NL185117B - Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk. - Google Patents
Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk.Info
- Publication number
- NL185117B NL185117B NLAANVRAGE7708553,A NL7708553A NL185117B NL 185117 B NL185117 B NL 185117B NL 7708553 A NL7708553 A NL 7708553A NL 185117 B NL185117 B NL 185117B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- disc
- main surface
- chemical treatment
- worked workpiece
- worked
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/32—Anodisation of semiconducting materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/08—Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Weting (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US71889776A | 1976-08-30 | 1976-08-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7708553A NL7708553A (nl) | 1978-03-02 |
NL185117B true NL185117B (nl) | 1989-08-16 |
Family
ID=24888003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7708553,A NL185117B (nl) | 1976-08-30 | 1977-08-02 | Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4118303A (nl) |
JP (1) | JPS5329677A (nl) |
DE (1) | DE2736000C2 (nl) |
FR (1) | FR2362939A1 (nl) |
GB (1) | GB1525850A (nl) |
NL (1) | NL185117B (nl) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4192729A (en) * | 1978-04-03 | 1980-03-11 | Burroughs Corporation | Apparatus for forming an aluminum interconnect structure on an integrated circuit chip |
JPS56102590A (en) * | 1979-08-09 | 1981-08-17 | Koichi Shimamura | Method and device for plating of microarea |
DE3027934A1 (de) * | 1980-07-23 | 1982-02-25 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur einseitigen aetzung von halbleiterscheiben |
JPS58110496A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-01 | Fujitsu Ltd | シリコン結晶 |
JPS5918198A (ja) * | 1982-07-16 | 1984-01-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | デバイス基板用単結晶シリコン |
JPS5973491A (ja) * | 1983-07-11 | 1984-04-25 | Osaka Titanium Seizo Kk | 半導体単結晶の製造方法 |
JPS645884Y2 (nl) * | 1984-11-21 | 1989-02-14 | ||
JPH0631199B2 (ja) * | 1988-04-14 | 1994-04-27 | 株式会社東芝 | 化合物半導体の製造方法 |
FR2648187B1 (fr) * | 1989-06-07 | 1994-04-15 | Pechiney Recherche | Dispositif de traitement par anodisation de pistons en alliage d'aluminium utilises dans les moteurs a combustion interne |
US6375741B2 (en) | 1991-03-06 | 2002-04-23 | Timothy J. Reardon | Semiconductor processing spray coating apparatus |
JP3217586B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2001-10-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 陽極酸化装置及び陽極酸化方法 |
US5750014A (en) * | 1995-02-09 | 1998-05-12 | International Hardcoat, Inc. | Apparatus for selectively coating metal parts |
US6103096A (en) * | 1997-11-12 | 2000-08-15 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for the electrochemical etching of a wafer |
US6322678B1 (en) | 1998-07-11 | 2001-11-27 | Semitool, Inc. | Electroplating reactor including back-side electrical contact apparatus |
DE19859466C2 (de) | 1998-12-22 | 2002-04-25 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten |
US20070084838A1 (en) * | 2004-12-07 | 2007-04-19 | Chih-Ming Hsu | Method and cutting system for cutting a wafer by laser using a vacuum working table |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE813912C (de) * | 1949-11-22 | 1951-09-17 | Eggert Knuth-Winterfeldt | Geraet zum elektrolytischen Polieren und/oder AEtzen |
US2745805A (en) * | 1952-01-16 | 1956-05-15 | Jr Hiram Jones | Adjustable masking shield for electro-polisher |
FR1157209A (fr) * | 1956-08-09 | 1958-05-28 | Procédé et appareil de polissage électrolytique | |
US3317410A (en) * | 1962-12-18 | 1967-05-02 | Ibm | Agitation system for electrodeposition of magnetic alloys |
US3907649A (en) * | 1971-12-02 | 1975-09-23 | Otto Alfred Becker | Electroplating of the cut edges of sheet metal panels |
US3536594A (en) * | 1968-07-05 | 1970-10-27 | Western Electric Co | Method and apparatus for rapid gold plating integrated circuit slices |
CH499783A (de) * | 1968-11-18 | 1970-11-30 | Heberlein & Co Ag | Verfahren für die berührungslose elektromagnetische Drehzahlmessung eines in einem magnetischen Feld rotierenden ferromagnetischen Drehkörpers |
DE2455363B2 (de) * | 1974-11-22 | 1976-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung duenner schichten aus halbleitermaterial und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
-
1977
- 1977-05-19 US US05/798,384 patent/US4118303A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-06-28 FR FR7719865A patent/FR2362939A1/fr active Granted
- 1977-08-01 GB GB32173/77A patent/GB1525850A/en not_active Expired
- 1977-08-02 NL NLAANVRAGE7708553,A patent/NL185117B/nl not_active IP Right Cessation
- 1977-08-10 DE DE2736000A patent/DE2736000C2/de not_active Expired
- 1977-08-16 JP JP9862377A patent/JPS5329677A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2736000C2 (de) | 1985-12-12 |
FR2362939B1 (nl) | 1980-04-04 |
JPS5329677A (en) | 1978-03-20 |
DE2736000A1 (de) | 1978-03-02 |
GB1525850A (en) | 1978-09-20 |
FR2362939A1 (fr) | 1978-03-24 |
NL7708553A (nl) | 1978-03-02 |
US4118303A (en) | 1978-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL7711379A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het verlagen van de concentratie van waterdamp in een mengsel. | |
NL189915C (nl) | Werkwijze voor het behandelen van een polyvinylideenfluoride-oppervlak. | |
NL180387C (nl) | Werkwijze voor het uitvoeren van endotherme processen. | |
NL7610795A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het behandelen van oppervlakken. | |
NL7812283A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een elektrolyseproces. | |
NL185117B (nl) | Werkwijze en inrichting voor een chemische behandeling van een hoofdoppervlak van een schijfvormig werkstuk. | |
NL7605927A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak. | |
NL7613440A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL7609805A (nl) | Werkwijze en inrichting voor vonkerosie. | |
NL7514693A (nl) | Werkwijze en inrichting voor onderzoek van de werking van een kathodische beschermingseenheid. | |
NL7613630A (nl) | Werkwijze en inrichting voor behandeling in een vloeiend bed. | |
NL7601586A (nl) | Werkwijze voor het behandelen van een put. | |
NL7702231A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het gericht spannen van een werkstuk. | |
NL179115C (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een aan een zijde gesloten houder van blik. | |
NL7811574A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het regelen van een pelleteerpers. | |
NL7806133A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een buisvormig breisel. | |
NL7702663A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het behandelen van een vloeistof. | |
NL7710768A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het bereiden van alkanolamine. | |
NL7610447A (nl) | Werkwijze voor het zuiveren van grondwater en daartoe geschikte inrichting. | |
NL7614369A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een houder en inrichting voor het uitvoeren van deze werk- wijze. | |
NL7513111A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng. | |
NL7609226A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het schuimen van een schuimmiddeloplossing. | |
NL7612959A (nl) | Werkwijze en inrichting voor tomografie met be- hulp van een komputer. | |
NL189506C (nl) | Werkwijze en inrichting voor het bereiden van actieve kool. | |
NL7511923A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het titreren van een vloeistof. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: BURROUGHS CORPORATION |
|
DNT | Communications of changes of names of applicants whose applications have been laid open to public inspection |
Free format text: UNISYS CORPORATION TE DETROIT |
|
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |