NL8100570A - Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. - Google Patents
Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8100570A NL8100570A NL8100570A NL8100570A NL8100570A NL 8100570 A NL8100570 A NL 8100570A NL 8100570 A NL8100570 A NL 8100570A NL 8100570 A NL8100570 A NL 8100570A NL 8100570 A NL8100570 A NL 8100570A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- aluminum
- liquid
- galvanic deposition
- ligand
- halohydride
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/42—Electroplating: Baths therefor from solutions of light metals
- C25D3/44—Aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Secondary Cells (AREA)
Description
....... " '..... T
iy -I
-v* PHN 9951 1 N. V. Philips* Gloeilampenfabrieken te Eindhoven "Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium".
De uitvinding heeft betrekking op een elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van duktiel aluminium op een elektrisch geleidend substraat, de werkwijze voor het langs galvanische weg neerslaan van duktiel aluminium op een substraat en op de aldus verkregen 5 produkten.
Uit het U.S. Octrooischrift 3,355,368 is een dergelijke vloeistof bekend, dat in hoofdzaak bestaat uit een organisch complex van een aluminiumhalohydride en een ether, terwijl de vloeistof ongeveer O, 1 - 5 vol.% vrije ether bevat.
10 Chi een dergelijk bad te bereiden, wordt een oplossing van
AlCl^ en LiAlH^ in ether in een molaire verhouding samengebracht waarbij het halohydride, b.v. A1HC12 wordt gevormd. De oplossing wordt af gedampt op het kookpunt van het oplosmiddel tot de genoemde hoeveelheid rest-oplosmiddel is bereikt. Het bad wordt voor elektrolyse toe-15 gepast bij een temperatuur tussen het smeltpunt en kookpunt van de oplossing. De bedoeling van deze bereidingswijze is de brandgevaarlijkheid te elimineren. Ondanks het verminderde gevaar van brand of explosie van het bad wordt toch aanbevolen, het bad onder een beschermende atmosfeer te bedrijven.
20 Door deze omslachtige bereidingswijze is dit galvanische bad voor praktische toepassing niet erg aantrekkelijk.
Voorts is uit het U.S. Octrooischrift 4,145,261 een elektrolytvloeistof bekend dat een aprotisch oplosmiddel met etherstruktuur en een tweede, inert aprotisch oplosmiddel of een oplosmiddel dat in 25 staat is tot het vormen van een ccördinatieve verbinding omvat, waarin watervrij aluminiumchloride en een metaalhydride opgelost zijn. Het oplosmiddel met etherstruktuur heeft de formule RO-(CH0)_ - 0 - (CH-0 - q Z XlL j μ Ω OR , waarin m en n gehele getallen tussen 1 en 6 zijn en R en R alkyl-groepen.
2 30 Een bezwaar van deze vloeistof is, dat er slechts tot 1 A/dm aluminium mee kan worden neergeslagen en dat het verkregen aluminium meestal bros is.
Volgens de uitvinding is het nu mogelijk gebleken, duktiel 8100570 i i __j » * 6 « ΡΗΝ 9951 2 2 aluminium met een stroamsterkte tot meer dan 4A/dm te verkrijgen.
De electrolytvloeistof die een organisch complex van een aluminiumhalohydride bevat is volgens de uitvinding daardoor gekenmerkt, dat de vloeistof bestaat uit een oplossing van êên of meer verbindingen 5 MH^Cly.nL in een aprotisch oplosmiddel van de structuur RO - (CH2)m -0 - (CEL) - OR**, waarin x + y = 3 en x zowel als y tenminste 0,25 en « Tl ten hoogste 2,75 bedragen, L een ligand is dat met het halohydride een coördinatieve verbinding vormt, 10 R en R alkylgroepen zijn en m en n gehele getallen tussen 1 en 6.
Het blijkt van voordeel te zijn in vergelijking tot bekende vloeistoffen dat die volgens de uitvinding geen Li bevat. Dit heeft blijkbaar tot gevolg, dat hogere stroomdichtheden kunnen worden toege-15 past bij de elektrolyse en dat het ermede neergeslagen aluminium duk-tiel is.
De bereiding van de verbindingen A1H Cl .nL voor L = (CH9).0 x y ^4 (tetrahydrofuraan) respectievelijk triethylamine ^Η,-^Ν kan worden ontleend aan het handboek "Hydrides of the Elements of Main Groups I-IV 20 van E. Wiberg en E. Amberger, Elsevier, Amsterdam, London, New York 1971. Andere mogelijke verbindingen L zijn· trimethylamine, tripropyl-amine, 2-methyl-tetrahydrofuraan en 2,3-dimethyltetrahydrofuraan.
Ter toelichting van de uitvinding dienen de volgende uitvoer r ingsvoorbeelden.
25 Voorbeeld 1
In 200 ml diethyleenglycoldiethylether wordt 60 g kristallijn A1H2C1.N 2 opgelost. Het soortelijke geleidingsvermogen X van deze oplossing bedraag 2,6 mS cm \ Elektrolyseproeven worden bij kamer- 2 temperatuur uitgevoerd bij 0,5-1 - 2- 3- 4en5 A/dm . Goed duk- 2 2 30 tiel aluminium wordt verkregen tot 4A/dm . De badspanning bij 1 A/dm is 3,6 V. De verkregen aluminiumlagen ter dikte van ongeveer 11 ^um zijn goed hechtend aan het kopersubstraat en bezitten een goede buigbaarheid van meer dan 4 buigingen.
Eén buiging bestaat uit het vouwen van het losgepelde alumi-35 nium, glad strijken van de vouw en het weer terug vouwen..
Voorbeeld 2
In 150 ml gedestilleerde diethyleenglycoldimethylether wordt 55,8 A1C1.J ,-H.j 5 . 2 (CH2)^0 opgelost, welke oplossing een specifiek 8100570 ί PEN 9951 3 “1 2 geleidingsvermogen van 3,2 mS cm bezit. Bij 1 A/dm. bedraagt de bad- spanning 3,4 V. Goed duktiel aluminium wordt in het gehele strocmdicht- 2 heidsgebied van 0,5 tot en met 4,0 A/dm verkregen.
5 10 15 20 25 30 8 1 0 0 5 7 0 35
Claims (5)
1. Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium op een substraat, die een organisch complex van een aluminiumhalohydride bevat, met het kenmerk, dat de vloeistof bestaat uit een oplossing van één of meer verbindingen Aliy31y.nL in een aprotisch oplosmiddel van 5 de structuur PO- (0¾) - 0 - (CH2)n - OR1, waarin x + y = 3 en x zowel als y tenminste 0,25 en ten hoogste 2,75 bedragen, L een ligand is dat met het halohydride een coördinatieve 10 verbinding vormt, R en R alkylgroepen zijn en m en n gehele getallen tussen 1 en 6 zijn.
2. Elektrolytvloeistof volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het ligand L . ·. tetrahydrofuraan is.
3. Elektrolytvloeistof volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het ligand L triethylamine is.
4. Werkwijze voor het galvanisch neerslaan van duktiel aluminium op een elektrisch geleidend substaat onder toepassing van een elektrolytvloeistof volgens één van de conclusies 1 t/m 3.
5. Substraat dat met een volgens conclusie 4 verkregen laag duk tiel aluminium is bedekt. 25 30 8100570 35
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8100570A NL8100570A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
US06/339,932 US4379030A (en) | 1981-02-06 | 1982-01-18 | Aluminum electroplating solution |
EP82200096A EP0057954B1 (en) | 1981-02-06 | 1982-01-27 | Aluminium electroplating solution |
DE8282200096T DE3263204D1 (en) | 1981-02-06 | 1982-01-27 | Aluminium electroplating solution |
JP57015037A JPS6053758B2 (ja) | 1981-02-06 | 1982-02-03 | アルミニウム電解液および電着方法 |
CA000395594A CA1193995A (en) | 1981-02-06 | 1982-02-04 | Aluminium electroplating solution |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8100570 | 1981-02-06 | ||
NL8100570A NL8100570A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8100570A true NL8100570A (nl) | 1982-09-01 |
Family
ID=19836977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8100570A NL8100570A (nl) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4379030A (nl) |
EP (1) | EP0057954B1 (nl) |
JP (1) | JPS6053758B2 (nl) |
CA (1) | CA1193995A (nl) |
DE (1) | DE3263204D1 (nl) |
NL (1) | NL8100570A (nl) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1761878B (zh) * | 2003-03-14 | 2012-04-11 | 财团法人北九州产业学术推进机构 | 固定了生物物质的芯片及其用途 |
US10208391B2 (en) | 2014-10-17 | 2019-02-19 | Ut-Battelle, Llc | Aluminum trihalide-neutral ligand ionic liquids and their use in aluminum deposition |
US11142841B2 (en) | 2019-09-17 | 2021-10-12 | Consolidated Nuclear Security, LLC | Methods for electropolishing and coating aluminum on air and/or moisture sensitive substrates |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3268421A (en) * | 1961-12-04 | 1966-08-23 | Nat Steel Corp | Electrodeposition of metals from a fused bath of aluminum halohydride organic complex and composition therefor |
US3355368A (en) * | 1962-12-13 | 1967-11-28 | Nat Steel Corp | Electrodeposition of metals |
NL182972C (nl) * | 1977-02-25 | 1988-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor de bereiding van een electrolyt voor het galvanisch neerslaan van aluminium; substraat, voorzien van een laag ductiel aluminium. |
NL187213C (nl) * | 1978-05-22 | 1991-07-01 | Philips Nv | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. |
NL7812062A (nl) * | 1978-12-12 | 1980-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van voorwerpen met een superglad aluminium oppervlak. |
-
1981
- 1981-02-06 NL NL8100570A patent/NL8100570A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-01-18 US US06/339,932 patent/US4379030A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-01-27 DE DE8282200096T patent/DE3263204D1/de not_active Expired
- 1982-01-27 EP EP82200096A patent/EP0057954B1/en not_active Expired
- 1982-02-03 JP JP57015037A patent/JPS6053758B2/ja not_active Expired
- 1982-02-04 CA CA000395594A patent/CA1193995A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1193995A (en) | 1985-09-24 |
EP0057954A2 (en) | 1982-08-18 |
US4379030A (en) | 1983-04-05 |
EP0057954A3 (en) | 1982-08-25 |
EP0057954B1 (en) | 1985-04-24 |
DE3263204D1 (en) | 1985-05-30 |
JPS6053758B2 (ja) | 1985-11-27 |
JPS57149482A (en) | 1982-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhao et al. | Electrodeposition of aluminium from nonaqueous organic electrolytic systems and room temperature molten salts | |
Ali et al. | Electrodeposition of Al–Ni intermetallic compounds from aluminum chloride-N-(n-butyl) pyridinium chloride room temperature molten salt | |
Moraczewski et al. | Structural consequences of electron-transfer reactions. 5. Electrochemically induced isomerizations of (cyclooctadiene)-and (cyclooctatetraene) cobalt compounds | |
Chang et al. | Improved corrosion resistance of magnesium alloy with a surface aluminum coating electrodeposited in ionic liquid | |
Harris | Electrochemical studies in cyclic esters | |
Chauvel et al. | Crystal structure and magnetic properties of bis (. mu.-aqua) bis-. mu.-[N, N'-bis (2-hydroxyethyl) dithiooxamidato (2-)-N, O, S': N', O', S']-bis [aquacopper (II) sulfatocopper (II)]. A new example of very strong antiferromagnetic coupling between copper (II) ions far away from each other | |
NL8100570A (nl) | Elektrolytvloeistof voor het galvanisch neerslaan van aluminium. | |
Djurfors et al. | Electrochemical oxidation of Mn∕ MnO films: mechanism of porous film growth | |
Matsumiya et al. | Recovery of Iridium by Solvent Extraction and Direct Electrodeposition Using Phosphonium-Based Ionic Liquids | |
Mason et al. | Anodic behavior of aluminum and its alloys in sulfuric acid electrolytes | |
Kawaguchi et al. | Electrochemical Formation of Nd-Fe Alloys in Molten LiF-CaF2-NdF3 | |
US3672965A (en) | Electroplating of aluminum | |
US3028447A (en) | Conductors insulated with aluminum fluoride | |
Lewis et al. | Comparisons of the absorption of hydrogen by palladium/platinum, palladium/nickel and palladium/rhodium series of alloys | |
US3256468A (en) | Electrode for electrical capacitors and method of making the same | |
Mottus et al. | Electrochemical‐Chemical Synthesis of Methylene bis (Aluminum Dichloride) | |
CA2018130C (en) | Organoaluminum electrolytes for the electrolytic deposition of high-purity aluminum | |
Fischer et al. | Mg/Pd and Ba/Pd interfaces with and without hydrogen | |
JP2824267B2 (ja) | 金属物質のアルミニウムメッキ方法 | |
JPS62118509A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
JPH064793B2 (ja) | 雲母の電着用組成物 | |
Ruth et al. | A Rutherford Backscattering Analysis of Anodic Tantalum‐Titanium Oxides | |
FR2381838A1 (fr) | Liquide electrolytique pour le depot galvanique d'aluminium | |
Ladd et al. | The structures of bis (pyridine) bis (2, 4, 6-trichlorophenolato) copper (II) and bis (2-methoxy-4-nitrophenolato) bis (γ-picoline) copper (II) | |
US20200053886A1 (en) | Coating metal foil with n-heterocyclic carbene compounds containing organic functionalities for improving metal-to-resin adhesion |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |