NL2008962A - Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation. - Google Patents

Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation. Download PDF

Info

Publication number
NL2008962A
NL2008962A NL2008962A NL2008962A NL2008962A NL 2008962 A NL2008962 A NL 2008962A NL 2008962 A NL2008962 A NL 2008962A NL 2008962 A NL2008962 A NL 2008962A NL 2008962 A NL2008962 A NL 2008962A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
anode
cathode
radiation
fuel
bearing
Prior art date
Application number
NL2008962A
Other languages
English (en)
Inventor
Lambertus Wildenberg
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2008962A priority Critical patent/NL2008962A/en
Publication of NL2008962A publication Critical patent/NL2008962A/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de proj ectieinrichting.
NL2008962A 2012-06-08 2012-06-08 Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation. NL2008962A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2008962A NL2008962A (en) 2012-06-08 2012-06-08 Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2008962 2012-06-08
NL2008962A NL2008962A (en) 2012-06-08 2012-06-08 Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2008962A true NL2008962A (en) 2012-07-10

Family

ID=46605465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2008962A NL2008962A (en) 2012-06-08 2012-06-08 Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2008962A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6487519B2 (ja) リソグラフィ装置用の汚染トラップ
JP4799620B2 (ja) 放射システムおよびリソグラフィ装置
JP4563930B2 (ja) リソグラフィ装置、照明系、及びフィルタ・システム
JP5162546B2 (ja) 放射源及びリソグラフィ装置
US8680493B2 (en) Radiation conduit for radiation source
US9136151B2 (en) Actuator
KR101088131B1 (ko) 오염 방지 시스템, 리소그래피 장치, 방사선 소스 및 디바이스 제조 방법
US20160041374A1 (en) Radiation Collector, Radiation Source and Lithographic Apparatus
JP5331806B2 (ja) デブリ防止システムおよびリソグラフィ装置
JP2010062560A5 (nl)
US8018576B2 (en) Contamination prevention system, a lithographic apparatus, a radiation source and a method for manufacturing a device
US7952084B2 (en) Radiation source and lithographic apparatus
US8730454B2 (en) EUV radiation source and method of generating EUV radiation
NL2008962A (en) Radiation source, lithographic apparatus and method of producing radiation.
WO2013068197A1 (en) Particle trap for euv source
NL2010217A (en) Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2005552A (en) Actuator.
WO2013127587A2 (en) Source collector apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
NL2009622A (en) Particle trap for euv source.
NL2005694A (en) Euv radiation source and method of generating euv radiation.
NL2010575A (en) Contamination trap for a lithographic apparatus.

Legal Events

Date Code Title Description
WDAP Patent application withdrawn

Effective date: 20130129