NL8201630A - Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting. - Google Patents

Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting. Download PDF

Info

Publication number
NL8201630A
NL8201630A NL8201630A NL8201630A NL8201630A NL 8201630 A NL8201630 A NL 8201630A NL 8201630 A NL8201630 A NL 8201630A NL 8201630 A NL8201630 A NL 8201630A NL 8201630 A NL8201630 A NL 8201630A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
radiation
pattern
covered
target plate
semiconductor elements
Prior art date
Application number
NL8201630A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8201630A priority Critical patent/NL8201630A/nl
Priority to JP58067154A priority patent/JPS58194233A/ja
Priority to DE8383200564T priority patent/DE3361273D1/de
Priority to EP83200564A priority patent/EP0092293B1/en
Publication of NL8201630A publication Critical patent/NL8201630A/nl
Priority to US06/883,852 priority patent/US4691191A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/12Analogue/digital converters
    • H03M1/22Analogue/digital converters pattern-reading type
    • H03M1/32Analogue/digital converters pattern-reading type using cathode-ray tubes or analoguous two-dimensional deflection systems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Arrangements For Transmission Of Measured Signals (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

PHN 10.330 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven
Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting,
De uitvinding betreft een inrichting voor het cmzetten van een analoog ingangssignaal in overeenkomstige digitale signalen bevattende een elektrcmenbron voor het. genereren van een vlakke elektronenbundel en afbuigplaten voor het afhankelijk van het ingangssignaal doen afbui-5 gen van de eléktronenbundel alsmede een trefplaat voor het opvangen van de afgebogen elektronenbundel welke trefplaat een halfgeleiderlichaam bevat met aan een hoofdoppervlak een eerste stel stralingsgevoelige halfgeleiderelementen die zodanig met een eerste deel van een patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal bedekt zijn dat 10 in de stralingsgevoelige halfgeleiderelementen een aantal digitale signalen kan warden opgewekt die een aantal discrete toestanden van het ingangssignaal weergeven. Daarnaast betreft de uitvinding een trefplaat voor de genoemde inrichting.
Dergelijke inrichtingen worden bijvoorbeeld toegepast in appa-15 ratuur waarin analoge signalen bij zeer hoge frequenties (in de orde van 10-100 MHz) voor verdere verwerking cmgezet worden in digitale signalen.
Een inrichting van de bovengenoemde soort is bekend uit het artikel "Electron beam solves problems of high-speed digitizing" door R. Hayes, verschenen in "Industrial Research and Development", Vol. 22, 20 May 1980, pagina 124-130. Hierin wordt een digitaalcmzetter (digitizer) beschreven ten behoeve van oscilloscopie.
De aldaar getoonde inrichting bevat een elektronenbron waarmee een vlakke eléktronenbundel wordt gegenereerd. Na zonodig enige vorm-correcties te hebben ondergaan wordt de bundel tussen twee afbuigplaten 25 doorgevoerd waaraan het can te zetten analoge signaal als afbuigspanning wordt toegevoerd. Nadat de bundel hierdoor al dan niet is afgebogen bereikt deze een trefplaat die voorzien is van een aantal stralingsgevoelige dioden. Deze dioden zijn bedekt met een metaalpatroon dat een zekere code, in dit geval de Gray-code representeert. Afhankelijk van de 35 plaats waar de bundel de trefplaat treft worden meer of minder stralingsgevoelige dioden door deze elektronenbundel getroffen en gaan dientengevolge strocrn voeren. De van deze dioden afkomstige signalen worden vergeleken met een referentieniveau dat ongeveer op een gemiddelde waarde 8201630 ί * ΡΗΝ 10.330 2 r . ligt tussen het signaal afkomstig van een diode bij volledige bestraling en het signaal afkomstig van een onbestraalde diode. Bij deze vergelijking wordt het signaal als een logische "1" of als een logische "0" herkend en doorgegeven voor verdere verwerking in een digitale schakeling.
5 Aangezien deze inrichtingen veelal toegepast worden in snelle oscilloscopie en andere vormen van signaalverwerking waarbij snelle ana-loog-digitaal-cmzetting plaatsvindt is het van belang dat deze herkenning zo snel mogelijk plaatsvindt.
De onderhavige uitvinding stelt zich ten doel hierin te voor-10 zien en dientengevolge te bereiken dat dergelijke inrichtingen bij hogere frequenties gebruikt kunnen warden dan de bekende analoog-digitaaL cmzetters.
Een inrichting volgens de uitvinding heeft hiertoe het kenmerk dat het halfgeleiderlichaam aan het hoofdoppervlak voorzien is van een 15 tweede stel stralingsgevoelige halfgeleiderelementen die praktisch volledig bedekt zijn met een ten opzichte van het eerste deel gezien praktisch complementair tweede deel van het patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal.
Onder praktisch complementair dient in dit verband niet te 20 worden begrepen dat delen van het eerste patroon geheel ontbreken ter plaatse van overeenkomstige delen van het tweede patroon. Wel wordt hiermee bedoeld dat waar een stralingsgevoelige diode of ander stralingsgevoelig halfgeleiderelement door bijvoorbeeld een eerste metaalpatroon bedekt is de complementaire diode doorgaans op de overeenkomstige plaats 25 voor althans het grootste gedeelte niet door het metaalpatroon of door een veel dunner metaalpatroon bedekt is en omgekeerd.
De uitvinding berust qp het inzicht dat het tegelijkertijd kunnen beschikken over een signaal en het bijbehorende complementaire signaal een zeer snelle verwerking van de signalen mogelijk maakt cmr 30 dat nu in plaats van een schakeling waarin een signaal wordt vergeleken met een referentieniveau een differentiaal versterker kan worden gebruikt cm de van de stralingsgevoelige halfgeleiderelementen afkomstige signalen als "0" of "1” te herkennen en aan een verwerkingseenheid toe te voeren. Het van de trefplaat afkomstige signaal en het hieraan ccm-35 plementaire signaal worden nu namelijk aan de beide ingangen van de differentiaalversterker, die eventueel in hetzelfde halfgeleiderlichaam kan worden gerealiseerd, toegevoerd waardoor de herkenning wordt versneld (push-pull-verwerking).
8201630 & 4 t EHN 10.330 3
Daarnaast kan het van een diergelijke differentiaalversterker afkanstig digitaal-signaal (en zonodig het complementaire signaal) aan meerdere verwerkingseenheden warden· afgegeven hetgeen de flexibiliteit ten aanzien van de gegevensverwerking vergroot.
5 Een geringe gevoeligheid voor uitrichtfouten van het vlak van de elektranenbundel ten opzichte van de trefplaat kan verkregen worden door het patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal zodanig aan te brengen dat bij de overgang van een discrete toestand naar een volgende discrete toestand slechts in één paar stralingsge-10 voelige halfgeleiderelementen signaalveranderingen optreden, bijvoorbeeld door een patroon te gebruiken dat met behulp van de Gray-code wordt verkregen.
Een voorkeursuitvoering van een inrichting volgens de uitvinding heeft het kenmerk, dat ten minste één stel door complementaire 15 delen van het patroon van voor straling ondoorlaatbaar materiaal bedekte stralingsgevoelige halfgeleiderelementen aan ten minste één uiteinde van het patroon qp identieke wijze door dit patroon wordt bedekt of vrijgelaten.
Hiermee kan op eenvoudige wijze de maximale spanning, die 20 door de inrichting in een digitaal signaal kan worden omgezet, gedetecteerd worden.
Voor de onderlinge isolatie van de stralingsgevoelige halfgeleiderelementen en eventuele tussengelegen andere elementen, zoals bijvoorbeeld beschermingsdioden kan gebruik gemaakt worden van het prin-25 cipe zoals beschreven in de op 1 februari 1982 ter visie gelegde'Nederlandse Octrooiaanvrage No. 8003906 van Aanvraagster. Dit geeft een aanzienlijke ruimtebesparing omdat dan de afstand tussen deze elementen zeer klein gekozen kan worden (in de orde van 10 micrometer of minder).
Een trefplaat voor toepassing in een inrichting volgens de 30 uitvinding heeft het kenmerk, dat deze een halfgeleiderlichaam bevat met aan een hoofdoppervlak een eerste en een tweede stel stralingsgevoelige halfgeleiderelementen die bedekt zijn met ten opzichte van elkaar gezien praktisch complementaire delen van een patroon van voor straling ondoorlaatbaar materiaal.
35 De uitvinding zal thans nader worden toegelicht aan de hand van enkele uitvoeringsvoorbeelden en de tekening, waarin
Figuur 1 schematisch een inrichting volgens de uitvinding weergeeft; 8201630 r EHN 10.330 4
V
*
Figuur 2 in een schematisch bovenaanzien een deel van het ma-talliseringspatroon toont van een trefplaat voor toepassing in een dergelijke inrichting terwijl
Figuur 3 schematisch een dwarsdoorsnede toont van de trefplaat 5 volgens de lijn III-III in figuur 2 ai
Figuur 4 schematisch een alternatief toont voor de inrichting van figuur .3.; .
De figuren zijn schematisch en niet op schaal getekend waarbij, ter wille van de duidelijkheid, in de dwarsdoorsneden in het bijzonder 10 de afmetingen in de dücterichting sterk zijn overdreven. Halfgeleider-zones van hetzelfde geleidingstype zijn in het algemeen in dezelfde richting gearceerd; in de verschillende uitvoeringsvormen zijn overeenkomstige delen in de regel met dezelfde verwijzingscijfers aangeduid.
De inrichting van Figuur 1 bevat een kathode 2 waarmee een vlakke 15 elektronenbundel 3 wordt gegenereerd. De kathode kan van het conventionele type zijn (hete kathodes) maar met name voor het genereren van een vlakke eléktronenbundel met geringe dikte zijn de koude kathoden zoals beschreven in de qp 31 juli 1979 ter visie gelegde Nederlandse Octrooiaanvrage No. 7800987 en de qp 15 januari 1981 ter visie gelegde 20 Nederlandse Octrooiaanvrage No. 7905470 van Aanvraagster zeer geschikt.
Nadat de elektronen die deel uitmaken van de elektronenbundel 3 een versnellingselement 4 en een elektronenlens 5 ten behoeve van verticale focussering doorlopen hebben, worden zij afgebogen door de af-buigeléktroden 6, 7 waaraan een cm te zetten analoge spanning wordt 25 toegevoerd. Na nog een horizontale focusseringslens 8 en horizontale elektroden 9 ten behoeve van horizontale positionering gepasseerd, te hebben treft de elektronenbundel 3 een halfgeleider inrichting 11, gemonteerd qp een houder 10.
De halfgeleider 11 bevat een laagohmig substraat 23 (zie figuur 3) 30 van het n-geleidingstype waarop een n-type epitaxiale laag 24 is aangegroeid. In een eerste uitvoering (figuur 3) bevinden zich stralingsgevoelige dioden gevormd door de pn-overgangen 35 tussen de epitaxiale laat 24 en p-type oppervlaktegebieden 25. De onderlinge afstand tussen twee p-type oppervlaktegebieden 25 is hierbij zo klein gekozen , 35 bijvoorbeeld 10 micrometer, dat door het aanleggen over naast elkaar gelegen dioden van een sper spanning, die tevens de bedrijfsspanning is, de epitaxiale laag 24 tussen naastgelegen gebieden 25 vrijwel geheel gedepleerd kan worden door bij de pn-overgangen 35 beho- 8201630 » EHN 10330 5 rende uitputtingsgebieden 28. Door deze uitputtingsgebieden als het ware aan elkaar te laten raken huigen de elektrische veldlijnen zodanig af dat ten gevolge van het heersend elektrisch veld de in het uitputtings-gebied gegenereerde ladingsdragers zich praktisch altijd naar de bij-5 behorende pn-overgang begeven en zo bijdragen aan de in deze pn-over-gang opgewekte stroon. Voor een nadere beschrijving van dit mechanisme zij verwezen naar de pp 1 februari 1982 ter visie gelegde Nederlandse Octrooiaanvrage NP. 8003906 van Aanvraagster.
Het oppervlak 26 is bedekt met een isolerende laag 27 waarin 10 zich ccntactgaten 36 bevinden. Via deze contactgaten warden de onderliggende p-type gebieden 25 gecontacteerd door middel van een metalliserings-patroon van bijvoorbeeld aluminium dat gedeeltelijk is weergegeven in figuur 2. Dit patroon bedekt qp plaatsen 29 (zie figuren 2, 3) het onderliggende halfgeleiderlichaam geheel terwijl het pp plaatsen 30 15 het halfgeleiderlichaam voor het grootste deel onbedekt laat. In het onderhavige voorbeeld zijn de patronen van twee naast elkaar gelegen dioden complementair, dat wil zeggen dat over praktisch het gehele oppervlak van twee dioden bij naast elkaar gelegen delen de ene diode door het metaal patroon is bedekt en het naastgelegen deel van de an-20 dere diode praktisch onbedekt is. Wanneer de trefplaat nu getroffen wordt door de bundel 3, bijvoorbeeld zoals aangegeven in figuur 2 ter plaatse van de smalle band 34 zal een praktisch onbedekte diode stroom gaan voeren, terwijl de dioden, bedekt door de metaallaag 29 geen of vrijwel geen stroom voeren; deze stromen worden met behulp van weer-25 standen of anderszins omgezet in elektrische spanningen. Dit geeft aanleiding tot 2 complementaire signalen 12, 12' op de signaalpennen 13, 14 van de halfgeleiderinrichting 11, die worden toegevoerd aan de ingangs-transistoren 17, 18 van de schematisch weergegeven differentiaal versterker 15. De differentiaalversterker 15 bevat een stroombron 16. Afhan-30 kelijk van de waarde van de signalen 12, 12' voert êën van de beide transistoren 17, 18 stroom hetgeen aanleiding geeft tot een spannings-val over één van de beide weerstanden 19, 20. Deze spanningsval respectievelijk het ontbreken daarvan geeft aanleiding tot digitale signalen pp de signaallijnen 21, 21'. Deze signalen worden vervolgens,zonodig 35 via niet in figuur 1 getékende emittervolgers, toegevoerd aan een digitale verwerkingseenheid 22.
Doordat het cmschakelen van de door de stroombron 16 gegenereerde stroom van twee zijden plaatsvindt met behulp van de ccmplemen- 8201630 PHN 10.330 6 taire signalen 12, 12' die een tegengesteld signaalverloop vertonen, kan dit cmschakelen veel sneller geschieden dan bij het vergelijken van één enkel signaal met een vaste referentiewaarde.
Het metaalpatroon 29 in figuur 2. is aangebracht volgens de 5 Gray-code en zijn complement. Dit heeft het voordeel dat bij het veranderen van één discrete toestand in een volgende slechts in één stel complementaire dioden signaalverandering optreedt; dit heeft een betrouwbaarder werking van de inrichting ten gevolge. Hoewel hier slechts de bedekking van 4 dioden en de bijbehorende complementaire dioden wordt 10 getooid kan het aantal dioden uiteraard worden uitgebreid.
In de inrichting volgens figuur 4 zijn tussen de p-type oppervlakken 25 extra p-type gebieden 32 in de n-fype epitaxiale laag 24 aangebracht. De hierdoor ontstane pn-overgangen 36 vormen beschermings-dioden die door vorming van elektrische oppervlaktevelden de schadelijke 15 werking van invallende röntgenstraling enigszins beperken.
Het complementaire metaalpatroon bestaat in dit voorbeeld uit delen die tot het dikke metalliseringspatroon 29 behoren en in de ene diode het oppervlak geheel bedekken terwijl ter plaatse van overeenkomstige delen van de complementaire dioden het oppervlak bedekt is 2o met een dun metaallaagje 31. Dit metaal laagje 31 is voldoende dun cm zoveel elektronen door te laten dat in de onderliggende diode een stroom wordt gegenereerd bij als de diode ter plaatse van de dunne laag 31 door de elektronenbundel 3 wordt getroffen. De stralingsgevoelige dioden en de beschermingsdioden zijn in de gebruikstoestand weer zodanig 25 in de keerrichting voorgespannen dat de uitputtingszones behorend bij naast elkaar gelegen pn-overgangen 35, 36 aan elkaar raken.
Het in figuur 2 weergegeven metaalpatroon is bij één stel dioden aan één van zijn uiteinden, aangegeven met het verwijzingscijfer 33, niet met metaal bedekt. Hiermee wordt bereikt dat, wanneer de 3Q buidel 3, 34 deze uiteinden treft de bijbehorende complementaire dioden beiden stroom gaan voeren en de differentiaalversterker geen gedefinieerd signaal af geeft. Op deze wijze kan gedetecteerd worden wanneer de elektronenbundel het uiteinde van de trefplaat raakt en de analoog-digitaal-cmzetter de grens heeft bereikt, waarboven geen signalen meer 35 in digitale waarden kunnen worden omgezet. Eenzelfde effect wordt bereikt door ter plaatse van de uiteinden aangegeven net het verwijzingscijfer 33 beide dioden met een dikke metaallaag te bedekken.
Het spreekt vanzelf dat de uitvinding niet beperkt is tot de 8201630 PHN 10.330 7 -- «* t bovengenoemde voorbeelden maar dat binnen het kader van de uitvinding .. voor de vakman diverse variaties mogelijk zijn. Zo kunnen waar nu bij slechts één paar complementaire dioden de uiteinden 33 onbedekt zijn de uiteinden van meerdere paren complementaire dioden onbedekt g blijven. Evenmin behoeven, zoals in de figuren 2, 3 twee complementaire dioden direct naast elkaar te liggen, maar kunnen bijvoorbeeld een stel dioden bedekt met een masker met een Gray-code patroon aan één kant van de trefplaat liggen en een stel dioden bedekt met het complementaire patroon aan de andere kant, terwijl ook mengvormen mogelijk zijn. Met ju name wanneer de dioden waarover de fijnste structuur van het patroon 29 wordt aangebracht zich aan de beide uiterste zijden bevinden is de reeds eerder genoemde ongevoeligheid voor uitrichtfouten van de elektronenbundel optimaal.
In plaats van door het al of niet op gelijke wijze bedekt dan j5 wel onbedekt laten van de uiteinden van de dioden kunnen de signalen die het eind of begin van het signaalbereikt aangeven ook worden ontleend aan buiten de tekening van figuur 2 gelegen dioden, die daarnaast bijvoorbeeld ten behoeve van calibratie kunnen worden gébruikt.
Ook andere stralingsgevoelige elementen zoals stralingsge-2q voelige transistoren kunnen worden gebruikt. Daarnaast kan het gelei-dingstype van de gebieden 32 gelijk gekozen worden aan dat van de epi-taxiale laag; bij voldoend hoge dotering fungeren deze gebieden dan als kanaalonderbrekers. Tenslotte kunnen voor het patroon 29 andere materialen gekozen worden zoals bijvoorbeeld een dikke laag oxyde.
25 Bovendien kunnen, zoals reeds genoemd, de differentiaalver- sterker 15 en eventueel elementen van de verwerkingseenheid 22 in hetzelfde halfgeleiderlichaam verwerkt worden als waarin de^trefplaat wordt gerealiseerd.
30 35 8201630

Claims (14)

  1. 2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de signalen afkomstig van een door een eerste deel van het patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal bedekt stralingsgevoelig 20 halfgeleiderelement en van een tweede door een aan het eerste deel complementair deel van het patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal bedekt stralingsgevoelig halfgeleiderelement worden toegevoerd aan complementaire ingangen van een differentiaalversterker die ten minste êên signaal kan afgeven aan een verwerkingseenheid.
  2. 3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dathet patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal zodanig is aangebracht dat bij de overgang van een discrete toestand naar een volgende discrete toestand slechts in êên paar stralingsgevoelige halfgeleiderelementen signaalveranderingen optreden.
  3. 4. Inrichting volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat delen van het patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal corresponderen met de "Q"-posities van de Gray-code en zijn complement.
  4. 5. Inrichting volgens êên der vorige conclusies, met het kenmerk, dat ten minste êên stel door complementaire delen van het patroon 35 van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal bedekte stralingsgevoelige halfgeleiderelementen aan ten minste êên uiteinde van dit patroon op identieke wijze door dit patroon wordt bedekt of vrijgelaten.
  5. 6. Inrichting volgens êên der vorige conclusies, met het kenmerk, 8201630 . -\ -, EHN 10.330 9 - dat het voor straling praktisch ondcorlaatbaar patroon een metaalpa-troon bevat.
  6. 7. Inrichting volgens één der vorige conclusies , met het kenmerk, dat het halfgeleiderlichaam aan het hoofdoppervlak tussen twee 5 stralingsgevoelige halfgeleiderelementen een beschermingsdiode bevat.
  7. 8. Inrichting volgens één der vorige conclusies, met het kenmerk, dat de stralingsgevoelige halfgeleiderelementen stralingsgevoelige dioden bevatten.
  8. 9. Inrichting volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat de af-10 stand tussen naastgelegen dioden ten hoogste 10 micrometer bedraagt.
  9. 10. Trefplaat voor toepassing in een inrichting volgens één der conclusies 1 tot en met 9, met het kenmerk , dat de trefplaat een halfgeleiderlichaam bevat met aan een hoofdoppervlak een eerste en een tweede stel stralingsgevoelige halfgeleiderelementen, die bedekt zijn 15 met ten opzichte van elkaar gezien praktisch complementaire delen van een patroon van voor straling praktisch ondoorlaatbaar materiaal.
  10. 11. Trefplaat volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat delen van het patroon corresponderen met de "0,r-posities van de Gray-code en zijn complement. 20 12· Trefplaat volgens conclusie 10 of 11, met het kenmerk, dat ten minste één stel door complementaire delen van het patroon bedekte stralingsgevoelige halfgeleiderelementen aan ten minste één uiteinde van het patroon op identieke wijze door het patroon wordt bedekt of vrijgelaten.
  11. 13. Trefplaat volgens één der. conclusies 10 tot en met 12, met het kenmerk dat het patroon een metaalpatroon bevat.
  12. 14. Trefplaat volgens één der conclusies 10 tot en met 13, met het kenmerk, dat het halfgeleiderlichaam aan het hoofdoppervlak tussen twee stralingsgevoelige halfgeleiderelementen een beschermings- 3Q diode bevat.
  13. 15. Trefplaat volgens één der conclusies 10 tot en met 14, met het kenmerk, dat de stralingsgevoelige halfgeleiderelementen stralingsgevoelige dioden bevatten.
  14. 16. Trefplaat volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat de af-35 stand tussen naastgelegen dioden ten hoogste 10 miereneter bedraagt. 8201630
NL8201630A 1982-04-20 1982-04-20 Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting. NL8201630A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8201630A NL8201630A (nl) 1982-04-20 1982-04-20 Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting.
JP58067154A JPS58194233A (ja) 1982-04-20 1983-04-18 アナログ入力信号を対応するデイジタル信号に変換する装置
DE8383200564T DE3361273D1 (en) 1982-04-20 1983-04-19 Device for signal processing and target plate for such a device
EP83200564A EP0092293B1 (en) 1982-04-20 1983-04-19 Device for signal processing and target plate for such a device
US06/883,852 US4691191A (en) 1982-04-20 1986-07-10 Device for signal processing and target plate for such a device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8201630 1982-04-20
NL8201630A NL8201630A (nl) 1982-04-20 1982-04-20 Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8201630A true NL8201630A (nl) 1983-11-16

Family

ID=19839609

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8201630A NL8201630A (nl) 1982-04-20 1982-04-20 Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4691191A (nl)
EP (1) EP0092293B1 (nl)
JP (1) JPS58194233A (nl)
DE (1) DE3361273D1 (nl)
NL (1) NL8201630A (nl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3514409A1 (de) * 1985-04-20 1986-01-02 Eduard 7989 Argenbühl Heindl Analog-digitalwandler
DE3605141A1 (de) * 1986-02-18 1987-08-20 Messerschmitt Boelkow Blohm Digitaler positionsgeber
EP0365702A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-02 Heimann Optoelectronics GmbH Digitaler Stellungsgeber

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3445715A (en) * 1965-10-12 1969-05-20 Thomas W Dombeck Information storage apparatus
JPS4419389Y1 (nl) * 1968-08-28 1969-08-20
JPS45333Y1 (nl) * 1969-02-17 1970-01-09
US3774168A (en) * 1970-08-03 1973-11-20 Ncr Co Memory with self-clocking beam access
US3878532A (en) * 1972-06-05 1975-04-15 Westinghouse Electric Corp High-frequency analogue to digital conversion apparatus
US3937997A (en) * 1974-09-13 1976-02-10 Dene Barrett Cathode-ray tube signal generator having resistance configurated electron receptor
US4005408A (en) * 1975-10-08 1977-01-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Multiple electron beam analog to digital converter
US4034363A (en) * 1976-01-14 1977-07-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Real time data rate quantizer and analog-to-digital converter system
SU580573A1 (ru) * 1976-06-07 1977-11-15 Предприятие П/Я А-7734 Преобразователь угол-код
SU643941A1 (ru) * 1976-09-13 1979-01-25 Предприятие П/Я В-2942 Преобразователь перемещение-код
JPS5941351B2 (ja) * 1976-09-13 1984-10-06 株式会社日立製作所 カラ−用固体撮像素子
DD134298A1 (de) * 1977-12-01 1979-02-14 Dietrich Francke Schaltungsanordnung zur fehlerueberwachung bei der erfassung codierter messwerte
US4227187A (en) * 1979-03-30 1980-10-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force High speed real time quantizer and analog/digital converter

Also Published As

Publication number Publication date
EP0092293B1 (en) 1985-11-21
EP0092293A1 (en) 1983-10-26
DE3361273D1 (en) 1986-01-02
JPS58194233A (ja) 1983-11-12
US4691191A (en) 1987-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3403284A (en) Target structure storage device using diode array
JP2954034B2 (ja) 単一キャリア型固体放射線検出装置
US3419746A (en) Light sensitive storage device including diode array
Talmi TV-Type Multichan
SE446417B (sv) Katodstraleanordning
US4271435A (en) Scanning type readout device
NL8003906A (nl) Stralingsgevoelige halfgeleiderinrichting.
US5777352A (en) Photodetector structure
US3562418A (en) Solid state image converter system
US3604987A (en) Radiation-sensing device comprising an array of photodiodes and switching devices in a body of semiconductor material
US7332708B2 (en) Optical encoder
US3649837A (en) Diffractive image-forming means integrated into semiconducting devices
NL8201630A (nl) Inrichting ten behoeve van signaalverwerking en trefplaat voor een dergelijke inrichting.
EP0073235A4 (en) REALIGNMENT SYSTEM FOR AN EXPOSURE DEVICE BY MEANS OF CHARGED PARTICLES.
US3704377A (en) Laser comprising fresnel optics
GB2143373A (en) Radiation-sensitive diode
Schmidt et al. Position-sensitive photodetectors made with standard silicon-planar technology
US4931648A (en) Thermal radiation imaging devices and systems
US3633077A (en) Semiconductor photoelectric converting device having spaced elements for decreasing surface recombination of minority carriers
US3679826A (en) Solid state image sensing device
AU596782B1 (en) Imaging devices, elements and systems
US3838276A (en) Phototransistor array having reduced crosstalk
US3778657A (en) Target having a mosaic made up of a plurality of p-n junction elements
US3609375A (en) Solid state linear photosensor
US3541383A (en) Solid state scan converter utilizing electron guns

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed