NL9400920A - Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. - Google Patents
Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9400920A NL9400920A NL9400920A NL9400920A NL9400920A NL 9400920 A NL9400920 A NL 9400920A NL 9400920 A NL9400920 A NL 9400920A NL 9400920 A NL9400920 A NL 9400920A NL 9400920 A NL9400920 A NL 9400920A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- positive
- lithographic printing
- printing plates
- acting
- developer composition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Description
Ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten en werkwijze voor het ontwikkelen van positiefwerkende lithografische drukplatenDeveloper composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten op basis van een waterige alkalische silicaat-oplossing, alsmede op een werkwijze voor het ontwikkelen van positiefwerkende lithografische drukplaten.The present invention relates to a developer composition for positive-acting lithographic printing plates based on an aqueous alkaline silicate solution, as well as a method for developing positive-acting lithographic printing plates.
Dergelijke ontwikkelaarsamenstellingen worden gebruikt voor het ontwikkelen van positiefwerkende gepresensibi-liseerde lithografische drukplaten (zogenaamde offsetplaten). Daarbij wordt gebruikt gemaakt van diazoverbindingen, die in onbelichte toestand onoplosbaar zijn in de ontwikkelaar, echter bij belichting met actinisch licht omgezet worden in verbindingen die wèl oplosbaar zijn in de genoemde ontwikkelaar.Such developer compositions are used to develop positively acting presensitized lithographic printing plates (so-called offset plates). Use is made here of diazo compounds which are insoluble in the developer in the unexposed state, but are converted into compounds that are soluble in the said developer when exposed to actinic light.
Bij de vervaardiging van gepresensibiliseerde offsetplaten worden voor de lichtgevoelige laag over het algemeen diazoverbindingen, in het bijzonder de 1,2-naftochinondiazide-verbindingen voor positiefwerkende en de aromatische diazo-niumzouten voor negatiefwerkende platen toegepast.Generally, diazo compounds, in particular the 1,2-naphthoquinone diazide compounds for positive-acting and the aromatic diazonium salts for negative-acting plates, are generally used for the photosensitive layer in the manufacture of pre-sensitized offset plates.
Uitgangspunt voor beide plaattypes is een aluminium-onderlaag, welke tegelijkertijd als dragermateriaal fungeert. Het aluminiumbasismateriaal ondergaat, voordat de lichtgevoelige laag wordt aangebracht, eerst een voorbehandeling bestaande uit a) een reiniging van het oppervlak door alkalische ontvetting, b) een mechanische opruwing met borstels en/of een elektrochemische opruwing in een verdund zuur (bijvoorbeeld zoutzuur) met behulp van wisselstroom, c) een anodisering, waarbij het zachte, kras- en corrosiegevoelige aluminiuroopper-vlak elektrochemisch met gelijkstroom wordt voorzien van een hard huidje aluminiumoxide in een zwavelzuur- of fosforzuurbad en tenslotte d) een speciale nabehandeling, die bijvoorbeeld kan bestaan uit een behandeling met een alkalisilicaat^, een polyvinylfosfonzuur- of een zirconiumfluorideoplossing. De hierbij gevormde laag zorgt ervoor, dat er geen reacties plaatsvinden tussen de diazo’s en de onderlaag.The starting point for both plate types is an aluminum underlay, which simultaneously functions as a support material. Before applying the photosensitive layer, the aluminum base material first undergoes a pretreatment consisting of a) a cleaning of the surface by alkaline degreasing, b) a mechanical roughening with brushes and / or an electrochemical roughening in a dilute acid (e.g. hydrochloric acid) using of alternating current, c) an anodization, in which the soft, scratch and corrosion-sensitive aluminum surface is electrochemically supplied with a direct current electrochemically with a hard skin of aluminum oxide in a sulfuric acid or phosphoric acid bath and finally d) a special after-treatment, which may for instance consist of a treatment with an alkali metal silicate, a polyvinylphosphonic acid or a zirconium fluoride solution. The layer formed hereby ensures that no reactions take place between the diazo and the bottom layer.
Door deze voorbehandeling is het aluminium voldoende hydrofiel of watervoerend geworden om bij de offsetdruk op de pers uit een inkt/watermengsel de inkt af te stoten en het water te adsorberen. De laklaag daarentegen, die op dit alumi-niumoppervlak wordt aangebracht en voor het drukken via belichting en ontwikkeling ten dele (beeldmatig) wordt verwij-i derd, is oleofiel en neemt dus uit het inkt/watermengsel de inkt op en stoot het water af.As a result of this pretreatment, the aluminum has become hydrophilic or water-carrying to repel the ink from the ink / water mixture during the offset printing on the press and to adsorb the water. The lacquer layer, on the other hand, which is applied to this aluminum surface and which is partly (image-wise) removed for printing via exposure and development, is oleophilic and thus absorbs the ink from the ink / water mixture and repels the water.
Bij het aanbrengen (het coaten) van de lichtgevoelige laag, die bestaat uit lichtgevoelige diazoverbindingen (de sensibilisator), kunstharsen, kleurstof of andere toevoegin-i gen, opgelost in organische oplosmiddelen (zoals tetrahydrofu-raan, methylglycol, methylethylketon, ethanol en butylace-taat), wordt ca. 0,5 tot 3 g droge stof per vierkante meter opgebracht, hetgeen overeenkomt met een laagdikte van 0,5 tot 3 μχα.When applying (coating) the photosensitive layer, which consists of photosensitive diazo compounds (the sensitizer), synthetic resins, dyes or other additives, dissolved in organic solvents (such as tetrahydrofuran, methyl glycol, methyl ethyl ketone, ethanol and butylacers) tate), about 0.5 to 3 g of dry matter per square meter is applied, which corresponds to a layer thickness of 0.5 to 3 μχα.
De naftochinondiaziden bevatten de diazogroep =N=N. Bij de belichting met UV-licht (350-420 nm) wordt deze diazogroep als N2-molecuul afgesplitst. De overgebleven carbeenver-binding ondergaat vervolgens een Wolff-omlegging, dat wil zeggen dat de chinonachtige >C=0-groep zich omvormt tot een =C=0-1 groep. Deze groep kan zeer gemakkelijk water (bijvoorbeeld uit de lucht) absorberen, waardoor er een carbonzuur -C00H ontstaat. Uitgaande van het naftochinondiazide is zodoende tengevolge van de belichting een indeencarbonzuur ontstaan.The naphthoquinone diazides contain the diazo group = N = N. When exposed to UV light (350-420 nm), this diazo group is split off as an N2 molecule. The remaining carbene compound then undergoes a Wolff rearrangement, that is, the quinone-like> C = 0 group converts to a = C = 0-1 group. This group can very easily absorb water (for example from the air), resulting in a carboxylic acid -C00H. From the naphthoquinone diazide, an indene carboxylic acid is thus formed as a result of the exposure.
Bij de ontwikkeling van de belichte plaat zal het indeencarbonzuur zich in een alkalische oplossing gemakkelijk laten wegspoelen; het onbelichte materiaal wordt gedurende de ontwikkeling niet aangetast. Hierdoor is op de belichte delen de hydrofiele aluminiumoxideonderlaag weer vrijgekomen, terwijl op de onbelichte delen een hydrofobe, oleofiele laklaag is achtergebleven.In the development of the exposed plate, the indene carboxylic acid will easily wash away in an alkaline solution; the unexposed material is not affected during development. This has released the hydrophilic aluminum oxide underlayer on the exposed parts, while a hydrophobic oleophilic lacquer layer has remained on the unexposed parts.
Door de hoge mechanische en chemische eisen die aan deze resterende laklaag tijdens het drukproces worden gesteld is de opbouw van het naftochinondiazidemolecuul, alsmede de bijmenging van andere polymeren, zeer belangrijk.Due to the high mechanical and chemical requirements placed on this residual lacquer layer during the printing process, the construction of the naphthoquinone diazide molecule, as well as the admixture of other polymers, is very important.
Voor de synthese van het lichtgevoelige molecuul kan worden uitgegaan van het 2-diazo-l(2H)-naftalenon-5-sulfonyl-chloride dat met bijvoorbeeld 2,4-dihydroxybenzofenon reageert tot het 2,4-dihydroxybenzofenon-bis(2-diazo-l(2H)-naftalenon-5-sulfonaat. Aan deze bis(2,1,5-diazo)-dihydroxybenzofenones- ter worden vervolgens onder meer harsen toegevoegd om goede lakeigenschappen te verkrijgen.The photosensitive molecule can be synthesized from the 2-diazo-1 (2H) -naphthalenone-5-sulfonyl chloride which reacts with, for example, 2,4-dihydroxybenzophenone to form the 2,4-dihydroxybenzophenone bis (2-diazo -1 (2H) -naphthalenone-5-sulfonate To this bis (2,1,5-diazo) -dihydroxybenzophenone ester are subsequently added inter alia resins to obtain good lake properties.
Een moderne trend is om niet met diazoesters, maar met diazoharsen te werken. In dat geval laat men het 2-diazo-1(2H)-naftalenon-5-sulfonylchloride bijvoorbeeld reageren (partiële esterificatie) met een fenol (bijvoorbeeld p-cresol) en formaldehyde tot een relatief laagmoleculair polymeer. Ook in dit geval is een verdere bijmenging met onder meer harsen noodzakelijk om de gewenste lakeigenschappen te verkrijgen. Verder vinden naast de 2,1,5-diazo's ook de 2,1,4-diazo's (afgeleid van 2-diazo-l(2H)-naftalenon-4-sulfonylchloride) toepassing.A modern trend is not to work with diazo esters, but with diazo resins. In that case, the 2-diazo-1 (2H) -naphthalenone-5-sulfonyl chloride is reacted (partial esterification) with a phenol (e.g. p-cresol) and formaldehyde to form a relatively low molecular weight polymer. In this case too, further admixture, including resins, is necessary to obtain the desired lake properties. In addition to the 2,1,5-diazos, the 2,1,4-diazos (derived from 2-diazo-1 (2H) -naphthalenone-4-sulfonyl chloride) are also used.
De eerder genoemde bijmenging van harsen, in het bijzonder de fenol- en cresolharsen zoals de novolakken, heeft een uiterst belangrijk effect op de werking van het systeem.The aforementioned admixture of resins, in particular the phenolic and cresol resins such as the novolacs, has an extremely important effect on the operation of the system.
De diazoverbinding blijkt namelijk voor de vorming van een complex met dit hars een oplossnelheid-vertragend effect op de laagcomponenten te hebben, d.w.z. dat de combinatie van de polymeren met de fotoactieve verbinding een sterk verminderde oplosbaarheid heeft in een alkalische ontwikkelaar in vergelijking tot die van de samenstellende componenten. Het fotoly-seprodukt daarentegen is vanwege zijn carbonzuur-karakter goed oplosbaar en heeft daarnaast verminderde complexvormende eigenschappen .Namely, the diazo compound appears to have a dissolution rate retarding effect on the layer components for the formation of a complex with this resin, ie that the combination of the polymers with the photoactive compound has a greatly reduced solubility in an alkaline developer compared to that of the constituent components. The photolysis product, on the other hand, is very soluble because of its carboxylic acid character and also has less complexing properties.
Een interessante bijkomstigheid is dat men het posi-tiefwerkende systeem ook negatiefwerkend kan maken. Zoals eerder geschetst worden bij het positiefwerkend systeem de belichte delen oplosbaar ten gevolge van de vorming van het in-deencarbonzuur, terwijl de onbelichte delen qua samenstelling onveranderd blijven. Wordt het systeem nu na de belichting, maar vóór de ontwikkeling verhit tot ca. 150°C, dan heeft het indeencarbonzuur de neiging te decarboxyleren (C02 af te splitsen) , een proces dat kan worden versneld door bepaalde amines zoals imidazolen of triethanolamine aan de laag toe te voegen. Het gevormde indeen is weer onoplosbaar, een eigenschap die wordt versterkt door zijn netwerkvormende eigenschappen. Wordt de laag vervolgens opnieuw - nu niet beeldmatig maar totaal -belicht, dan gaan de nog niet omgezette diazoverbindingen alsnog over in oplosbare carbonzuren.An interesting side effect is that the positive-acting system can also be made negative-acting. As outlined earlier, in the positive-acting system, the exposed parts become soluble due to the formation of the indene carboxylic acid, while the unexposed parts remain unchanged in composition. If the system is heated to about 150 ° C after exposure, but before development, the indene carboxylic acid tends to decarboxylate (split off CO2), a process that can be accelerated by adding certain amines such as imidazoles or triethanolamine to the add layer. The indene formed is again insoluble, a property that is enhanced by its network-forming properties. If the layer is then exposed again - now not image-wise, but completely -, the unreacted diazo compounds will still be converted into soluble carboxylic acids.
Bij de positiefwerkende platen moet de belichte laag volledig verwijderd worden, zodat de watervoerende aluminium-onderlaag weer vrijkomt. Hiertoe maakt men gebruik van een positief-ontwikkelaar, meestal bestaande uit een alkalische > alkalisilicaat- of waterglasoplossing. Als alkalizouten kunnen natrium-, kalium- of lithiumzouten worden gebruikt. De pH-waarde kan van ca. 11 tot ca. 14 variëren.With the positive-acting plates, the exposed layer must be completely removed, so that the water-bearing aluminum underlayer is released again. For this purpose a positive developer is used, usually consisting of an alkaline> alkali metal silicate or water glass solution. As alkali metal salts, sodium, potassium or lithium salts can be used. The pH value can vary from about 11 to about 14.
Een nadeel van dergelijke sterk basische ontwikkelaars is echter, dat door de hoge alkaliteit het aluminium- of 1 aluminiumoxide-oppervlak van de lithografische plaat aangetast kan worden, waarbij alkalialuminaten gevormd worden, die in eerste instantie in oplossing gaan in de ontwikkelaar, maar al snel aanleiding geven tot neerslagvorming en/of vlokvorming in de ontwikkelaaroplossing. Alhoewel de eigenschappen van de ontwikkelaar hierdoor niet veranderen, heeft men toch te maken met een ongewenst fenomeen. Enerzijds kunnen door het neerslag filters verstopt raken en kan zich op verwarmingselementen een aanslag vormen. Anderzijds kan dit neerslag op het drukkend oppervlak overgedragen worden, waardoor het drukproces negatief wordt beïnvloed. Bovendien geeft dit neerslag aanleiding tot sterke vervuiling van het ontwikkelbad en het rollensys-teem.However, a drawback of such strongly basic developers is that due to the high alkalinity, the aluminum or alumina surface of the lithographic plate can be attacked, forming alkali aluminates which initially dissolve in the developer, but quickly give rise to precipitation and / or flocculation in the developer solution. Although the properties of the developer do not change as a result, one still has to deal with an undesirable phenomenon. On the one hand, filters can become clogged by the precipitation and deposits can form on heating elements. On the other hand, this precipitate can be transferred to the printing surface, so that the printing process is adversely affected. In addition, this precipitation gives rise to heavy contamination of the developing bath and the roller system.
Teneinde neerslagproblemen op te lossen stelt men in de 5e uitgave van het "Vademecum oppervlaktetechnieken metalen", samengesteld door T. van der Klus op blz. 66, voor aan de alkalische aluminiumbeitsbaden suiker toe te voegen. Hierbij wordt de afzetting van steenharde korsten van natriumalu-minaat, vooral op de verwarmingselementen, voorkomen.In order to solve precipitation problems, the 5th edition of the "Vademecum surface techniques metals", compiled by T. van der Klus on page 66, proposes adding sugar to the alkaline aluminum pickling baths. This prevents the deposition of rock-hard crusts of sodium aluminate, especially on the heating elements.
Pogingen om met suikers de neerslagvorming in de lithografische positiefontwikkelaars te reduceren of volledig tegen te gaan, gaven niet het gewenste resultaat. Gebleken is immers dat door toevoeging van suikers de problemen ten aanzien van de ongewenste neerslagvorming verholpen zijn, echter de ontwikkelsnelheid zeer nadelig wordt beïnvloed.Attempts to reduce or completely counteract the precipitation in the lithographic positive developers with sugars did not give the desired result. After all, it has been found that by adding sugars the problems with regard to the undesired precipitation are solved, however the development speed is very adversely affected.
De uitvinding beoogt thans een ontwikkelaarsamenstelling te verschaffen waarbij de bovengenoemde nadelen op doeltreffende wijze worden opgeheven.The object of the invention is now to provide a developer composition in which the above-mentioned drawbacks are effectively overcome.
Hiertoe verschaft de uitvinding een ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten op basis van een waterige alkalische silicaatoplossing.To this end, the invention provides a developer composition for positive-acting lithographic printing plates based on an aqueous alkaline silicate solution.
Verrassenderwijs is gevonden dat door toevoeging van een relatief kleine hoeveelheid van bepaalde typen glycolen, in het bijzonder van monoethyleenglycol, aan een positiefwer-kende lithografische ontwikkelaar de nadelige neerslagvorming wordt voorkomen, dan wel sterk verminderd zonder de ontwikkel-eigenschappen noemenswaardig te wijzigen.Surprisingly, it has been found that by adding a relatively small amount of certain types of glycols, in particular of monoethylene glycol, to a positively acting lithographic developer, the adverse precipitation formation is prevented or greatly reduced without appreciably changing the development properties.
in het algemeen bedraagt het gehalte aan glycol in de waterige ontwikkelaaroplossing 1-25 gew.%.generally, the glycol content in the aqueous developer solution is 1-25% by weight.
Goede resultaten worden verkregen wanneer het glycol monoethyleenglycol is en het gehalte ervan in de waterige ontwikkelaaroplossing 2,5-17,5 gew.% bedraagt.Good results are obtained when the glycol is monoethylene glycol and its content in the aqueous developer solution is 2.5-17.5% by weight.
Gebleken is dat het de meeste voorkeur verdient wanneer het monoethyleenglycolgehalte in de oplossing ca. 10 gew.% is.It has been found to be most preferred when the monoethylene glycol content in the solution is about 10% by weight.
Door toepassing van een dergelijke ontwikkelaar bleek neerslagvorming achterwege te blijven, terwijl de ontwikkelei-genschappen van de ontwikkelaaroplossing volledig intact blijven.By using such a developer, precipitation was found to be omitted, while the development properties of the developer solution remain completely intact.
Opgemerkt wordt dat monoethyleenglycol of 1,2-ethaan-diol, CAS-nummer 107-21-1 in de chemische industrie een brede toepassing vindt. Ook bij het ontwikkelen van lithografische platen worden monoethyleenglycol en ethyleenglycolderivaten gebruikt. Zo wordt in het Hoechst Celanese octrooi US4822723 ethyleenglycol in combinatie met andere glycolen beschreven ter verbetering van de ontwikkelbaarheid van de plaat. In de octrooiaanvrage DE 3915141 van Fuji Photo Film Co. Ltd. worden stoffen als het natrium decaethyleenglycol omega-4-isopropoxy-naftyl-1 5,5-polyethyleenglycolsulfonaat beschreven ter verbetering van de ontwikkeleigenschappen, reductie van schuimvor-ming en het tegengaan van neerslagvorming. Het gebruik van relatief eenvoudige glycolen in positiefwerkende offsetontwik-kelaars op basis van silicaten ter voorkoming, respectievelijk vermindering van de neerslagvorming is nergens in de literatuur beschreven.It is noted that monoethylene glycol or 1,2-ethane diol, CAS No. 107-21-1, has wide application in the chemical industry. Monoethylene glycol and ethylene glycol derivatives are also used in the development of lithographic plates. For example, the Hoechst Celanese patent US4822723 describes ethylene glycol in combination with other glycols to improve the developability of the plate. In Fuji Photo Film Co. patent application DE 3915141 Ltd. Substances such as the sodium decaethylene glycol omega-4-isopropoxy-naphthyl-1 5,5-polyethylene glycol sulfonate have been described to improve development properties, reduce foaming and prevent precipitation. The use of relatively simple glycols in positively acting silicate-based offset developers to prevent or reduce precipitation, respectively, has not been described in the literature.
Thans wordt de uitvinding nader toegelicht aan de hand van de volgende vergelijkingsvoorbeelden.The invention will now be further elucidated by means of the following comparative examples.
Ontwikkelbad A:Developing bath A:
Een positiefwerkende lithografische ontwikkelaar met de volgende samenstelling werd aangezet: 80 ml natriumsilicaat (1,36)-oplossing en 60 ml natriumhydro-xide-oplossing 30% werden met water gemengd en tot 1 liter aangevuld.A positive working lithographic developer of the following composition was turned on: 80 ml of sodium silicate (1.36) solution and 60 ml of sodium hydroxide solution 30% were mixed with water and made up to 1 liter.
Ontwikkelbad B:Developing bath B:
Aan bad A wordt suiker toegevoegd in een zodanige hoeveelheid, dat de eindconcentratie ervan 10 gew.% bedraagt.Sugar is added to bath A in an amount such that its final concentration is 10% by weight.
Ontwikkelbad C:Developing bath C:
Aan bad A wordt propyleenglycol toegevoegd in een zodanige hoeveelheid, dat de eindconcentratie ervan 5 gew.% bedraagt. Ontwikkelbad D:Propylene glycol is added to bath A in an amount such that its final concentration is 5% by weight. Developing bath D:
Aan bad A wordt diethyleenglycol toegevoegd in een zodanige hoeveelheid, dat de eindconcentratie ervan 5 gew.% bedraagt. Ontwikkelbad E:Diethylene glycol is added to bath A in an amount such that its final concentration is 5% by weight. Developing bath E:
Aan bad A wordt monoethyleenglycol toegevoegd in een zodanige hoeveelheid, dat de eindconcentratie ervan 5 gew.% bedraagt. Ontwikkelbad F:Monoethylene glycol is added to bath A in an amount such that its final concentration is 5% by weight. Developing bath F:
Aan bad A wordt monoethyleenglycol toegevoegd in een zodanige hoeveelheid, dat de eindconcentratie ervan 10 gew.% bedraagt.Monoethylene glycol is added to bath A in an amount such that its final concentration is 10% by weight.
Resultaten;Results;
Uit de bovenstaande vergelijkingsproeven blijkt duidelijk, dat het ontwikkelbad F volgens de uitvinding, dat 10 gew.% monoethyleenglycol bevat bijzonder geschikt is als ontwikkelaarsamenstelling omdat bij het ontwikkelen van positief-werkende lithografische drukplaten geen neerslagvorming plaatsvindt, terwijl bovendien de ontwikkeleigenschappen behouden blijven.It is clear from the above comparative tests that the developing bath F according to the invention, which contains 10% by weight of monoethylene glycol, is particularly suitable as a developer composition, since no precipitation occurs during the development of positive-working lithographic printing plates, while, moreover, the development properties are retained.
Ontwikkelbad E, dat 5 gew.% monoethyleenglycol bevat, laat, wat de neerslagvorming betreft, te wensen over.Developing bath E, which contains 5% by weight of monoethylene glycol, leaves much to be desired as regards precipitation.
Diethyleenglycol blijkt bij een 5 gew.% eindgehalte een sterke neerslagvorming te geven, waardoor een dergelijk bad ongeschikt is als ontwikkelaar.Diethylene glycol has been found to give strong precipitation at a 5% by weight final content, making such a bath unsuitable as a developer.
Ook propyleenglycol lijkt een niet of veel minder geschikte toevoeging te zijn dan monoethyleenglycol.Propylene glycol also appears to be an unsuitable or far less suitable addition than monoethylene glycol.
Suiker daarentegen blijkt volgens bad B neerslagvorming tegen te gaan, maar heeft als nadeel dat de ontwikkelei-genschappen van het bad worden aangetast met als gevolg, dat een dergelijk bad om die reden ongeschikt is als ontwikkelaar.Sugar, on the other hand, appears to prevent precipitation according to bath B, but has the drawback that the development properties of the bath are impaired, with the result that such a bath is therefore unsuitable as a developer.
Uit nader onderzoek is voorts gebleken, dat een te laag gehalte aan monoethyleenglycol de neerslagvorming niet of onvoldoende tegengaat, terwijl monoethyleenglycolgehaltes van bijvoorbeeld meer dan 17,5 gew.% bij langere ontwikkeltijden de diazocoating aantasten.Further investigation has also shown that a too low content of monoethylene glycol does not or insufficiently counteract precipitation, while monoethylene glycol contents of, for example, more than 17.5% by weight affect the slide coating at longer development times.
Claims (6)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9400920A NL9400920A (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. |
| DE1995120741 DE19520741C2 (en) | 1994-06-07 | 1995-06-07 | Developer for use in offset printing |
| NL1000505A NL1000505C2 (en) | 1994-06-07 | 1995-06-07 | Developer for positive lithographic printing plates |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9400920 | 1994-06-07 | ||
| NL9400920A NL9400920A (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL9400920A true NL9400920A (en) | 1996-01-02 |
Family
ID=19864276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL9400920A NL9400920A (en) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19520741C2 (en) |
| NL (1) | NL9400920A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5766826A (en) * | 1996-10-11 | 1998-06-16 | Eastman Kodak Company | Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US5897985A (en) * | 1996-10-11 | 1999-04-27 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US5811221A (en) * | 1997-05-30 | 1998-09-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1591988A (en) * | 1977-12-29 | 1981-07-01 | Vickers Ltd | Lithographic printing |
| US4828965A (en) * | 1988-01-06 | 1989-05-09 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Aqueous developing solution and its use in developing positive-working photoresist composition |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4374920A (en) * | 1981-07-27 | 1983-02-22 | American Hoechst Corporation | Positive developer containing non-ionic surfactants |
| DE4027299A1 (en) * | 1990-08-29 | 1992-03-05 | Hoechst Ag | DEVELOPER COMPOSITION FOR IRRADIATED, RADIATION-SENSITIVE, POSITIVE AND NEGATIVE WORKING AND REVERSIBLE REPROGRAPHIC LAYERS AND METHOD FOR DEVELOPING SUCH LAYERS |
| JP3086354B2 (en) * | 1993-03-30 | 2000-09-11 | 富士写真フイルム株式会社 | Developer and replenisher for photosensitive lithographic printing plates |
-
1994
- 1994-06-07 NL NL9400920A patent/NL9400920A/en unknown
-
1995
- 1995-06-07 DE DE1995120741 patent/DE19520741C2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1591988A (en) * | 1977-12-29 | 1981-07-01 | Vickers Ltd | Lithographic printing |
| US4828965A (en) * | 1988-01-06 | 1989-05-09 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Aqueous developing solution and its use in developing positive-working photoresist composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19520741A1 (en) | 1996-02-01 |
| DE19520741C2 (en) | 2003-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1098752A (en) | Aqueous developer for a daizo lithographic printing plate including a benzyl alcohol or glycol ether derivative and sulfite | |
| US4762771A (en) | Method of treating photosensitive printing plate | |
| US4885230A (en) | Burn-in gumming composition for offset printing plates | |
| JP2639693B2 (en) | Development method of photosensitive lithographic printing plate | |
| JPH0258618B2 (en) | ||
| JPS5986046A (en) | Photosensitive composition | |
| NL9400920A (en) | Developer composition for positive-acting lithographic printing plates and method for developing positive-acting lithographic printing plates. | |
| EP0066990B1 (en) | Process for production of presensitized lithographic printing plates | |
| EP0110214A1 (en) | Photosensitive composition | |
| US6517988B1 (en) | Radiation-sensitive, positive working coating composition based on carboxylic copolymers | |
| JPS5984238A (en) | Photosensitive composition | |
| JPH07281425A (en) | Production of negative photosensitive planographic printing plate | |
| JPS6224263A (en) | Method for developing photosensitive lithographic plate | |
| JPH0239157A (en) | Developer for photosensitive planographic printing plate | |
| GB2043281A (en) | Producing photosensitive lithographic printing plates | |
| JP2808203B2 (en) | Manufacturing method of photosensitive lithographic printing plate | |
| JP2808204B2 (en) | Manufacturing method of photosensitive lithographic printing plate | |
| JPS6271958A (en) | Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate | |
| JPH0240659A (en) | Developer for photosensitive planographic printing plate and method for developing the printing plate | |
| JPH07117747B2 (en) | Photosensitive composition | |
| JPS62125357A (en) | Developing solution composition and developing method for photosensitive lithographic printing plate | |
| JPH063545B2 (en) | Positive photosensitive composition | |
| JPH03239260A (en) | Photosensitive planographic plate | |
| JPH10133391A (en) | Developing method of photosensitive lithographic printing plate | |
| JPS61230989A (en) | Correction agent for lithographic printing block |