NL8902852A

NL8902852A - Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis.

Info

Publication number: NL8902852A
Application number: NL8902852A
Authority: NL
Original assignee: Samsung Electronic Devices
Priority date: 1988-11-26
Filing date: 1989-11-20
Publication date: 1990-06-18
Also published as: NL190825B; GB8926462D0; GB2226695A; GB2226695B; NL190825C

Description

Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis.

Uitvindingsgebied

De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een schaduwmasker voor een kleurenkathodestraalbuis, in het bijzonder op een schaduwmasker, dat gebruikt wordt als een belichtingsmasker.

Uitvindingsonderwerp

Bij een kleurenkathodestraalbuis, die voorzien is van een lijn-type elektronenkanon, dient de fosfor, waaruit het fosforscherm bestaat, te zijn gevormd in de vorm van strepen, terwijl een zwarte matrix, gemaakt van een licht-absorberend materiaal zoals grafiet, aangebracht is tussen de fosforstrepen, teneinde het verminderen van de luminantie als gevolg van uitwendige lichtstralen te voorkomen.

De fosforstrepen en de zwarte matrix worden gevormd met behulp van een fotogevoelige kunsthars op basis van de foto-etsmethode, dat wil zeggen op basis van belichting en ontwikkeling. Hierbij wordt gewoonlijk als belichtingsmasker een schaduwmasker gebruikt, dat de elektronenbundels geleidt in een gecompleteerde kleurenkathodestraalbuis.

Een dergelijk gebruikelijk schaduwmasker is getoond in fig. 1, en het schaduwmasker 1' is voorzien van een ruim groot aantal spleet-type openingen 2 met respectievelijk een breedte h.

In fig. 2 is een belichtingsinrichting getoond, bedoeld om de methode te laten zien van het blootstellen van het binnenvlak van het scherm onder gebruikmaking van het schaduwmasker 1' als belichtingsmasker. Deze belichtingsinrichting is zodanig opgebouwd, dat het schaduwmasker 1' als belichtingsmasker is geïnstalleerd in het inwendige van een paneel 5, bekleed met een fotogevoelig materiaal, en een sluiter met een spleet 7a wordt bewogen in de richting van de korte zijde van het paneel 5, zodat het binnenvlak van het paneel 5 stapsgewijze wordt blootgesteld door toepassing van de lichtstralen, uitgestraald van een lichtbron 6, waardoor continue zwarte matrix- en fosforstrepen worden gevormd.

De afstanden van de lichtbron 6 tot de respectievelijke punten op het paneel 5 zijn evenwel onderling verschillend/ en daardoor worden de belichtingen op de verschillende punten op het paneel verschillend ten opzichte van elkaar met als gevolg, dat de verlichtings-sterktes op de verschillende punten op het paneel verschillend ten opzichte van elkaar worden, waardoor de belichtingsniveaus eveneens onderling verschillend worden.

Daardoor wordt de toestand van de zwarte matrices en de fosforstrepen, gevormd op het binnenvlak van het paneel 5, defektief. De zwarte matrices bijvoorbeeld, die gewoonlijk zijn gevormd v66r de fosforstrepen, veroorzaken afschilferingen aan de belichte gedeelten, en in het geval, dat de belichting onvoldoende is, zetten de breedtes van de zwarte matrices B onregelmatig uit ten opzichte van de standaard breedtes, zoals getoond in fig. 3A, terwijl in het geval, waar de belichting overmatig is, de breedtes van de zwarte matrices B onregelmatig vernauwen, zoals getoond in fig. 3B, zodat de lineariteit van de zwarte matrices B worden verslechterd. Indien de lineariteit van de zwarte matrices B verslechterd, verslechteren de fosforstrepen, gevormd tussen de zwarte matrices eveneens op corresponderende wijze.

Een gebruikelijke aanpak om een dergelijk bezwaar te boven te komen wordt onthuld in het Japanse Gebruiksmodel publikatie Nr. 58-41633, waarin in hoofdzaak de moeite getroost is om de vorm van de spleet van de sluiter te modificeren, maar dit kan geen juiste oplossing geven voor het boven beschreven probleem.

Samenvatting van de uitvinding

De onderhavige uitvinding beoogt het hierboven beschreven bezwaar te boven te komen.

Zodoende is het het doel van de onderhavige uitvinding om een schaduwmasker te verschaffen voor een kleurenkathodestraalbuis, waarbij de belichtingen uniform gemaakt kunnen worden over het gehele oppervlak van het paneel, wanneer belichtingen worden uitgevoerd onder gebruikmaking van een belichtingsmasker.

Ter verkrijging van het bovengenoemde doel omvat het schaduwmasker voor een kleurenkathodestraalbuis volgens de onderhavige uitvinding een schaduwmasker, voorzien van een aantal openingen voor het geleiden van de elektronenbundels, met het kenmerk, dat het schaduwmasker is voorzien van openingen, die bestaan uit ten minste speldenkussen-type openingen of ton-type openingen, gemengd met spleet-type openingen.

Korte beschrijving van de tekeningen

Het bovengenoemde doel en verdere voordelen van de onderhavige uitvinding zullen duidelijker worden aan de hand van de beschrijving van een voorkeursuitvoering van de onderhavige uitvinding met verwijzing naar de bijgevoegde tekeningen, waarin: fig. 1 een aanzicht in perspectief is, waarin de struktuur van het gebruikelijke schaduwmaskerframe getoond is, met een gedeelte ervan vergroot, fig. 2 een schematisch aanzicht in doorsnee is van de gebruikelijke belichtingsinrichting, fig. 3A een vergroot vlak aanzicht is van het binnenvlak van het paneel, waarin een defektieve vorming getoond is van de zwarte matrices in het geval, waarbij de belichting onvoldoende is, fig. 3B een vergroot vlak aanzicht is van het binnenvlak van het paneel volgens fig. 3, maar in het geval, waarbij de belichting overmatig is, fig. 4A een schematisch aanzicht is van een speldenkussen-type openingen, gevormd op het schaduwmasker volgens de onderhavige uitvinding, fig. 4B een schematisch aanzicht is van een ton-type openingen, gevormd op het schaduwmasker volgens de onderhavige uitvinding, en de fig. 5A en 5B respectievelijk de uitvoeringen illustreren voor het schaduwmasker volgens de onderhavige uitvinding.

Beschrijving van de voorkeursuitvoering

Fig. 4 toont de vorm van de openingen, aangebracht op het schaduwmasker volgens de uitvinding, waarbij fig. 4A een speldenkussen-type openingen en fig. 4B ton-type openingen laat zien. Een speldenkussen-type opening 3 heeft een minimum-breedte hl en een maximum-breedte h2, terwijl een ton-type opening een minimum-breedte h3 en een maximum-breedte h4 heeft. Hierbij zijn de maximum-breedte h2 van de speldenkussen-type opening 3 en de minimum-breedte h3 van de ton-type opening bij voorkeur gevormd op nagenoeg dezelfde afmeting als de breedte h van gebruikelijke spleet-type opening 2. Dienovereenkomstig wordt het oppervlak van het openingsgedeelte van de speldenkussen-type opening 3 kleiner dan dat van het spleet-type opening 2, terwijl het oppervlak van het openingsgedeelte van de trommel-type opening 4 groter wordt dan dat van het spleet-type opening 2.

Hiermee wordt, indien de minimum-breedte hl van de speldenkussen-type opening 3 en de maximum-breedte h4 van de ton-type opening 4 nagenoeg gelijk gemaakt zijn aan de breedte h van spleet-type opening 2, de betrekking tussen de oppervlakken van de openingsgedeeltes tegengesteld aan het geval van de voorkeursuitvoering van de onderhavige uitvinding, zoals boven beschreven, maar dit zal geen gewenste vorm zijn, aangezien het rangschikken tot een in lijn gelegen toestand moeilijk wordt, wanneer een combinatie gebruikt wordt met de spleet-type openingen 2.

Daarom wordt, zoals getoond in fig. 5A en 5B de diverse soorten openingen volgens de onderhavige uitvinding gemengd aangebracht op het schaduwmasker 1. Indien bijvoorbeeld de belichting aan het buitenmiddengedeelte van de lange zijde van het paneel groter is dan de referentiewaarde, en indien de belichting aan het buitenmiddengedeelte van de korte zijde van het paneel valt beneden de referentiewaarde, worden speldenkussen-type openingen 3 aangebracht aan het buitenmiddengedeelte van de lange zijde van het paneel, waar de belichting overmatig is, terwijl de ton-type openingen 4 worden aangebracht aan het buitenmiddengedeelte van de korte zijde, waar de belichting onvoldoende is (een omgekeerd geval is getoond in fig. 5B).

Onder deze omstandigheid is het gewenst, dat de maximum-breedte h2 van de speldenkussen-type opening 3 uitgevoerd is in nagenoeg dezelfde grootte als de breedte van de spleet-type openingen 2 zoals boven beschreven, en in overeenstemming met de mate van onvoldoende belichting neemt de minimum-breedte hl geleidelijk toe, totdat de vorm van de opening gemaakt is om vrijwel gelijk te zijn aan de spleet-type opening bij het bereiken van het gedeelte, waar de belichting equivalent wordt aan de referentiewaarde.

Verder dienen de ton-type openingen 4 eveneens bij voorkeur te worden aangebracht op een wijze van geleidelijk verminderen van de maximum-breedte h4.

Het schaduwmasker van de onderhavige uitvinding, gevormd zoals boven aangegeven, zal nu worden beschreven in haar werkingen.

Het schaduwmasker volgens de onderhavige uitvinding wordt gebruikt als een belichtingsmasker voor het belichten van het binnenvlak van het paneel, nadat dit is geïnstalleerd. Voor het gemak van het beschrijven zullen beschrijvingen worden gegeven, die verwijzen naar het vormproces van de zwarte matrices, maar de omstandigheden zullen hetzelfde zijn als in het geval van het vormproces van de fosforstroken.

Indien lichtstralen worden uitgestraald vanaf de lichtbron 6, zullen de lichtbundels het binnenvlak van het paneel 5 belichten op een stapsgewijze manier door de spleet 7a van de bewegende sluiter 7, en dit zal hetzelfde effekt geven als dat de respectievelijke openingen 2, 3, 4 zouden worden bewogen over het binnenvlak van het paneel in de lengterichting ervan.

Dienovereenkomstig worden de belichtingsniveaus voor de verschillende posities van de strepen, gevormd op paneel 5, bestuurd, en in het geval van de speldenkussentype opening 3, waarbij het oppervlak van het openings-gedeelte daarvan kleiner is dan dat van de gebruikelijke spleet-type opening, wordt de gemiddelde doorgelaten hoeveelheid van de lichtbundels gereduceerd, terwijl in de ton-type opening 4 het tegenovergestelde geval zich voordoet. Als gevolg hiervan worden de intensiteiten van de lichtbundels, die aankomen op de respectievelijke delen van het binnenvlak van het paneel 5, nagenoeg uniform, waardoor de totale belichting over het gehele paneel uniform gemaakt wordt.

Dienovereenkomstig worden de verschillen in foto-gevoeligheid tussen de belichte delen van het gehele paneel verminderd, en wordt daardoor de vormingstoestand van de zwarte matrices, en in het bijzonder de lineariteit en de dichtheid van de zwarte matrices uniform.

Zodoende maakt de toepassing van het schaduwmasker volgens de onderhavige uitvinding het mogelijk om fosforlagen van goede kwaliteit te vormen, waardoor het mogelijk gemaakt wordt om kleurenkathodestraalbuizen van hoge kwaliteit te produceren, in staat tot het geven van verbeterde beelden.

Claims

1. Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis, omvattende een schaduwmasker, voorzien van een aantal openingen voor het geleiden van elektronenbundels, met het kenmerk, dat het schaduwmasker voorzien is van ten minste δ£ speldenkussen-type openingen of ton-type openingen, gemengd met spleet-type openingen.

2. Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis volgens conclusie 1, m e t het kenmerk, dat, wanneer genoemd schaduwmasker gebruikt wordt als belich-tingsmasker, genoemde speldenkussen-type openingen gevormd zijn op de delen, waar verminderde hoeveelheden lichtbundels nodig zijn.

3. Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis volgens conclusie 1, m e t het kenmerk, dat, wanneer het schaduwmasker gebruikt wordt als belichtings-masker, genoemde ton-type openingen gevormd zijn aan de gedeelten, waar verhoogde hoeveelheden lichtbundels nodig zijn.

4. Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis volgens één der conclusies 1 en 2, met het kenmerk, dat de maximum-breedte van genoemde speldenkussen-type openingen nagenoeg gelijk is aan de breedte van genoemde spleet-type openingen.

5. Schaduwmasker voor kleurenkathodestraalbuis volgens één der conclusies 1 tot 3,met het ken-m e r k, dat 'de minimum-breedte van genoemde ton-type openingen nagenoeg gelijk is aan de breedte van genoemde spleet-type openingen.