NL165303C - Werkwijze voor de bereiding van een fotoverknoopbaar resistvormend mengsel en resistvormend element, omvattende een laag van zo'n mengsel. - Google Patents
Werkwijze voor de bereiding van een fotoverknoopbaar resistvormend mengsel en resistvormend element, omvattende een laag van zo'n mengsel.Info
- Publication number
- NL165303C NL165303C NL7117776A NL7117776A NL165303C NL 165303 C NL165303 C NL 165303C NL 7117776 A NL7117776 A NL 7117776A NL 7117776 A NL7117776 A NL 7117776A NL 165303 C NL165303 C NL 165303C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- mixture
- resistant
- photographically
- preparing
- layer
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/12—Using specific substances
- H05K2203/122—Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax or thiol
- H05K2203/124—Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/389—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a coupling agent, e.g. silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10116870A | 1970-12-23 | 1970-12-23 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL7117776A NL7117776A (Direct) | 1972-06-27 |
| NL165303B NL165303B (nl) | 1980-10-15 |
| NL165303C true NL165303C (nl) | 1981-03-16 |
Family
ID=22283348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL7117776A NL165303C (nl) | 1970-12-23 | 1971-12-23 | Werkwijze voor de bereiding van een fotoverknoopbaar resistvormend mengsel en resistvormend element, omvattende een laag van zo'n mengsel. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS515934B1 (Direct) |
| BE (1) | BE777193A (Direct) |
| CA (1) | CA980163A (Direct) |
| DE (1) | DE2162207C3 (Direct) |
| FR (1) | FR2119620A5 (Direct) |
| GB (1) | GB1378867A (Direct) |
| NL (1) | NL165303C (Direct) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2448821C2 (de) * | 1974-10-14 | 1986-01-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zum Übertragen einer thermoplastischen photopolymerisierbaren Schicht und Schichtübertragungsmaterial |
| RU2349685C1 (ru) * | 2007-06-04 | 2009-03-20 | ООО "Гальвика" | Электролит для блестящего меднения |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR65803E (Direct) * | 1950-03-09 | 1956-03-21 | ||
| US2732301A (en) * | 1952-10-15 | 1956-01-24 | Chxcxch | |
| GB1152368A (en) * | 1965-05-25 | 1969-05-14 | Konishiroku Photo Ind | Reprographic Process |
| US3376139A (en) * | 1966-02-01 | 1968-04-02 | Gilano Michael Nicholas | Photosensitive prepolymer composition and method |
| GB1141544A (en) * | 1966-07-13 | 1969-01-29 | Gordon Owen Shipton | Polymer compositions |
-
1971
- 1971-11-30 CA CA128,999A patent/CA980163A/en not_active Expired
- 1971-12-15 DE DE19712162207 patent/DE2162207C3/de not_active Expired
- 1971-12-22 FR FR7146153A patent/FR2119620A5/fr not_active Expired
- 1971-12-22 GB GB5968571A patent/GB1378867A/en not_active Expired
- 1971-12-23 JP JP46104263A patent/JPS515934B1/ja active Pending
- 1971-12-23 BE BE777193A patent/BE777193A/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-23 NL NL7117776A patent/NL165303C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE777193A (fr) | 1972-06-23 |
| DE2162207C3 (de) | 1984-07-19 |
| NL7117776A (Direct) | 1972-06-27 |
| JPS515934B1 (Direct) | 1976-02-24 |
| DE2162207A1 (de) | 1972-06-29 |
| FR2119620A5 (Direct) | 1972-08-04 |
| GB1378867A (en) | 1974-12-27 |
| DE2162207B2 (de) | 1976-09-16 |
| CA980163A (en) | 1975-12-23 |
| NL165303B (nl) | 1980-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL172155C (nl) | Werkwijze ter bereiding respectievelijk vervaardiging van foto-gevoelige samenstellingen en foto-gevoelige elementen en werkwijze ter bereiding van daarbij bruikbare, door ten minste een trihalogeenmethylgroep gesubstitueerde 1,3,5-triazine. | |
| CH553780A (de) | Verfahren zur herstellung von neuen 1,4-dihydropyridinderivaten. | |
| NL176743C (nl) | Verbetering van de werkwijze volgens octrooischrift 161.984 ter bereiding van een farmaceutisch poedervormig inhaleerpreparaat, alsmede een houder, die een dergelijk preparaat bevat. | |
| NL7612515A (nl) | Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel, zo gevormd geneesmiddel en werkwijze ter be- reiding van geneeskrachtige verbindingen. | |
| NL7614567A (nl) | Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel en werkwijze ter bereiding van de geneeskrachtige verbinding. | |
| NL7613673A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een farmaceu- tische samenstelling en zo gevormde farmaceutische samenstelling. | |
| NL176254C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een anti-arrhytmische verbinding en voor de bereiding van een preparaat, dat dat bevat. | |
| NL7412108A (nl) | Werkwijze voor de bereiding en toepassing van een hydrofiel harsmengsel. | |
| NL171898C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een analgeticum; alsmede werkwijze voor het bereiden van daarvoor geschikte verbindingen. | |
| NL167955C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van ureum. | |
| BG20336A3 (bg) | Метод за получаване на 3-карбомоил-2.4.6- трийдефинил-алкилетери | |
| NL173286B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een dispersiegehard materiaal. | |
| NL150425B (nl) | Werkwijze voor de bereiding van difenylamine en difenylamineverbindingen. | |
| NL159022B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een maskeringsmengsel. | |
| BG19375A3 (bg) | Метод за получаване на 3,4-1н-изохиномин-1-они | |
| NL170733C (nl) | Werkwijze voor het bereiden of vervaardigen van een geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een geneeskrachtige verbinding. | |
| NL165303C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een fotoverknoopbaar resistvormend mengsel en resistvormend element, omvattende een laag van zo'n mengsel. | |
| NL149777B (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een reukstofmengsel, alsmede werkwijze voor de bereiding van daarvoor geschikte verbindingen. | |
| SU479296A3 (ru) | Способ получени производных 7-амино2н-1,4-бензодиазепин-2-она | |
| BG22815A3 (bg) | Метод за получаване на 2,6-диамино-дихидропиридини | |
| NL178073C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een farmaceutisch preparaat; werkwijze voor de bereiding van een verbinding met de struktuur van 1-(1'-(o-chloorbenzyl)-2'-pyrrolyl) -2-disec.butylaminoethanol. | |
| NL161150C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel, alsmede verkregen gevormd geneesmiddel en werkwijze voor het bereiden van een benzofuranverbinding. | |
| NL7701666A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een geneesmid- del, zo gevormd geneesmiddel en werkwijze ter bereiding van geschikte geneeskrachtige ver- bindingen. | |
| NL176171C (nl) | Werkwijze voor de bereiding van anti-adrenerge verbindingen en voor de bereiding van preparaten die ze bevatten. | |
| CH555332A (de) | Verfahren zur herstellung von neuen 1,3,3-trisubstituierten 3-azolylpropinen. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |