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen
    • C08G12/02—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen of aldehydes
    • C08G12/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with only compounds containing hydrogen attached to nitrogen of aldehydes with acyclic or carbocyclic compounds
    • C08G12/06—Amines
    • C08G12/08—Amines aromatic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/038—Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/3819—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G63/685—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen
    • C08G63/6854—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/085—Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Beleggblanding for litografisk trykkplate og fremgangsmåte til fremstilling av denne.
Foreliggende oppfinnelse angår titanholdige
beleggblandinger samt deres anvendelse ved
fremstilling av litografiske trykkplater med spe-sielt offset trykkplater.
Litografiske plater er vel kjent på det gra-fiske område, og mange av disse har metall-bærere slik som aluminium eller sink. I de siste
år har aluminium særlig vært anvendt på grunn
av dets omkostninger, tilgjengelighet og lette
vekt. Når imidlertid aluminium anvendes som
underlag for trykkplater må først visse ulemper
overvinnes. F. eks. er det blitt funnet at den
naturlig forekommende oksydfilm på aluminium
ikke er tilstrekkelig hydrofil til å skaffe en
feilfri drift i en litografisk trykkpresse. Aluminium har tilbøyelighet til å bli svakt hydrofobt
eller oleofilt hvilket resulterer i en gradvis opp-bygning av sverte på de ikke trykkende områder. Dette fenomen kalles i dette fag «toning»
eller «skumming». For å eliminere toning eller
skumming må der skaffes en egnet permanent hydrofil overflate som er forholdsvis uoppløselig. Aluminium er også kjent for å reagere med visse følsomme materialer slik som diazo-harpikser belagt på dette.
Det er tidligere blitt foreslått flere frem-gangsmåter for å gi en uoppløselig permanent hydrofil overflate på aluminium. Disse behandlinger omfatter «anodisering», belegging av overflaten med en hydrofil organisk polymer og et antall andre stoffer. F. eks. er det i fransk patent nr. 904 255 beskrevet en fremgangsmåte som består av en kjemisk eller elektrisk behandling som skaffer et porøst lag av en aluminiumfor-bindelse av oksygen, fluor eller fosfor. Dertil beskriver Clerc i «Ilford Manual of Process Work» 1946, side 237 behandling av en aluminiumplate med en oppløsning som inneholder fluorkiselsyre eller et fluorsilikat.
Disse behandlinger har imidlertid ikke vært tilfredsstillende ved fremstilling av et egnet hy-drofilbelegg på aluminium for å skaffe den nød-vendige sverte-vannforskj ell for en heldig drift i en litografisk presse. De ovennevnte behandlinger beskytter dessuten ikke tilstrekkelig diazo-beleggene fra aluminiumet således at platene ik-ke kan følsomgjøres på forhånd og lagres over lengere tidsperioder.
En fremgangsmåte til å skaffe en aluminiumplate som har et uoppløselig hydrofilt lag som også isolerer et diazo-lysfølsomt belegg fra alu-miniumunderlaget er å avsette et belegg på aluminiumet av et silikat inneholdende Si02 ra-dikalet.
En på forhånd følsomgjort aluminium litografisk plate som har et silikatlag har imidlertid begrenset trykklevetid og har også til-bøyelighet til en synkende reduksjon i følsom-het under lagring, særlig etter at platen har vært utsatt for atmosfæren særlig under be-tingelser med høy fuktighet eller varme eller en kombinasjon av disse. Det har derfor vært ønskelig å skaffe en plate som har større trykk - toleranse i pressen, lengere presslevetid og lengere lagringstid enn tidligere kjente plater.
Belegging av en aluminiumoverflate med silisiumoksyd eller lignende silikatunderlag krever en glatt aluminiumoverflate. Det er imidlertid vanligvis blitt funnet ved litografisk trykking at en kornet eller børstet overflate skaffer et bredere område for driftsbetingelser i pressen, særlig da en kornet plate krever mindre kritisk sverte-vannbalanse enn silikatbelagt glatt plate. Dessuten senker den mindre kritiske sverte-vannbalanse svertens tendens til å emulgere under .flerfarvetrykk, hvilket normalt resulterer i tap av bildeskarphet. Det har derfor også vært ønskelig å skaffe en følsomgjort aluminiums-plate som har kornet eller børstet overflate.
For å skaffe en uoppløselig hydrofil overflate eller overflatebelegg er det ønskelig å eliminere behovet for å anvende for høyere tem-peraturer og etterfølgende vasking under frem-gangsmåten. Disse trinn er vesentlige i mange av de kjente prosesser. Det er også ønskelig at behandlingsvæskene skal ha vandig medium hvilket eliminerer giftige eller ildsfarlige opp-løsningsmiddeldamper.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det tilveiebragt en beleggblanding som ved påføring på metall eller plast eller annet materiale gir et uoppløselig, hydrofilt overflatebelegg for litografisk trykking, kjennetegnet ved at belegget består av en vandig blanding av et alkyl-titånat, og minst en oppløseliggj ørende forbindelse i surt medium.
Den oppløseliggj ørende forbindelse omfatter minst en av de følgende forbindelser: fluorkiselsyre, hydrofluoryre, fluorborsyre, hydrogenperoksyd, og en blanding av hydrogenperoksyd og fosforsyre. Det benyttede alkyltitanat er fortrinnsvis et tetra-alkyl-titanat.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det videre tilveiebragt en fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykkplate som er forsynt med et strålingsfølsomt eller varmefølsomt belegg, kjennetegnet ved at trykkplaten før den på-føres det strålingsfølsomme belegg, påføres en vandig beleggblanding av den ovenfor angitte sammensetning.
Den belagte plate kan deretter belegges med en lysføsom blanding slik at det dannes en for-følsomgjort litografisk plate.
Det er funnet at et uoppløselig hydrofilt overflatebelegg kan meddeles underlaget f. eks. en aluminiumplate ved behandling med den vandige oppløsning av det komplekse titansalt som er i stand til å reagere ved eller på overflaten av bæreren slik at det dannes et uoppløselig lag.
Beleggblandingen ifølge foreliggende oppfinnelse når den anvendes for å behandle en overflate som f. eks. av metall, papir eller en polymer, gjør overflaten hydrofil og egnet for bruk ved litografisk trykking. Beleggblandingen kleber seg til en hvilken som helst av forskjellige bærere omfattende metaller slik som aluminium, sink, kobber og lignende og polymere bærere slik som av polyestere, polyamider, poly-styrener og cellulose-estere slik at det skal skaffes et hydrofilt belegg som er i det vesentlige fri for vannoppløselige stoffer og til hvilket det kan klebes lysfølsomme belegg, trykksverte, ma-ling etc.
En egnet kilde for titan er en titanortoester slik som tetraalkyl-titanat. Skjønt det kan anvendes andre alkyltitanater er de foretrukne tetraalkyl-titanater slike som har alkylgrupper med 2 til 5 karbonatomer likesom tetraetyl-titanat, tetrapropyl-titanat, tetraisopropyl-titanat, etrabutyl-titanat, tetraisobutyl-titanat og tetraamyltitanat.
Den sure bestanddel som er nyttig for reaksjon med titanatet gir et vannoppløselig titankompleks i surt medium. Brukbare sure be-standdeler omfatter f. eks. fluorkiselsyre, hydro-fluorsyre, fosforsyre, fluorborsyre og salpeter-syre.
Beleggblandingen tilberedes fortrinnsvis ved å sette alkyl-titanatet til den fortynnede vann-dige syre hvoretter alkyl-titanatet umiddelbart reagerer slik at det dannes vandig titandioksyd som deretter oppløses og/eller reagerer idet det dannes et såkalt «basisk titansalt».
Når fluorkiselsyre anvendes for å danne titanyl-silicofluorid er et brukbart molforhold mellom fluorkiselsyre og tetraalkyl-titanat fra 5 til 1 til 1 til 1 mol, skjønt det foretrukne mol-område er fra to til 1 til 1 til 1 mol. pH-verdien for beleggblandingene kan variere fra 1.0 til 5.0.
Et brukbart molforhold mellom fluorborsyre
og tetraalkyl-titanat er fra 7 til 1 til 2 til 1 mol.
Når fosforsyre anvendes som den sure bestanddel inneholder beleggblandingen titanyl-peroksydfosfat. Alkyltitanatet settes til en fortynnet hydrogen-peroksydoppløsning. Når opp-løsningen er fullstendig kan fosforsyren tilsettes. I en foretrukket blanding anvendes 6.8 til 10.7 mol hydrogenperoksyd per mol alkyltitanat og 2.3 til 7 mol fosforsyre pr. mol alkyltitanat. Det vil innses at det volumetriske forhold kan varieres og at den mengde vann som anvendes ikke er kritisk forutsatt at den er tilstrekkelig til å skaffe oppløselighet.
En annen nyttig beleggblanding fåes ved å oppløse alkyltitanatet i hydrogenperoksyd slik at det dannes pertitansyre.
Det kan anvendes forskjellige fremgangs-måter ved påføring av beleggblandingen på bæreren omfattende direkte påvalsing, neddypning, påstrykning, knivpåstrykning, vekepåstryk-ning, påsprøytning eller en hvilken som helst hensiktsmessig fremgangsmåte. Belegget kan være på en eller begge sider av bæreren etter ønske.
Titankomplekslagets tykkelse når det er belagt på aluminium er vanskelig å bestemme på grunn av den ekstremt lille tykkelse. Tykkelsen er sannsynligvis i området for tykkelsen av det naturlig forekommende oksyd.
Tørking går temmelig fort men ved pro-duksjon kan anvendes tørkeanordninger om dette er ønskelig slik som varmluft eller infra-røde lamper.
Det lys-følsomme belegg kan være et egnet stabilisert vannoppløselig harpiks inneholdende diazoniumgruppen som ved eksponering like overfor ultrafiolett lys danner en oleofil overflate eller bilde.
Det lys-følsomme belegg kan være av den generell formel
hvori M er et to- eller tre-verdig metall som er kjent for å stabilisere diazoniumgruppen, f. eks. kadmium, sink, vismut, arsen, antimon, tinn, jern, platina eller kvikksølv.
t| er 2 eller 3, X er et anion eller en blanding av anioner og kan være halogenid eller sulfat.
Z kan være en fenyl eller substituert fenyl-gruppe hvor i dette tilfelle er harpiksen et aldehyd kondensasjonsprodukt av et paradiazo-difenylaminsalt og i dette tilfelle er Y hydrogen. Z og Y kan også hver være et organisk radikal som funksjonelt er i stand til å gåinniaddisjons-polymerisasjon, polyforestring, kondensasjon eller annen reaksjon som kan gi en harpiks med forholdsvis lav molekylarvekt eller i stand til å reagere med en forformet polymer. Z og Y kan i dette tilfelle være de samme eller forskjellige idet utgangs-diazoforbindelsen er en substituert paradiazoanilin.
Noen eksempler på reaktive grupper er hydroksyl som i N-etyl, -N-((3-hydroksyetyl)-anilino, 4-diazosalter i stand til å reagere med polymeriserbare grupper slik som akryloyl og metakryloyl.
Anbringelsen av forskjellige grupper ved anilinnitrogenet kan resultere i fremstilling av polyestre, polyetre, polyuretaner, polyasetaler, polykarbonater osv., ved direkte polymerisasjon eller kondensasjon med funksjonelt riktige på forhånd dannede polymerer.
Ved en utførelse av foreliggende oppfinnelse består det lys-følsomme belegg av et aldehyd kondensasjonsprodukt av en paradiazo-difenyl-amin. Lys-følsomme aldehyd kondensasjonsprodukter av paradiazo-difenyl-amin stabilisert med metallsalter er vel kjent på dette område. Slike harpikser er også tilgjengelige kommersielt f. eks. «Diazo Resin No. 4». Dette stoff er beskrevet som et diazonium-sulfat-sink-klorid-dobbeltsalt. Som angitt ovenfor ville denne harpiks reagere med aluminium i fravær av behandling av aluminium ved hjelp av beleggblandingen ifølge foreliggende oppfinnelse.
Den på forhånd følsomgjorte kornede alu-miniumtrykkplate fremstillet ifølge foreliggende oppfinnelse kan håndteres og behandles på van-lig måte. Etter eksponering fjernes de ueksponerte områder og platen lakkeres hvoretter platen kan anvendes i en litografisk trykkpresse.
Det følsomme lag for den litografiske plate kan eksponeres like overfor synlig lys, ultrafiolett lys, infrarødt lys, røntgenstråler eller var-memønstre for å danne forskjellige områder for trykning. Det er mulig å anvende lys-følsomme organiske forbindelser likesom alifatiske og aro-matiske estere, hydrazider og amider av nafto-kinondiazid-sulfater, cinnamalmalonsyre, deres substitusjonsprodukter og funksjonelle derivater, diazoniumsalter av amino-dlfenylaminer og deres kondensasjonsprodukter med formaldehyd, orto- og paraquinone-diazider av bensaler, an-trasener og heterosykliske systemer, f. eks. quino-line, indazoler, bensimidazoler, difenyloksyder, også diazokatoner, umettede ketoner, orto- og para-iminoquinone-diazider, derivater av alkyl-nitronaftalinsulfonater, nitroaldehyder, asenaf-ten, stilben, asider og diazider og høymolekylare polymere diazo-harpikser. Det kan også anvendes fotografiske sølvhalogenid emulsjoner. Videre kan den belagte plate belegges over med et fotoledende lag som har høy elektrisk mot-standsevne og som lades og deretter utlades ved hjelp av lys eller varme slik som ved elektrofo-tografi f. eks. organiske fotoledere med lav eller høy molekylarvekt og også blandinger av disse med harpikser. Særlig egnet som fotoledere er oxadiazoler, imidazoloner, triazol, oxazol, tria-zoler, hydrazoner, triaziner, polyvinyl-karbazol og polyvinyl-oxazoler.
Nyttige harpikser inneholder alkali oppløse-liggj ørende grupper slik som syreanhydrid, kar-bonsyre, sulfonsyre, sulfonamid eller sulfonimid-grupper, f. eks. polyvinylpolymerer eller bland-ede vinyl-polymerer, phtalsyre-ester-harpikser, alkyl-harpikser, harpikser og polyakrylsyre-harpikser.
De litografiske plater ifølge foreliggende oppfinnelse karakteriseres videre ved at de har god adhesjon og gir god fjernelse av ueksponerte områder således at de kan gi et stort antall kopier.
Følgende eksempler illustrerer foreliggende oppfinnelse.
Eksempel 1:
Titanyl-silikofluorid.
Et ark av børstet aluminium med en tykkelse på 0,125 mm neddyppes i en oppløsning av titankompleks fremstillet ved kraftig omrø-ring av en oppløsning av 750 milliliter destillert vann i 50 milliliter 31,9 pst. fluorkiselsyre mens det hurtig tilsettes en fin strøm av 10 milliliter tetraisopropyltitanat. Aluminiumet sendes deretter mellom to mekanisk drevne gummivalser med en diameter på 19 mm under tilstrekkelig trykk til å fjerne overskuddsoppløsning. Det fåes således en meget tynn film av oppløsning hvilken tørker hurtig ved romtemperatur. Lignende belegg kan fåes på andre underlag omfattende polymere materialer, papir og metall.
Eksempel 2.
Titanyl-peroxy-fosfat.
740 milliliter vann tilsettes 10 milliliter (18,3 gram) 85 pst. fosforsyre (0,1588 mol) og 30 milliliter (33 gram) 28 pst. hydrogenperoksyd (0,262 mol). Under god omrøring tilsettes deretter 10 milliliter (9,55 gram) tetraisopropyl-titanat (0,0336 mol). Resultatet er en oransjegul oppløs-ning som er ferdig for belegging. Denne oppløs-ning belegges som i eksempel 1 og gir et tynt belegg på overflaten av et underlag slik som kornet aluminium.
Eksempel 3.
Titanyl-fluorborat.
750 milliliter vann tilsettes 14,7 gram (0,0672 mol) av en 40 pst.-ig fluorborsyre med tilstrekkelig omrøring for blanding. Denne oppløsning er tilsatt under god omrøring 10,0 milliliter (9,55 gram, 0,0336 mol) tetraisopropyltitanat. Orto-esteren hydrolyseres umiddelbart og danner et hvitt bunnfall som gradvis oppløses igjen og danner en klar oppløsning. Denne oppløsning belegges deretter på et kornet aluminiumark, tørkes og kan følsomgjøres med en fortynnet vandig oppløsning av diazoharpiks fremstillet som beskrevet i eksempel 5. Etter eksponering og behandling som eksempel 6 gir titanyl-fluorborat-oppløsningen en egnet hydrofil trykkflate. Lignende belegg kan fremstilles på andre underlag som beskrevet i eksempel 1.
Eksempel 4.
Pertitansyre.
Tetraisopropyl-titanat settes til en fortynnet vandig oppløsning av hydrogen-peroksyd på samme måte som foregående eksempel. Det hvite hydrolyse-produkt blir fort gult og oppløses gradvis og gir en klar gul oppløsning. En særlig nyttig blanding for anvendelse som i eksempel 1 inneholder 0,045 mol pr. liter titan og 0,307 mol pr. liter hydrogen-peroksyd. Den hydrofile ka-rakter for den erholdte overflate forsterkes ved tørking ved forhøyet temperatur. Lignende belegg fremstilles på andre underlag som nevnt i eksempel 1.
Eksempel 5.
Diazo-harpiks.
En diazo-harpiks fremstilles ved å blande 34 gram paradiazo-difenyl-amin-sulfat-sink- ; klorid dobbeltsalt med 135 gram konsentrert svovelsyre som er avkjølt til en temperatur på —10° C. Blandingen omrøres mens temperaturen hol-des lavere enn 3°C mens det tilsettes 3,25 gram 1 paraformaldehyd og 6,05 gram vannfri kadmiumklorid. Viskositeten øker over en periode på omtrent en halv time og blandingen blir homo-gen. Blandingen blir deretter helt over 150 gram is og omrøres inntil isen smelter og det gule bunnfall filtreres og oppløses påny i vann og ut-felles påny i to liter isopropyl-alkohol, og filtreres og tørkes under vakuum i mørke. Det fåes 28 gram stabilisert diazo-harpiks.
Eksempel 6.
En behandlet, kornet aluminiumbærer fremstillet som beskrevet i eksempel 1 eller 2 gjøres følsom ved neddypning i en 2 pst. vandig opp-løsning av diazoharpiksen ifølge eksempel 5, idet det sendes mellom to gummivalser for å fjerne overskuddet og tørkes. Eksponert ved omtrent 60 cm gjennom et negativ med en høy intensi-tet 220 volts karbonlysbue i en «NuArc Printer» herdes de eksponerte deler.
Ueksponerte deler av diazo-harpiksen fjernes ved vasking med vann. Bildet blir deretter lakkert med kommersielt tilgjengelig billedlakk.
Platen blir deretter anbragt i en litografisk trykkpresse og vil gi 90 000 tilfredsstillende kopier. Forfølsomgjorte plater fremstillet ifølge dette eksempel er funnet å ha en lagringstid på mere enn to år.
Eksempel 7.
Diazo-harpiks følsomgjører.
Et 800 milliliters beger forsynt med en mekanisk drevet propeller og en utvendig kjøling tilsettes 540 gram (5,35 mol) 96 pst.-ig svovelsyre etterfulgt av porsjonsvis tilsetning av 138 gram (0,377 mol) «Senaitizer DP» (paradiazo-difenyl-amin sulfat-sink-klorid dobbeltsalt) under omrøring ved 25 til 35°C inntil oppløsningen er fullstendig. Blandingen blir deretter avkjølt og holdt ved 0°C under gradvis tilsetning av 100 milliliter (0,592 mol) 40 pst.-ig fluorborsyre etterfulgt av tilsetning av 13,0 gram (0,432 mol) paraformaldehyd under kraftig omrøring for å skaffe hurtig og ensartet dispersjon av paraformaldehyd. Det tilsettes deretter 100 millili-liter (0,592 40 pst.-ig fluorborsyre. Den dannede blanding har nu en dyp rød farve mens opp-løsningen før den opprinnelige tilsetning av fluorborsyren var brunaktig. Reaksjonsblandin-gen omrøres, beholdes ved 0°C i et tidsrom av 1 time, 10 minutter hvoretter den helles under god omrøring i 800 gram is inneholdende 220 milliliter (1,24 mol) 4 pst. fluorborsyre. Det dannede bunnfall filtreres så og oppsamles. Den fuktige kake blir deretter oppløst i 700 milliliter iimetylformamid og filtrert pånytt. Det klare filtrat blir deretter omrørt under tilsetning av 220 gram (,695 mol) kadmiumklorid (CdCL,. 2-l/2H,0) oppløst i 250 milliliter vann. Det såle-ies dannede bunnfall filtreres og oppsamles. Den fuktige kake blir deretter tilsatt 2 liter isopro-jylalkohol og omrørt kraftig for å gi en liten msartet partikkelstørrelse som frafiltreres og )ppsamles og oppslemmes på ny på samme måte ;om ovenfor i en liter dietyleter. Oppslemningen jlir deretter filtrert og oppsamlet og tørket un-

Claims (4)

  1. der vakuum ved romtemperatur idet det sørges for at den fuktige kake brytes opp for å skaffe en ensartet tørking. Utbyttet av tørr harpiks er 100 gram i form av et lyst orangegult pulver.
    Eksempel 8.
    Diazo-harpiks følsomgjører II
    I et 1500 milliliters glassbeger blir det anbragt 1040 gram 96 pst.-ig svovelsyre. Begeret blir hengt opp og utstyrt med'en rører med va-riabel hastighet. Den omrørte syre blir avkjølt til under 0°C ved hjelp av et tørrisazetonbad. 272 gram «Fairmount DP salt» og 26 gram paraformaldehyd blir blandet sammen grundig 1 tørr tilstand og deretter porsjonsvis satt til syren idet temperaturen blir holdt under 5°C. Tilsetningen tok 10 minutter. Omrøringen ble fortsatt i 75 minutter idet temperaturen ble holdt under 0°C.
    Syreoppløsningen ble helt over en blanding av 2200 gram knust is og en oppløsning av 453 gram kadmiumklorid i 600 milliliter vann under god omrøring. En 3 liters porsjon isopropyl-alkohol ble tilsatt og den dannede oppslemning filtrert. Bunnfallet ble oppslemt til 4 liter vann og 3 mol (624 gram) bariumklorid tilsettes. Det dannede bunnfall ble frafiltrert og deretter ek-strahert to ganger med 3 liters porsjoner fra 0,75 mol HF oppløsning og en tredje gang med 2 liter destillert vann. Filtratene ble slått sammen og tilsatt en oppløsning av 453 gram kadmium-klorid i 400 milliliter. Deretter tilsettes 8 liter isopropylalkohol og oppslemningen ble filtrert. Produktet ble tørket under vakuum ved romtemperatur. Utbyttet var 286 gram.
    Eksempel 9.
    Når beleggene av diazofølsomgj ørere ifølge eksemplene 7 og 8 anbringes på ubehandlet kornet aluminiumplate er de blitt funnet å ha en lagringstid på mer enn 2 år, hvilket antyder stabilitet for harpikslaget uten underbelegg. Når utstabilisert sink-klorid dobbeltsalt av paradi-azodifenylaminsulfat anbringes over den behandlede aluminiumplate fåes en lagringstid på omtrent 3 måneder.
    Det kan anvendes forskjellige aluminium - legeringer samt metallaminater istedenfor aluminium som det er referert til i eksemplene.
    Oppløsningen som ble anvendt for å fjerne uherdede områder av diazo-harpiks er ikke kritisk. Det kan anvendes vann men det kan også anvendes vandige gummioppløsninger som er kjent på dette område. Det vil forståes at det kan anvendes annen kommersielt tilgjengelig lakk.
    Diazo-harpiksene som kan anvendes ifølge foreliggende oppfinnelse tilberedes, stabiliseres og anvendes i mørke eller under gult lys. Når disse harpikser derfor belegges på den behand
    lede plate utføres beleggingen under tilstrekke-lige sikkerhetslysbetingelser.
    Det behandlede kornede aluminium ifølge eksemplene 1 og 2 kan følsomgjøres ved belegning med andre lysfølsomme polymerer idet det anvendes et dreiebord for belegning. «Kodak» Photo Resist» gir et rent bilde og når det svertes fåes 50 trykk-kopier i en litografisk presse. «Kodak Metal Etch Resist» gir når det er fremkalt ved karfremstilling etterfulgt av vannvasking og komprimert luft og tørket et rent bilde. Bildet er motstandsdyktig mot lengre tids gnidning. Lysfølsomme blandinger av den type som er beskrevet i britisk patent nr. 843 542 kan svamp-fremkalles med 0,5 pst. vandig natriumkarbonat og gir vedhengende svertemottagende bilder. «Azoplate Positop» fremkalt med «Positop» fremkaller gir vedhengende robuste bilder som viser god presselevetid. Lysfølsomme polykarbonat-harpikser av den type som er beskrevet i det amerikanske patent nr. 3 043 802 kan fremkalles og gir rene svertemottagende bilder. En negativt arbeidende lysfølsom sølvhalogenid emulsjon som kan vaskes av kan overføres til den behandlede overflate fra en avrivbar bærer. Etter aktivering vaskes den ugarvede gelatin fra.
    Et lysfølsomt materiale omfattende et før-ste gelatinlag inneholdende en oksyderende fremkaller og et annet lag inneholdende lysføl-somt sølvhalogenid belegges på behandlet bærer. Det fåes en tilfredsstillende litografisk plate etter aktivering og svertning av overflaten. 1. Beleggblanding som ved påføring på metall eller plast eller annet materiale gir et uopp-løsélig, hydrofilt overflatebelegg for litografisk trykking,karakterisert vedat belegget består av en vandig blanding av et alkyl-titanat, og minst en oppløseliggj ørende forbindelse i surt medium.
  2. 2. Vandig sammensetning ifølge krav 1,karakterisert vedat den som oppløselig-gj ørende forbindelse omfatter minst en av de følgende forbindelser: fluorkiselsyre, hydroflu-orsyre, fluorborsyre, hydrogenperoksyd, og en blanding av hydrogenperoksyd og fosforsyre.
  3. 3. Vandig sammensetning ifølge krav 1 eller 2,karakterisert vedat alkyl-titanatet er et tetra-alkyl-titanat.
  4. 4. Fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykkplate som er forsynt med et strå-lingsfølsomt eller varmefølsomt belegg, k a - rakterisertvedat trykkplaten før den på-føres det strålingsfølsomme belegg, påføres en vandig beleggblanding av den i krav 1 angitte sammensetning.
NO156951A 1964-02-27 1965-02-26 NO115071B (no)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NO16987267A NO124113B (no) 1964-02-27 1967-09-26

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US347931A US3342601A (en) 1964-02-27 1964-02-27 Lithographic printing plate
US648036A US3417055A (en) 1964-02-27 1967-06-22 Process for preparation and separation of light sensitive stabilized diazo resins
US658559A US3419406A (en) 1964-02-27 1967-08-04 Coating compositions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO115071B true NO115071B (no) 1968-07-15

Family

ID=27407805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO156951A NO115071B (no) 1964-02-27 1965-02-26

Country Status (9)

Country Link
US (2) US3417055A (no)
BE (1) BE660255A (no)
CH (1) CH435335A (no)
DE (1) DE1299661B (no)
DK (1) DK124245B (no)
GB (2) GB1108560A (no)
NL (1) NL6502350A (no)
NO (1) NO115071B (no)
SE (2) SE315909B (no)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4977830A (en) * 1989-04-27 1990-12-18 Rockwell International Corporation Hydrophobic and oleophilic microporous inking rollers
EP0410606B1 (en) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
GB9003079D0 (en) * 1990-02-12 1990-04-11 Alcan Int Ltd Lithographic plates
GB2350841B (en) * 1999-06-08 2001-12-19 Kansai Paint Co Ltd Inorganic film-forming coating composition, preparation method therof and inorganic film-forming method
JP4469927B2 (ja) 2000-05-23 2010-06-02 Ｄｉｃ株式会社 感光性組成物およびこれを用いた平版印刷版原版、画像形成方法
EP1310579B1 (en) * 2000-07-25 2007-12-19 Kansai Paint Co., Ltd. Coating material for forming titanium oxide film, method for forming titanium oxide film and use of said coating material
JP2002341536A (ja) 2001-05-21 2002-11-27 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
KR100573436B1 (ko) * 2001-10-30 2006-04-26 간사이 페인트 가부시키가이샤 산화 티탄막 형성용 도포제, 산화 티탄막 형성방법 및산화 티탄막으로 피복된 금속 기재
JP4250490B2 (ja) 2003-09-19 2009-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版用アルミニウム合金素板および平版印刷版用支持体
JP4410714B2 (ja) 2004-08-13 2010-02-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
ATE395195T1 (de) 2005-04-13 2008-05-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung eines flachdruckplattenträgers
JP2009208140A (ja) 2008-03-06 2009-09-17 Fujifilm Corp 平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、ならびに該製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版用支持体
EP2110261B1 (en) 2008-04-18 2018-03-28 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
EP2481603A4 (en) 2009-09-24 2015-11-18 Fujifilm Corp LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2679498A (en) * 1954-05-25 Atent office
US2118916A (en) * 1933-10-14 1938-05-31 Ig Farbenindustrie Ag Titanium-containing pigments
BE540601A (no) * 1950-12-06
US3028297A (en) * 1956-06-15 1962-04-03 Linden Lab Inc Orthotitanic compound used in method for improving wet strength of paper and resulting paper
US3002854A (en) * 1957-04-12 1961-10-03 Du Pont Treatment with titanium organic compositions
US3159613A (en) * 1960-12-27 1964-12-01 Hercules Powder Co Ltd Preparation of crystalline poly
NL273555A (no) * 1961-01-25
BE621176A (no) * 1961-08-07
NL136528C (no) * 1962-04-03

Also Published As

Publication number Publication date
CH435335A (fr) 1967-05-15
GB1108560A (en) 1968-04-03
DK124245B (da) 1972-10-02
SE320385B (no) 1970-02-09
DE1299661B (de) 1969-07-24
GB1108559A (en) 1968-04-03
US3417055A (en) 1968-12-17
SE315909B (no) 1969-10-13
NL6502350A (no) 1965-08-30
US3419406A (en) 1968-12-31
BE660255A (no) 1965-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO115071B (no)
US3385703A (en) Recording process
US3220832A (en) Presensitised planographic printing plates and methods of preparing and using such
EP0009031B1 (en) Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate
EP0038967B1 (en) Process for producing a patterned resist image
JPS6313528B2 (no)
JPS5974550A (ja) 感光性組成物
US3235382A (en) Presensitized foil for planographic and offset printing
US3600166A (en) Lithographic plate and process of making
US3495979A (en) Copying material for use in the photochemical preparation of printing plates
US3595656A (en) Reprographic materials containing a water-insoluble azidochalcone
US3110596A (en) Process for simultaneously developing and fixing printing plates
US3287128A (en) Lithographic plates and coatings
JPH0414783B2 (no)
US4729941A (en) Photoresist processing solution with quaternary ammonium hydroxide
US3493371A (en) Radiation-sensitive recording material
US4314022A (en) Photoresist developers and process
US3494767A (en) Copying material for use in the photochemical preparation of printing plates
US3342601A (en) Lithographic printing plate
US3933499A (en) Printing plate comprising diazo-borofluoride and diazo resin layers
US3899332A (en) Printing plate and method of making the same
IL33511A (en) Light-sensitive material for the preparation of a multi-metal offset printing plate,and process for the preparation therefor
EP0024872B2 (en) A method of treating exposed and developed radiation sensitive plates in lithographic printing plate production, compositions for use in the method, and the use of diazo eliminating compounds in improving the ink receptivity of lithographic printing images
US4871644A (en) Photoresist compositions with a bis-benzotriazole
JPS5975255A (ja) ポジ型感光性平版印刷版の現像液