NL9300458A - Device for applying a coating on substrates. - Google Patents

Device for applying a coating on substrates. Download PDF

Info

Publication number
NL9300458A
NL9300458A NL9300458A NL9300458A NL9300458A NL 9300458 A NL9300458 A NL 9300458A NL 9300458 A NL9300458 A NL 9300458A NL 9300458 A NL9300458 A NL 9300458A NL 9300458 A NL9300458 A NL 9300458A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
heating
bores
plates
perforated plates
vacuum
Prior art date
Application number
NL9300458A
Other languages
Dutch (nl)
Original Assignee
Leybold Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Ag filed Critical Leybold Ag
Publication of NL9300458A publication Critical patent/NL9300458A/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
    • F24D19/00—Details
    • F24D19/10—Arrangement or mounting of control or safety devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
    • F24D3/00—Hot-water central heating systems
    • F24D3/12—Tube and panel arrangements for ceiling, wall, or underfloor heating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Central Heating Systems (AREA)

Description

Titel: Inrichting voor het aahbrengen van een bekledingslaag op substraten.Title: Device for applying a coating to substrates.

De uitvinding betreft een inrichting voor het aanbrengenvan een bekledingslaag op substraten in vacuümbehandelings-installaties met een substraathouder, welke overwegend inloodrechte stand langs een voorafbepaalde weg dóór een vacuüm¬kamer heen kan worden bewogen en met een aan de kamerbovenwandbevestigde, bijvoorbeeld uit verwarmingswindingen bestaandeverwarmingsinrichting, welke tot in een, zich in de substraat¬houder bevindende, naar boven toe open, sleufvormige uit¬sparing reikt, waarvan de hoofdrichting evenwijdig verlooptaan de bewegingsrichting.The invention relates to a device for applying a coating layer to substrates in vacuum treatment installations with a substrate holder, which can be moved predominantly perpendicularly along a predetermined path through a vacuum chamber and with a heating device attached to the chamber top wall, for example consisting of heating coils, extends into an upwardly open, slot-shaped recess located in the substrate holder, the main direction of which extends parallel to the direction of movement.

Er is een inrichting voor het transport van substratenbij installaties voor het aanbrengen van bekledingslagen opsubstraten bekend met een aantal stations (DE P 40 29 905.8) .Deze inrichting is voorzien van substraathouders met plaat¬vormige, platte, parallellepipedumvormige configuratie, welkein loodrechte stand langs een voorafbepaalde transportweg dóórde stations kunnen worden bewogen. De substraathouder bevateen zich van boven af tot in het bereik van zijn voetdeel uit-strekkende, evenwijdig aan de rails verlopende, schachtvormigeuitsparing, tot waarin bij het doorlópen van de afzonderlijkestations een boven de substraathouder aan het bovenste wand-deel aangébracht, plat, zich loodrecht omlaag uitstrekkendverwamingslichaam reikt.A device for the transport of substrates in installations for applying coatings to substrates is known with a number of stations (DE P 40 29 905.8). This device is provided with substrate holders with plate-shaped, flat, parallelepiped-shaped configuration, which are perpendicular along a predetermined transport path can be moved through the stations. The substrate holder comprises a shaft-shaped recess extending parallel to the rails from the top to the area of its base part, into which a flat, perpendicular to the upper wall part is arranged above the substrate holder when the individual stations are traversed. downward extending heater body.

Een verdere inrichting (DE P 41 39 549.2) voor het transporteren van substraten tot in het dóór vacuümbehande-lingsinstallaties met een aantal stations alsmede met eenverwarmingsinrichting bevat een smalle, hoge, parallelle-pipeduntvormige, naar boven toe open tussenruimte, tot waarinvan boven een aan de bovenwand van de vacuümkamer bevestigdeverwarming reikt.A further device (DE P 41 39 549.2) for transporting substrates into vacuum treatment plants with a number of stations as well as with a heating device comprises a narrow, high, parallel-pipedunt-shaped, upwardly open space, from which above a the top wall of the vacuum chamber reaches the attached heating.

Deze verwarmingsinrichtingen, welke op grond van hungeometrische plaatsing tussen twee loodrechte substraatvlakkenook als middenverwarming bekend zijn, bestaan meestal uit afzonderlijke verwamingswindingen, welke gewoonlijk aan debovenwand van de vacuümkamer zijn bevestigd en in de vorm vaneen meander tussen de substraatvlakken zijn gelegd. Opnadelige wijze buigen echter de afzonderlijke verwarmings-windingen door de thermische uitzetting tijdens het aanbrengenvan de bekledingslaag tot uit het middenvlak. Dit kan leidentot het blijven hangen van de substraatwagen, terwijl hetbovendien hierdoor tot plaatselijke verhogingen van de tempe¬ratuur op het substraatoppervlak komt. verder is het zeernadelig, dat bij de tot dusverre gebruikelijke middenverwar-ming geen instelmogelijkheid bestaat voor de temperatuur-verdeling in verticale richting.These heating devices, which are known as central heating because of their geometric arrangement between two perpendicular substrate surfaces, usually consist of separate heating coils, which are usually attached to the top wall of the vacuum chamber and are placed in the form of a meander between the substrate surfaces. Sadly, however, the individual heating turns bend due to the thermal expansion during the application of the cladding layer to the center plane. This can lead to the substrate carriage sticking while, moreover, this leads to local increases in temperature on the substrate surface. Furthermore, it is very disadvantageous that with the hitherto usual central heating, there is no adjustment option for the temperature distribution in the vertical direction.

Doel van de onderhavige uitvinding is nu, in de eersteplaats een mechanische fixering van de verwamingswindingen ineen vlak bij tegelijkertijd hoge warmte-uitstraling te waar¬borgen, en in de tweede plaats een gelijkmatig worden van deplaatselijke temperatuurverschillen mogelijk te maken en in dederde plaats een mogelijkheid tot het optimaliseren van deverticale temperatuurverdeling.The aim of the present invention is now, firstly, to ensure a mechanical fixation of the heating coils in a plane while at the same time having a high heat radiation, and secondly to enable the local temperature differences to become uniform and thirdly a possibility to optimize the vertical temperature distribution.

Dit, overeenkomstig de uitvinding aan de orde gesteldeprobleem wordt, volgens de uitvinding, opgelost, doordat deverwarmingsinrichting in hoofdzaak uit een tweetalgeperforeerde platen bestaat, en tussen die beide platen eenverwarmingsinrichting, bijvoorbeeld een meandervormig gelegdeverwarmingswinding is aangebracht.This problem, which is raised in accordance with the invention, is solved, according to the invention, in that the heating device consists essentially of two perforated plates, and a heating device, for example a meandering heating coil, is arranged between the two plates.

Op voordeel biedende wijze worden de verwamingswindingenin een vlak tussen de volgens de uitvinding toegepaste afdek-platen stabiel geleid, zodat er geen contact meer tot standkan komen tussen de wamingswindingen zelf en de van eenbekledingslaag te voorziene substraten. Door het perforatie-raster op de afdekplaten is de wamte-uitstraling ten opzichtevan een een gesloten versie duidelijk verbeterd. Verder kan,door de variatie van het perforatieraster in verticale rich¬ting nog de temperatuurverdeling worden gecorrigeerd. Deplaatselijke temperatuurverschillen van de verwarmings- windingen worden door het hoge warmte-geleidende vermogen vande koperen afdekplaat geëgaliseerd.Advantageously, the heating turns are guided stably in a plane between the cover plates used according to the invention, so that no contact can be established between the heating turns themselves and the substrates to be coated. Due to the perforation grid on the cover plates, the warmth appearance has clearly improved compared to a closed version. In addition, the temperature distribution can be corrected by the variation of the perforation grid in vertical direction. The local temperature differences of the heating coils are equalized by the high thermal conductivity of the copper cover plate.

Nadere details en kenmerken van verdere uitvoerings-voorbeelden staan vermeld in de volgconclusies.Further details and features of further exemplary embodiments are set out in the subclaims.

De uitvinding kan op zeer uiteenlopende wijze wordengerealiseerd. Een uitvoeringsvorm volgens de uitvinding is inde tekening nader weergegeven.The invention can be realized in very different ways. An embodiment according to the invention is shown in more detail in the drawing.

Fig. l is een schematische afbeelding van een verticalekathodeverstuivingsinstallatie met middenverwarming indoorsnede; en fig. 2 laat een volgens de uitvinding uitgevoerde midden¬verwarming met geperforeerde afdekplaten zien.Fig. 1 is a schematic representation of a vertical cathode sputtering plant with central heating indoor section; and Fig. 2 shows a central heating system according to the invention with perforated cover plates.

Aan de bodem van een rechthoekvormige vacuümkamer 1(fig. 1) bevindt zich een vacuümschuif 2 en een vacuümpomp 3.Twee draagarmen 4, 5 zijn bevestigd in het onderste bereik vande linker kamerwand en aan de vrije einden daarvan zijn, inhet midden van de kamer twee rollen 6, 7 aangebracht. Door debeide rollen 6, 7 wordt een voetdeel 8 geleid, waarop eenU-vormige substraathouder 9 bevestigd is. In de beide armenvan de substraathouder 9 zijn de van een bekledingslaag tevoorziene substraten 10, ll ingezet. Een middenverwarming 13,welke door middel van een isolator 14 aan de bovenwand van devacuümkamer 1 is bevestigd, reikt van boven zonder aanrakingtot in de parallelle, naar boven toe open tussenruimte 12 vande substraathouder 9.At the bottom of a rectangular vacuum chamber 1 (fig. 1) there is a vacuum slide 2 and a vacuum pump 3. Two support arms 4, 5 are mounted in the lower region of the left chamber wall and at the free ends thereof, in the center of the chamber two rollers 6, 7 arranged. A foot part 8, on which a U-shaped substrate holder 9 is fixed, is guided through both rollers 6, 7. The substrates 10, 11 provided with a coating layer are inserted in both arms of the substrate holder 9. A central heating 13, which is attached to the top wall of the vacuum chamber 1 by means of an insulator 14, extends from the top without contact into the parallel, upwardly open gap 12 of the substrate holder 9.

Twee bekledingskathodes 15, 16 bevinden zich aanweerszijden van de substraten 10, ll aan de zijwanden van dekamer 1.Two cladding cathodes 15, 16 are located on the side faces of the substrates 10, 11 on the side walls of chamber 1.

Een vlakke, koperen afdekplaat 21 (fig. 2) is over zijngehele oppervlak voorzien van boringen 22, 22', ..., welke ineen regelmatig en symmetrisch perforatiepatroon ten opzichtevan elkaar zijn aangebracht en al welke boringen dezelfdeboringdiameter hebben. Aan de voorzijde van de plaat 21bevindt zich een verwarmingswinding 23, welke in eenmeandervormig verloop over het gehele oppervlak van de plaat21 is gelegd en zich in een vlak uitstrekt.A flat copper cover plate 21 (fig. 2) is provided over its entire surface with bores 22, 22 ', ... which are arranged in a regular and symmetrical perforation pattern relative to each other and which bores have the same bore diameter. At the front of the plate 21 there is a heating coil 23, which is laid in a meandering form over the entire surface of the plate 21 and extends in one plane.

Op de bovenzijde van de winding 23 en op evenwijdigeafstand ten opzichte van de plaat 21 bevindt zich een tweedekoperen afdekplaat 24 met boringen 25, 25', welke in vorm en uitvoering identiek is met de plaat 21, zodat de plaat 21,24 en de winding 23 in sandwich-bouwwijze ten opzichte vanelkander zijn aangebracht en een thermisch contact tussen debouwelementen bestaan.On the top side of the winding 23 and parallel to the plate 21 there is a second copper cover plate 24 with bores 25, 25 ', which is identical in shape and design to the plate 21, so that the plate 21, 24 and the winding 23 are sandwiched relative to each other and there is a thermal contact between the construction elements.

Claims (12)

1. inrichting voor het aaiibrengen van een bekledingslaag opsubstraten (10, 11) in vacuümbehandelingsinstallaties met eensubstraathouder (9), welke overwegend in loodrechte standlangs een vooraf bepaalde weg dóór een vacuümkamer (1) heen kanworden bewogen en met een aan de bovenwand van de kamerbevestigde, bijvoorbeeld uit een verwarmingswinding (23)bestaande verwarmingsinrichting (13), welke tot in een, zichin de substraathouder (9) , bevindende, naar boven toe open,sleufvormige uitsparing reikt, waarvan de hoofdrichtingevenwijdig aan de bewegingsrichting verloopt, met het kenmerk, dat de verwarmingsinrichting (13) in hoofd¬zaak uit een tweetal geperforeerde platen (21, 24) bestaat entussen die beide platen (21, 24) is voorzien in eenverwarmingsinrichting (13), bijvoorbeeld een meandervormiggelegde verwarmingswinding (23) .1. device for stroking a coating on substrates (10, 11) in vacuum treatment plants with a substrate holder (9), which can be moved predominantly perpendicularly along a predetermined path through a vacuum chamber (1) and with a fastening to the top wall of the chamber , for example, a heating coil (23) consisting of a heating device (13) which extends into an upwardly open slot-shaped recess located in the substrate holder (9), the main direction of which extends parallel to the direction of movement, characterized in that the heating device (13) mainly consists of two perforated plates (21, 24) and between them both plates (21, 24) are provided in a heating device (13), for example a meandering heating coil (23). 2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat degeperforeerde platen (21, 24) vlak zijn.Device according to claim 1, characterized in that the perforated plates (21, 24) are flat. 3. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat degeperforeerde platen (21, 24) onderling evenwijdig zijn aan¬gebracht .Device according to claim 1, characterized in that the perforated plates (21, 24) are arranged parallel to each other. 4. Inrichting volgens conclusie l, met het kenmerk, dat degeperforeerde platen (21, 24) dezelfde geometrische vormhebben.Device according to claim 1, characterized in that the perforated plates (21, 24) have the same geometric shape. 5. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat degeperforeerde platen (21, 24) uit koper, of dergelijkmateriaal met goed warmte-geleidend vermogen vervaardigd zijn.Device according to claim 1, characterized in that the perforated plates (21, 24) are made of copper or the like with good thermal conductivity. 6. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat degaten in de platen (21, 24) als boringen (22, 22', . ..,* 25, 25', ...) zijn uitgevoerd.Device according to claim 1, characterized in that the holes in the plates (21, 24) are designed as bores (22, 22 ', ..., * 25, 25', ...). 7. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat aldie boringen (22, 22', ...; 25, 25’, ...) dezelfde diametervan bij voorkeur 5 mm hebben.Device according to claim 6, characterized in that all said bores (22, 22 ', ...; 25, 25', ...) have the same diameter, preferably 5 mm. 8. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat deboringen (22, 22', —; 25, 25', ...) verschillende diametershebben.Device according to claim 6, characterized in that the bores (22, 22 ', -; 25, 25', ...) have different diameters. 9. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat deboringen (22, 22’, ...? 25, 25', ...) op gelijke afstanden vanelkaar zijn aangebracht.Device according to claim 1, characterized in that the bores (22, 22 ', ...? 25, 25', ...) are arranged at equal distances from each other. 10. Inrichting volgens conclusie l, met het kenmerk, datde boringen (22, 22', ...; 25, 25', ...) op onderlingverschillende afstanden van elkaar zijn aangebracht.Device according to claim 1, characterized in that the bores (22, 22 ', ...; 25, 25', ...) are arranged at different distances from one another. 11. inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat deverwarmingsinrichting (13) als plaatverwarming is uitgevoerd.Device according to claim 1, characterized in that the heating device (13) is designed as plate heating. 12. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat deplaten (21, 24) en de verwarmingswinding (23) door middel vanschroeven vast met elkander verbonden zijn. Lijst van verwiizinqsciifers 1 vacuümkamer 2 vacuümschuif 3 vacuümpomp 4 draagarm 5 draagarm 6 rol 7 rol 8 voetdeel 9 sübstraathouder 10 siibstraat 11 substraat 12 tussenruimte 13 middenverwaming 14 isolator 15 bekledingskathode 16 bekledingskathode 21 afdekplaat 22, 22',... boringen 23 verwamingswinding 24 afdekplaat 25, 25', ... boringDevice according to claim 1, characterized in that the plates (21, 24) and the heating coil (23) are firmly connected to each other by means of screws. Removal list 1 vacuum chamber 2 vacuum slide 3 vacuum pump 4 support arm 5 support arm 6 roller 7 roller 8 foot section 9 sübstraße holder 10 siibstraat 11 substrate 12 spacing 13 center heating 14 insulator 15 cladding cathode 16 cladding cathode 21 cover plate 22, 22 ', ... bores 23 heating coil 24 cover plate 25, 25 ', ... bore
NL9300458A 1992-08-03 1993-03-15 Device for applying a coating on substrates. NL9300458A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE9210359 1992-08-03
DE9210359U DE9210359U1 (en) 1992-08-03 1992-08-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL9300458A true NL9300458A (en) 1994-03-01

Family

ID=6882272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9300458A NL9300458A (en) 1992-08-03 1993-03-15 Device for applying a coating on substrates.

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2511064Y2 (en)
KR (1) KR0132714Y1 (en)
DE (1) DE9210359U1 (en)
NL (1) NL9300458A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014104011A1 (en) 2014-03-24 2015-09-24 Aixtron Se Device for separating nanotubes
DE102014104009A1 (en) * 2014-03-24 2015-09-24 Aixtron Se On its two wegweisenden broadsides each substrate carrying substrate carrier
CN109609923B (en) * 2019-01-11 2023-08-25 广东谛思纳为新材料科技有限公司 Automatic device convenient to fastener knot electric ion platinization processing

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58170532A (en) * 1982-03-30 1983-10-07 Toshiba Corp Vacuum heating apparatus
DE4029905A1 (en) * 1990-09-21 1992-03-26 Leybold Ag DEVICE FOR THE TRANSPORT OF SUBSTRATES

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58170532A (en) * 1982-03-30 1983-10-07 Toshiba Corp Vacuum heating apparatus
DE4029905A1 (en) * 1990-09-21 1992-03-26 Leybold Ag DEVICE FOR THE TRANSPORT OF SUBSTRATES

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 008, no. 003 (C - 203) 7 January 1984 (1984-01-07) *

Also Published As

Publication number Publication date
KR0132714Y1 (en) 1998-12-15
JPH0625359U (en) 1994-04-05
DE9210359U1 (en) 1992-09-24
KR940006064U (en) 1994-03-22
JP2511064Y2 (en) 1996-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9538583B2 (en) Substrate support with switchable multizone heater
EP1457582A1 (en) Device and method for vacuum deposition, and organic electroluminescent element provided by the device and the method
JP2003257614A5 (en)
TWI267160B (en) Method and apparatus for controlling the spatial temperature distribution across the surface of a workpiece support
KR20040110718A (en) Linear type nozzle evaporation source for manufacturing a film of OLEDs
NL9300458A (en) Device for applying a coating on substrates.
KR20010014102A (en) Substrate heating apparatus with glass-ceramic panels and thin film ribbon heater element
KR100228809B1 (en) Apparatus for transporting substrates
US4585916A (en) Transverse flux induction heating of metal strip
JPH04247869A (en) Device for transferring substrate
JP4942272B2 (en) Heater support structure and heating furnace for glass plate bending
JP5897275B2 (en) Temperature control unit, substrate mounting table, substrate processing apparatus, temperature control system, and substrate processing method
US3602190A (en) Multiple vaporizing system
PT876218E (en) HEATING A SAMPLE DOOR
JP2002146540A (en) Substrate heater
RU2307877C2 (en) Evaporating device for the sublimated materials
JP2013067845A (en) Device for heating deposition material, vapor deposition apparatus, vapor deposition method and substrate
JP3735287B2 (en) Vacuum deposition apparatus and vacuum deposition method
KR100237146B1 (en) The heatable rotation table
KR20180116593A (en) Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment
CN212247180U (en) Heating device and evaporation equipment of evaporation source
WO2016133256A1 (en) Linear evaporation deposition apparatus
JP2003166785A (en) Drying device
KR101042975B1 (en) Glass fixing device for sputtering coating
US6140611A (en) Process for supplying heat to an object and container for keeping dishes hot and reheating dishes

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
BN A decision not to publish the application has become irrevocable