NL2019631B1 - Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors - Google Patents

Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors Download PDF

Info

Publication number
NL2019631B1
NL2019631B1 NL2019631A NL2019631A NL2019631B1 NL 2019631 B1 NL2019631 B1 NL 2019631B1 NL 2019631 A NL2019631 A NL 2019631A NL 2019631 A NL2019631 A NL 2019631A NL 2019631 B1 NL2019631 B1 NL 2019631B1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
mirror
holes
membrane
light
sail
Prior art date
Application number
NL2019631A
Other languages
English (en)
Inventor
Alexander Norte Richard
Groeblacher Simon
Original Assignee
Univ Delft Tech
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Delft Tech filed Critical Univ Delft Tech
Priority to NL2019631A priority Critical patent/NL2019631B1/en
Application granted granted Critical
Publication of NL2019631B1 publication Critical patent/NL2019631B1/en

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1225—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Claims (17)

1. Een fotonische nano-dikke-spiegelconstructie (100) met een grote aspectverhouding met een grootte van lxl cm2 en een gewicht van <1 g/m2, omvattende een dunne filmmembraan (2) van 2-2000 nm omvattende een materiaal met een treksterkte> 0,5 GPa, waarbij het membraan een patroonvormige fotonische kristalarray omvat met ten minste één n*m-array (9) met gaten, waarbij een oppervlak van de gaten (5) en array van gaten zijn aangepast voor het reflecteren van licht, waarbij het membraan is aangebracht op een substraatframe (17), waarbij het substraatframe een hoogte h van 10-500 pm heeft, en een frame onderste breedte fw van <10% van een breedte van het membraan mw.
2. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de gaten voor een gegeven golflengte of bereik van golflengten een dwarsdoorsnede lengte (7) hebben van respectievelijk 0,25-0,50*golflengte of 0,25-0,50*ge-wogen gemiddelde van het bereik van golflengten.
3. Fotografische spiegel volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij een ruimtegebied (8) tussen de gaten in een bereik van 35-97% van een oppervlakte van de spiegel (13) ligt, waarbij de rest van het oppervlak van de spiegel wordt gevormd door bovenoppervlakten van de gaten.
4. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij het frame een bovenste breedte fu heeft van 1 tot 2 keer een onderste breedte fw, bij voorkeur van 1, 001-1, l*fw, liever 1, 002-1,05*f„, zoals 1.005-1.02*f„.
5. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de hoogte h van het substraat 10-300 pm is, bij voorkeur 20-250 pm, liever 50-200 pm.
6. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, omvattende ie [2,210] arrays met gaten, waarbij m en mi van elke array i onafhankelijk gekozen zijn.
7. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij het dunne filmmembraan (12) een dikte heeft van 3-300 nm, bij voorkeur 5-200 nm, liever 10-100 nm, zoals 20-50 nm.
8. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij het membraan is gevormd uit een materiaal gekozen uit S13N4, SiCb, SiC, InGaP, Si en combinaties daarvan.
9. Fotografische spiegel volgens één der voorgaande conclusies, waarbij de treksterkte> 1 GPa, bij voorkeur> 2 GPa is.
10. Fotografische spiegel volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij een oppervlak van de kristalarray in een bereik van 10 cm2-10 m2 ligt.
12. Product omvattende ten minste één spiegelsamenstel volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij het product is gekozen uit een lichtzeil, een vervormbare spiegel, een quantum-transducer, een sensor, zoals een chemische sensor, een versnellingsmeter, bij voorkeur omvattende een optisch uitleesysteem, waarbij het uitleesysteem in staat is om ten minste één van een verandering in frequentie, een amplitudeverandering en een verandering in demping te detecteren of te meten.
13. Lichtzeil volgens conclusie 12, waarbij het lichtzeil uitvouwbaar is.
14. Lichtzeil volgens conclusie 12 of 13, waarbij het lichtzeil verbindingen (11) omvat en waarbij het lichtzeil twee of meer spiegelsamenstellingen omvat, bij voorkeur 5-100 samenstellingen.
15. Lichtzeil volgens een der conclusies 12-14, waarbij het lichtzeil een regelmatige vorm heeft, zoals cirkelvormig, ellipsvormig, vierkant, rechthoekig, driehoekig en multi-gonaal, zoals zeshoekig en achthoekig.
16. Lichtzeil volgens een der conclusies 12-15, waarbij het lichte zeil een middel omvat voor het uitvouwen van het zeil.
17. Werkwijze voor het vervaardigen van een fotonische kristal spiegel volgens één der voorgaande conclusies, omvattende het verschaffen van een substraat, het verschaffen van een materiaal met een hoge treksterkte op het substraat, het patroneren van het materiaal met een hoge treksterkten, het etsen van gaten in het materiaal met hoge treksterkte, het vooretsen van een deel van het substraat onder een te vormen membraan tot een dikte van 1-50 ym, bij voorkeur 2-10 ym, en het onderetsen van substraat onder het hoge treksterkte materiaal waardoor het membraan wordt gevormd.
18. Werkwijze volgens conclusie 17, waarbij het onderetsen in de ruimte wordt uitgevoerd.
NL2019631A 2017-09-26 2017-09-26 Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors NL2019631B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2019631A NL2019631B1 (en) 2017-09-26 2017-09-26 Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2019631A NL2019631B1 (en) 2017-09-26 2017-09-26 Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2019631B1 true NL2019631B1 (en) 2019-04-03

Family

ID=60081242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2019631A NL2019631B1 (en) 2017-09-26 2017-09-26 Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2019631B1 (nl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021066643A1 (en) 2019-09-30 2021-04-08 Technische Universiteit Delft High-selectivity dry release of dielectric structures

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010111269A2 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Wisconsin Alumni Research Foundation Hybrid vertical cavity light emitting sources and processes for forming the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010111269A2 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Wisconsin Alumni Research Foundation Hybrid vertical cavity light emitting sources and processes for forming the same

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J. LIU ET AL: "High-Q optomechanical GaAs nanomembranes", APPLIED PHYSICS LETTERS, vol. 99, no. 24, 12 December 2011 (2011-12-12), US, pages 243102, XP055483213, ISSN: 0003-6951, DOI: 10.1063/1.3668092 *
JO WONUK ET AL: "Miniature fiber acoustic sensors using a photonic-crystal membrane", OPTICAL FIBER TECHNOLOGY, vol. 19, no. 6, 29 August 2013 (2013-08-29), pages 785 - 792, XP028788773, ISSN: 1068-5200, DOI: 10.1016/J.YOFTE.2013.07.009 *
JOAO P MOURA ET AL: "Centimeter-Scale Suspended Photonic Crystal Mirrors", ARXIV.ORG, CORNELL UNIVERSITY LIBRARY, 201 OLIN LIBRARY CORNELL UNIVERSITY ITHACA, NY 14853, 25 July 2017 (2017-07-25), XP080779452 *
XU CHEN ET AL: "High-finesse Fabry-Perot cavities with bidimensional Si3N4 photonic-crystal slabs", LIGHT: SCIENCE & APPLICATIONS, vol. 6, no. 1, 18 July 2016 (2016-07-18), pages e16190 - e16190, XP055483296, DOI: 10.1038/lsa.2016.190 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021066643A1 (en) 2019-09-30 2021-04-08 Technische Universiteit Delft High-selectivity dry release of dielectric structures
NL2023917B1 (en) 2019-09-30 2021-05-27 Univ Delft Tech High-selectivity dry release of dielectric structures

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10488651B2 (en) Tunable elastic dielectric metasurface lenses
JP3905561B2 (ja) 光デバイス及びその形成方法
JP5317373B2 (ja) 向上したフォトニック結晶構造センサ
JP2008533468A (ja) 単一のナノ粒子を検出するための装置
WO2003077385A1 (en) Tunable cavity resonator and method of fabricating same
US9157799B2 (en) Optical wavelength dispersion device and method of manufacturing the same
JP2006177940A (ja) 放射検出器及びその製造方法
NL2019631B1 (en) Method for Fabrication of Large-Aspect-Ratio Nano-Thickness Mirrors
US9910195B2 (en) Optical wavelength dispersion device and method of manufacturing the same
JP2010079041A (ja) 光デバイス及びその製造方法
Hadzialic et al. Displacement sensing with a mechanically tunable photonic crystal
WO2021066643A1 (en) High-selectivity dry release of dielectric structures
Sameshima et al. A GaN electromechanical tunable grating on Si substrate
Leclercq et al. InP-based MOEMS and related topics
Akkaya et al. High-sensitivity thermally stable acoustic fiber sensor
Boutami et al. Photonic crystal-based MOEMS devices
TWI597910B (zh) 光學元件、壓力感測元件以及壓力感測裝置
Zhou et al. Large scale array visible-Infrared converter based on free-standing flexible composite microstructures
US8014070B2 (en) Membrane grating for beam steering device and method of fabricating same
Zhao et al. Design and fabrication of a sandwich framed focal plane array for uncooled infrared imaging
Hashemi et al. Air-suspended TiO2-based HCG reflectors for visible spectral range
CN1915796A (zh) 一种光读出非致冷红外成像阵列器件及其制作方法
Tay et al. Stress gradient of a micro-optoelectromechanical systems Fabry–Perot cavity based on InP
WO2024010452A1 (en) Method for suspended high-stress films on integrated distributed bragg mirrors
Dubey Passive and Active Optical Components for Optoelectronics Based on Porous Silicon

Legal Events

Date Code Title Description
MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20201001