NL8400768A - METHOD FOR REPROCESSING METAL-CONTAINING ETCHING SOLUTIONS AND METAL RECOVERY - Google Patents
METHOD FOR REPROCESSING METAL-CONTAINING ETCHING SOLUTIONS AND METAL RECOVERY Download PDFInfo
- Publication number
- NL8400768A NL8400768A NL8400768A NL8400768A NL8400768A NL 8400768 A NL8400768 A NL 8400768A NL 8400768 A NL8400768 A NL 8400768A NL 8400768 A NL8400768 A NL 8400768A NL 8400768 A NL8400768 A NL 8400768A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- etching solution
- metal
- extractant
- basic
- copper
- Prior art date
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title claims description 6
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 title claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 35
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 22
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 9
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 5
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- ZRBROGSAUIUIJE-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;chloride Chemical compound N.[NH4+].[Cl-] ZRBROGSAUIUIJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N copper;azane Chemical compound N.N.N.N.[Cu+2] QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000000622 liquid--liquid extraction Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
- C25C1/12—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of copper
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
Λ G PEM/Kon/JS/87Λ G PEM / Kon / JS / 87
Werkwijze voor de opwerking van metaalhoudende etsoplossingen en voor de terugwinning van het metaal.Process for the reprocessing of metal-containing etching solutions and for the recovery of the metal.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het opwerken van metaalhoudende, in het bijzonder koperhou-dende, basische respectievelijk zure etsoplossingen en voor de terugwinning van metaal, waarbij de etsoplossing met een 5 vloeibaar extractiemiddel wordt behandeld, dat aan de etsoplossing metaal onttrekt, waarna de etsoplossing en het extractiemiddel worden gescheiden en het metaal uit het extractiemiddel wordt teruggewonnen.The invention relates to a method for working up metal-containing, in particular copper-containing, basic or acidic etching solutions and for the recovery of metal, wherein the etching solution is treated with a liquid extractant, which extracts metal from the etching solution, after which the etching solution and the extractant are separated and the metal from the extractant is recovered.
Voor het etsen van platen met gedrukte bedrading worden 10 etsoplossingen gebruikt. In de loop van het etsproces wordt de etsoplossing verbruikt omdat deze zich met het weggeëtste metaal, in het bijzonder koper, verbindt. De ontstane etsoplossingen zijn of basisch of zuur. De basische etsoplossingen bevatten koper in de vorm van kopertetramminechloride, ammo-15 niak en ammoniumchloride. De zure etsoplossingen bevatten meestal koperchloride en zoutzuur.For etching printed circuit boards, 10 etching solutions are used. In the course of the etching process, the etching solution is consumed because it binds with the etched metal, especially copper. The resulting etching solutions are either basic or acidic. The basic etching solutions contain copper in the form of copper tetrammine chloride, ammonia, and ammonium chloride. The acidic etching solutions usually contain copper chloride and hydrochloric acid.
Verbruikte etsoplossingen worden in de praktijk tenminste - wanneer zij niet in het geheel worden afgevoerd -zo verder bewerkt, dat zij als afvalwater niet meer giftig 20 zijn, of zo geregenereerd, dat zij opnieuw voor het etsen kunnen worden gebruikt. Dit is in het bijzonder bij basische etsoplossingen moeilijk, omdat het koper zich in een komplexe vorm bevindt en zich niet zonder meer uit de etsoplossing laat verwijderen. Bovendien zijn de ammoniumzouten zeer 25 toxisch voor vissen en laten zij zich niet op eenvoudige wijze uit het afvalwater verwijderen.Consumed etching solutions are, in practice, at least - if not completely discharged - so processed that they are no longer toxic as waste water, or regenerated so that they can be used again for etching. This is difficult in particular with basic etching solutions, because the copper is in a complex form and cannot be readily removed from the etching solution. Moreover, the ammonium salts are highly toxic to fish and cannot be easily removed from the waste water.
Bij een bekende werkwijze voor het afwerken van de verbruikte etsoplossing ontstaan grote hoeveelheden metaalhy-droxiden die als bijzonder afval behandeld moeten worden, om-30 dat een koperterugwinning uit het metaalhydroxideslib in aanwezigheid van aanhechtende neutrale zouten met een aanzienlijke inspanning is verbonden.A known method of finishing the spent etching solution produces large amounts of metal hydroxides which must be treated as special waste, because a copper recovery from the metal hydroxide sludge in the presence of adhering neutral salts is associated with a considerable effort.
8400788 Λ -¾ - 2 -8400788 Λ -¾ - 2 -
Er is voorgesteld, etsoplossingen zo samen te stellen, dat het kopergehalte tijdens het etsproces zelf, door middel van elektrolyse, ionenuitwisseling, indamping en extractie in een kringloopproces minder wordt. Dergelijke processen kun-5 nen echter alleen economisch zijn, wanneer grote hoeveelheden basische of zure etsoplossing worden gebruikt.It has been proposed to formulate etching solutions such that the copper content decreases during the etching process itself, by means of electrolysis, ion exchange, evaporation and extraction in a circular process. However, such processes can only be economical when large amounts of basic or acidic etching solution are used.
In het EP-PS 000 5415 wordt een methode voor de opwer-king van een ammoniakale, dus basische, etsoplossing en van het spoelwater van het etsproces door middel van vloeistof-10 vloeistof-extractie beschreven. Met dit proces kunnen alleen ammoniakale etsoplossingen geregenereerd worden. Omdat het spoelwater van het etsproces meegebruikt wordt, moet het proces direct bij de etsinstallatie plaatsvinden. Het is dan ook niet geschikt voor bedrijven waarin relatief geringe hoeveel-15 heden van etsoplossingen ontstaan, waarvan de opwerking of regeneratie binnen het bedrijf niet lonend is.EP-PS 000 5415 describes a method for working up an ammoniacal, i.e. basic, etching solution and of the rinsing water of the etching process by means of liquid-liquid extraction. With this process, only ammoniacal etching solutions can be regenerated. Because the rinsing water of the etching process is also used, the process must take place directly at the etching installation. It is therefore not suitable for companies in which relatively small amounts of etching solutions arise, for which the reprocessing or regeneration within the company is not worthwhile.
Het is het doel van de uitvinding, een werkwijze van de in de aanhef genoemde soort te verschaffen, waarbij zowel ba- ? sische als ook zure verbruikte etsoplossingen op een centrale 20 plaats economisch worden opgewerkt, waarbij tenminste de basische etsoplossing geregenereerd wordt en het metaal in metallische vorm wordt teruggewonnen.The object of the invention is to provide a method of the type mentioned in the preamble, in which both both etical and acidic consumed etching solutions are reprocessed at a central location, at least regenerating the basic etching solution and recovering the metal in metallic form.
Volgens de uitvinding wordt het bovenstaande doel bij een werkwijze volgens de in de aanhef genoemde soort bereikt 25 door het feit, dat aan het extractiemiddel, nadat dit aan een basische etsoplossing metaal heeft onttrokken en van de basische etsoplossing is gescheiden, een zure etsoplossing wordt toegevoerd, die daarna van het extractiemiddel wordt gescheiden, waarna het metaal door middel van elektrolyse 30 wordt teruggewonnen.According to the invention, the above object is achieved in a method according to the type mentioned in the preamble, by the fact that an acidic etching solution is supplied to the extraction medium after it has extracted metal from a basic etching solution and has separated it from the basic etching solution. which is then separated from the extractant and the metal is recovered by electrolysis.
Bij de werkwijze volgens de uitvinding onttrekt ten eerste het extractiemiddel, waarbij het bijvoorbeeld om een organische kationenuitwisselaar gaat, metaal aan de basische etsoplossing. Daardoor wordt het ammoniak- of ammoniumgehalte 35 van het extractiemiddel verhoogd, hetgeen ongewenst is. Dit ammoniak- of ammoniumgehalte kan tot storingen van de latere elektrolyse leiden, of gaat als waardevolle stof verloren in de geregenereerde basische etsoplossing.In the process according to the invention, first of all, the extractant, which is, for example, an organic cation exchanger, withdraws metal from the basic etching solution. This increases the ammonia or ammonium content of the extractant, which is undesirable. This ammonia or ammonium content can lead to disturbances in the later electrolysis, or is lost as a valuable substance in the regenerated basic etching solution.
8400768 - 3 -8400768 - 3 -
De tegenextractie met een zure etsoplossing veroorzaakt, dat het ammoniumgehalte in het extractiemiddel niet vergroot wordt, maar dat dit aansluitend direct of indirect aan de basische etsoplossing kan worden toegevoerd. Gelijktijdig is 5 daarmee het extractiemiddel in staat, verder metaal op te nemen. Het onttrekt dit aan de zure etsoplossing. Dit is gunstig voor de volgende metaalterugwinning.The counter-extraction with an acidic etching solution ensures that the ammonium content in the extractant is not increased, but that it can subsequently be supplied directly or indirectly to the basic etching solution. At the same time, the extraction medium is thus able to receive further metal. It extracts this from the acidic etching solution. This is beneficial for the next metal recovery.
Door de uitvinding is de mogelijkheid geschapen, zowel uit basische als ook uit zure etsoplossingen koper als elek-10 trolytisch koper terug te winnen en de van koper ontdane basische etsoplossing opnieuw voor het etsen te gebruiken. De overblijvende eindprodukten vormen geen afvalprobleem en vormen daardoor geen belasting voor het milieu.The invention has made it possible to recover copper as well as electrolytic copper from both basic and acidic etching solutions and to reuse the de-coppered basic etching solution for etching. The remaining end products do not pose a waste problem and therefore do not pose a burden on the environment.
Om de massabalans tussen ammoniak en ammoniumchloride in 15 de verder te gebruiken basische etsoplossing in te stellen, wordt in een voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding aan de basische etsoplossing na de scheiding van het extractiemiddel ammoniak toegevoegd vanuit een afzonderlijke behande-lingstrap, waarin overschietend ammoniumchloride in ammoniak' 20 wordt omgezet.In order to adjust the mass balance between ammonia and ammonium chloride in the basic etching solution to be used, in a preferred embodiment of the invention, after the separation of the extractant, ammonia is added to the basic etching solution from a separate treatment step, in which residual ammonium chloride in ammonia "20 is converted.
Bij de uitvoering van de uitvinding wordt aan de na de scheiding van de basische etsoplossing ontstane extractiemid-delhoeveelheid, een noodzakelijke deelhoeveelheid van de zure etsoplossing toegevoerd. De resterende deelhoeveelheid van de 25 zure etsoplossing wordt na neutralisatie aan een tweede extractiemiddelhoeveelheid toegevoerd, die metaal aan de geneutraliseerde etsoplossing onttrekt, en de beide extractiemiddelhoeveelheden worden samengevoerd, waarna de terugwinning van het metaal plaatsvindt. Daardoor wordt 30 bereikt, dat basische en zure etsoplossingen in in grote mate variërende verhoudingen kunnen worden afgescheiden. Dit begunstigt de economie, omdat de werkwijze op eenvoudige wijze op de telkens ontstane etsoplossingshoeveelheden kan worden afgestemd. Dit wordt nog ondersteund door het feit, 35 dat voor de basische en de zure etsoplossingen hetzelfde t extractiemiddel kan worden gebruikt, dat overeenkomstig de ontstane etsoplossingshoeveelheden over de basische en de zure etsoplossing kan worden verdeeld.In the practice of the invention, a necessary partial amount of the acidic etching solution is added to the extractant amount formed after the separation of the basic etching solution. The remaining partial amount of the acidic etching solution is fed, after neutralization, to a second extractant amount, which extracts metal from the neutralized etching solution, and the two extractant amounts are combined, after which the metal is recovered. This achieves the fact that basic and acidic etching solutions can be separated in widely varying proportions. This favors the economy, because the method can be easily adapted to the respective etching solution quantities. This is further supported by the fact that for the basic and acidic etching solutions the same extractant can be used, which can be divided between the basic and the acidic etching solution according to the etching solution amounts obtained.
8400768 - 4 -8400768 - 4 -
In verdere uitvoering van de uitvinding wordt na de opname van metaal het metaal aan het extractiemiddel respectievelijk aan beide samengevoerde extractiemiddelhoeveelheden onttrokken. Daarna vindt na een scheiding de elektrolyse 5 plaats en het extractiemiddel wordt opnieuw aan de af te scheiden etsoplossingen toegevoerd. Bij de elektrolyse wordt het metaal in metallische vorm teruggewonnen.In a further embodiment of the invention, after the metal has been taken up, the metal is withdrawn from the extractant or from both amounts of extractant combined. Electrolysis then takes place after a separation and the extractant is again fed to the etching solutions to be separated. The metal is recovered in metallic form during electrolysis.
Het is verder doelmatig het metaal op op zichzelf bekende wijze door middel van een regenereerzuur aan het 10 extractiemiddel te onttrekken, en na de elektrolyse de van koper ontdane zuren aan het afscheidingsproces terug te voeren. Bij afscheidingsprocessen, waarbij tussen één of meer van de extractie- respectievelijk tegenextractietrap-pen een wastrap is aangebracht, voorziet de uitvinding, het 15 ontstane waswater door ionenwisselaars voor de verwijdering van koper en/of ammoniak te leiden en daarna deze stoffen in het afscheidingsproces terug te voeren. Daardoor wordt het in het waswater aanwezige koper respectievelijk de ammoniak > teruggewonnen.It is furthermore expedient to withdraw the metal from the extraction medium in a manner known per se by means of a regenerating acid, and to recycle the copper-stripped acids to the separation process after electrolysis. In separation processes, in which a washing step is arranged between one or more of the extraction or counter-extraction steps, the invention provides for the resulting washing water to pass through ion exchangers for the removal of copper and / or ammonia and then these substances back into the separation process. to feed. As a result, the copper or ammonia present in the wash water is recovered.
20 Het wordt ook volgens de uitvinding beoogd, dat het bij de afscheiding van zure etsoplossingen ontstane waswater geneutraliseerd wordt en het ontstane koperhydroxide in de af te scheiden zure etsoplossingen wordt opgelost, zodat men ook hier het in het waswater aanwezige koper terugwint.It is also contemplated according to the invention that the washing water resulting from the separation of acidic etching solutions is neutralized and the copper hydroxide formed is dissolved in the acid etching solutions to be separated, so that the copper present in the washing water is also recovered here.
25 De werkwijze kan continu of discontinu worden uitge voerd. Zij wordt in het bijzonder bij koperhoudende etsoplossingen gebruikt.The method can be carried out continuously or discontinuously. It is used in particular for etching solutions containing copper.
Verdere voordelige uitvoeringsvormen van de werkwijze blijken uit de volgende beschrijving. De figuur toont een 30 werkwijzeschema.Further advantageous embodiments of the method appear from the following description. The figure shows a process scheme.
Uitgangsprodukten van de werkwijze zijn de koperhoudende basische etsoplossing 1 en de koperhoudende zure etsoplossing 2. De basische etsoplossing 1 wordt naar een extractietrap 3 geleid, waarin zij met een extractiemiddelhoeveelheid 4 wordt 35 vermengd. Daarbij neemt het extractiemiddel 4 het koper uit de etsoplossing 1 in zoverre op, dat het kopergehalte van de etsoplossing 1 tot onder 1 g/1 daalt. Bij het extractiemiddel gaat het om een vloeibare kationenwisselaar.Starting products of the process are the copper-containing basic etching solution 1 and the copper-containing acidic etching solution 2. The basic etching solution 1 is led to an extraction stage 3, in which it is mixed with an extractant amount 4. The extracting agent 4 absorbs the copper from the etching solution 1 in that the copper content of the etching solution 1 falls below 1 g / l. The extraction medium is a liquid cation exchanger.
8400768 - 5 —8400768 - 5 -
Noodzakelijkerwijze wordt bij de koperextractie in het extractiemiddel ammoniak toegevoegd.Necessarily, ammonia is added to the copper extraction in the extractant.
In een aansluitende scheidingstrap 5 wordt de van het koper bevrijde basische etsoplossing 6 van het nu koperhou-5 dende en in ammoniumgehalte toegenomen extractiemiddel 7 gescheiden. Het extractiemiddel 7 wordt in een tegenextractie-trap 8 aan een deelhoeveelheid 9 van de zure etsoplossing 2 toegevoerd. Daardoor daalt het ammoniumgehalte van het extractiemiddel 7, zodat het extractiemiddel verder koper uit 10 de deelhoeveelheid 9 kan opnemen.In a subsequent separation step 5, the basic etching solution 6, freed from the copper, is separated from the extractant 7, which now contains copper and which has increased in ammonium content. The extractant 7 is supplied in a counter-extraction step 8 to a partial amount 9 of the acidic etching solution 2. As a result, the ammonium content of the extraction medium 7 decreases, so that the extraction medium can further absorb copper from the partial quantity 9.
In een aansluitende scheidingstrap 10 wordt de van koper bevrijde, ammoniakhoudende zure etsoplossing 11 van het in hoge mate koperhoudende extractiemiddel 12 gescheiden. Een 15 deel van de kopervrije basische etsoplossing 6 en/of van de kopervrije zure etsoplossing 11 wordt in een stripinrichting 13 verwerkt, en de daar vrijkomende ammoniak 30 wordt voor de instelling van het ammoniak-ammoniumchloride-evenwicht in een verdere behandelingstrap 14 aan de afgescheiden basische 20 etsoplossing 6 toegevoerd, zodat in aansluiting aan de behandelingstrap 14 de basische etsoplossing 31 opnieuw kan worden gebruikt.In a subsequent separation step 10, the copper-free, ammonia-containing acidic etching solution 11 is separated from the highly copper-containing extractant 12. A part of the copper-free basic etching solution 6 and / or of the copper-free acid etching solution 11 is processed in a stripper 13, and the ammonia 30 released therein is separated off in a further treatment step 14 to adjust the ammonia-ammonium chloride equilibrium. basic etching solution 6 is supplied, so that the basic etching solution 31 can be reused after treatment step 14.
De deelhoeveelheid 9 wordt zo ingesteld, dat zij het ammoniumgehalte zover reduceert, dat dit gehalte bij de latere 25 elektrolyse niet meer stoort. Een overblijvende deelhoeveelheid 15 van de zure etsoplossing 2 wordt in een neutralisa-tietrap 15 door middel van natronloog 16 tot op een pH-waarde tussen 0 en 4, in het bijzonder tussen 2 en 2,5, geneutraliseerd. Aansluitend wordt de geneutraliseerde deelhoeveelheid 30 17 in een extractietrap 18 met een verdere extractiemiddel-hoeveelheid 19 vermengd. Het extractiemiddel neemt daarbij koper op. Door een verdere scheidingstrap 20 wordt de geneutraliseerde zure etsoplossing 21 van het koperhoudende extractiemiddel 22 gescheiden. Het koperhoudende extractiemid-35 del 22 wordt met het koperhoudende extractiemiddel 12 samengevoerd .The partial amount 9 is adjusted in such a way that it reduces the ammonium content to such an extent that this content no longer interferes with the subsequent electrolysis. A residual portion 15 of the acidic etching solution 2 is neutralized in a neutralization step 15 by means of sodium hydroxide solution 16 to a pH value between 0 and 4, in particular between 2 and 2.5. The neutralized partial quantity 17 is then mixed in an extraction step 18 with a further extractant quantity 19. The extractant thereby absorbs copper. The neutralized acidic etching solution 21 is separated from the copper-containing extractant 22 by a further separation step 20. The copper-containing extraction agent 22 is combined with the copper-containing extraction agent 12.
Het koperhoudende extractiemiddel 12, 22 wordt in een regeneratietrap 23 met zuur, bij voorkeur zwavelzuur 24, vermengd, waarbij het zuur het koper van het extractiemiddel 8400768 - 6 - aan zich bindt. In een scheidingstrap 25 wordt het koperhou-dende zwavelzuur 26 van het in hoge mate van koper bevrijde extractiemiddel 27 gescheiden. Uit het koperhoudende zwavelzuur 28 wordt in een elektrolysecel 28 koper 29 in metal-5 lische vorm teruggewonnen. Het zwavelzuur 24 wordt weer aan de regeneratietrap 23 toegevoerd.The copper-containing extractant 12, 22 is mixed with acid, preferably sulfuric acid 24, in a regeneration step 23, whereby the acid binds the copper of the extractant 8400768-6. In a separating step 25, the copper-containing sulfuric acid 26 is separated from the highly copper-extracted extractant 27. Copper 29 in metallic form is recovered from the copper-containing sulfuric acid 28 in an electrolysis cell 28. The sulfuric acid 24 is fed back to the regeneration stage 23.
Tussen de afzonderlijke extractie- respectievelijke te-genextractietrappen kan bij behoefte een wastrap tussenge-schakeld worden, om ongewenste vreemde ionen van de volgende 10 processtappen weg te houden. Het hierbij ontstane waswater kan ter verwijdering van koper en ammoniak met ionenwisselaars, en ter verwijdering van koper alleen, door neutralisatie worden ontgift. Zowel koper als ook ammoniak worden na elutie respectievelijk oplossen opnieuw aan het afschei-dingsproces toegevoerd.If necessary, a washing step can be interposed between the individual extraction and respective gene extraction steps, in order to keep undesired foreign ions away from the following 10 process steps. The resulting washing water can be detoxified by neutralization to remove copper and ammonia with ion exchangers, and to remove copper alone. Both copper and ammonia are returned to the separation process after elution or dissolution.
84007688400768
Claims (8)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3308849 | 1983-03-12 | ||
| DE19833308849 DE3308849A1 (en) | 1983-03-12 | 1983-03-12 | Method of processing metal-containing etching solutions and recovering the metal |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8400768A true NL8400768A (en) | 1984-10-01 |
Family
ID=6193285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8400768A NL8400768A (en) | 1983-03-12 | 1984-03-09 | METHOD FOR REPROCESSING METAL-CONTAINING ETCHING SOLUTIONS AND METAL RECOVERY |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT381729B (en) |
| DE (1) | DE3308849A1 (en) |
| FR (1) | FR2542325B1 (en) |
| IT (1) | IT1199074B (en) |
| NL (1) | NL8400768A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USH1311H (en) | 1989-02-09 | 1994-05-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company | Methanol synthesis process |
| JP2773183B2 (en) * | 1989-02-09 | 1998-07-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Process for producing methanol synthesis catalyst precursor |
| CN1904142B (en) * | 2006-07-08 | 2012-01-25 | 江门市蓬江区大盈机电设备有限公司 | Copper extraction method of etching waste liquid or low copper containing waste liquid |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1474944A (en) * | 1974-05-30 | 1977-05-25 | Thorsen G | Process for extraction and separation of metals using liquid cation exchangers |
| DE2524546C3 (en) * | 1975-06-03 | 1983-05-19 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | Process for the reprocessing of copper etching waste solutions |
| US4083758A (en) * | 1976-09-27 | 1978-04-11 | Criterion | Process for regenerating and for recovering metallic copper from chloride-containing etching solutions |
| SE411231B (en) * | 1978-05-02 | 1979-12-10 | Mx Processer Reinhardt | PROCEDURE FOR RECYCLING AN AMMONIAL - CALTIC BATH |
| DE3115436A1 (en) * | 1981-04-16 | 1982-12-16 | Erich Rühl chemische Fabrik und Chemikaliengroßhandel, 6382 Friedrichsdorf | Method for reprocessing copper-etching waste solutions involving precipitation of the copper fraction as copper oxide and recovery of ammonia |
-
1983
- 1983-03-12 DE DE19833308849 patent/DE3308849A1/en active Granted
-
1984
- 1984-02-29 IT IT47773/84A patent/IT1199074B/en active
- 1984-03-09 FR FR8403678A patent/FR2542325B1/en not_active Expired
- 1984-03-09 NL NL8400768A patent/NL8400768A/en not_active Application Discontinuation
- 1984-03-12 AT AT0082484A patent/AT381729B/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1199074B (en) | 1988-12-30 |
| DE3308849A1 (en) | 1984-09-13 |
| DE3308849C2 (en) | 1987-07-30 |
| ATA82484A (en) | 1986-04-15 |
| AT381729B (en) | 1986-11-25 |
| FR2542325B1 (en) | 1987-05-15 |
| FR2542325A1 (en) | 1984-09-14 |
| IT8447773A0 (en) | 1984-02-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0005415B1 (en) | A process of regenerating an ammoniacal etching solution | |
| RU98100271A (en) | METHOD FOR REMOVING NICKEL AND COBALT (OPTIONS) | |
| US20010000597A1 (en) | Recovery of zinc from geothermal brines | |
| EP0380879B1 (en) | Removal of acidic impurities in processes for solvent extraction of aromatics from nonaromatics | |
| KR20080073038A (en) | Recycling method for pcb wastes sludge including copper hydroxide | |
| US4289531A (en) | Process for recovering precious metals | |
| US3975244A (en) | Electrolytic refining | |
| NL8400768A (en) | METHOD FOR REPROCESSING METAL-CONTAINING ETCHING SOLUTIONS AND METAL RECOVERY | |
| US2965441A (en) | Ion exchange for the recovery of chemicals | |
| JPS563631A (en) | Platinum group metal recovering method | |
| US6045763A (en) | Process for working up ammoniacal metal solutions including treating the wash water with an organic extraction solution | |
| US5399322A (en) | Selective recovery of dissolved metals and preparation of metal salt products | |
| US4755270A (en) | Method of processing solutions | |
| US5026420A (en) | Purification process for gold-bearing iodine lixiviant | |
| FI69113C (en) | FOERFARANDE FOER SEPARERING OCH UTVINNING AV KOBOLT | |
| US7998441B2 (en) | Method for selective removal of cadmium | |
| CA1040133A (en) | Electrolytically refining silver with complexing of copper ions | |
| JPH0213016B2 (en) | ||
| NL7907664A (en) | METHOD FOR WINNING METALIC COPPER AND CRYSTALLINE NICKEL SULPHATE FROM AMMONIAQUE LOGS. | |
| NL8800906A (en) | EXTRACTING AGENT AND ITS USE IN A METHOD FOR PROCESSING LIQUID AQUEOUS SOLUTIONS BY LIQUID / LIQUID EXTRACTION. | |
| JPS5591979A (en) | Recovering and circulating apparatus for alkaline etching waste solution | |
| JP3312299B2 (en) | Apparatus and method for recovering valuable component of chemical plating solution | |
| JPH0150476B2 (en) | ||
| KR940007179B1 (en) | Method of recovering a copper from ammonium etching solution of copper | |
| CA1235577A (en) | Treatment of residues |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| BV | The patent application has lapsed |