NL7505324A - Werkwijze voor het richten van een fotomasker, in het bijzonder voor het vervaardigen van fijn- structuren. - Google Patents

Werkwijze voor het richten van een fotomasker, in het bijzonder voor het vervaardigen van fijn- structuren.

Info

Publication number
NL7505324A
NL7505324A NL7505324A NL7505324A NL7505324A NL 7505324 A NL7505324 A NL 7505324A NL 7505324 A NL7505324 A NL 7505324A NL 7505324 A NL7505324 A NL 7505324A NL 7505324 A NL7505324 A NL 7505324A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
aiming
procedure
manufacture
photo mask
fine structures
Prior art date
Application number
NL7505324A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19742422982 external-priority patent/DE2422982C2/de
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7505324A publication Critical patent/NL7505324A/xx

Links

Classifications

    • H10P95/00—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL7505324A 1974-05-13 1975-05-06 Werkwijze voor het richten van een fotomasker, in het bijzonder voor het vervaardigen van fijn- structuren. NL7505324A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19742422982 DE2422982C2 (de) 1974-05-13 Verfahren zum Ausrichten einer Fotomaske, insbesondere zum Erzeugen von Feinststrukturen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7505324A true NL7505324A (nl) 1975-11-17

Family

ID=5915331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7505324A NL7505324A (nl) 1974-05-13 1975-05-06 Werkwijze voor het richten van een fotomasker, in het bijzonder voor het vervaardigen van fijn- structuren.

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS50156879A (Direct)
BE (1) BE829001A (Direct)
FR (1) FR2271667B1 (Direct)
GB (1) GB1501158A (Direct)
IT (1) IT1038007B (Direct)
NL (1) NL7505324A (Direct)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57112021A (en) * 1980-12-29 1982-07-12 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS50156879A (Direct) 1975-12-18
IT1038007B (it) 1979-11-20
GB1501158A (en) 1978-02-15
DE2422982B1 (de) 1975-08-14
FR2271667A1 (Direct) 1975-12-12
BE829001A (fr) 1975-09-01
FR2271667B1 (Direct) 1977-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7609107A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van semiper- meabele membranen alsmede de aldus gevormde membranen.
NL169868C (nl) Werkwijze voor het op de orthoplaats(en) alkyleren van een fenol.
NL7511598A (nl) Voorgaren en werkwijze voor het vervaardigen ervan.
NL7502934A (nl) Werkwijze voor het bereiden van adriamycinen.
NL7606310A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een cement.
NL7413569A (nl) Inrichting voor het regelen van het ademha- lingspatroon.
NL7606206A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een trilin- richting, alsmede een trilinrichting.
NL7613663A (nl) Bicyclische onverzadigde thia-azaverbindingen alsmede werkwijze voor het bereiden daarvan.
NL7414880A (nl) Filtermat voor waterbouw.
NL7601818A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lijst voor veiligheden.
NL7503735A (nl) Weerstanden en mengsels voor de vervaardiging daarvan.
NL7509205A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 7-methoxy-6- -thiatetracyclinen.
NL159022B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een maskeringsmengsel.
NL7509433A (nl) Werkwijze voor het bereiden van diaminonafta- leen.
NL7508171A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een oprookbaar mengsel.
BE832804A (fr) Roteerbare verstuiver, voor het verstuiven van een vloeistof
NL7708181A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een vulkaniseer- bare rubberbevattende samenstelling.
NL7604468A (nl) Vastzetinrichting voor hangordners.
NL7512383A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2-deutero-3-fluor- -dl-alanine.
NL7507952A (nl) Drukvorm voor vlakdruk.
NL7505324A (nl) Werkwijze voor het richten van een fotomasker, in het bijzonder voor het vervaardigen van fijn- structuren.
NL7504996A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een cyclo-olefine.
NL7512624A (nl) Werkwijze voor de octeennitrileverbindingen.
NL7503944A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een lichtge- voelige samenstelling.
NL7502125A (nl) Werkwijze voor het bereiden van nonylaminen.