NL145987B - Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL145987B
NL145987B NL63290120A NL290120A NL145987B NL 145987 B NL145987 B NL 145987B NL 63290120 A NL63290120 A NL 63290120A NL 290120 A NL290120 A NL 290120A NL 145987 B NL145987 B NL 145987B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
image recording
recording tube
manufacturing
tube made
image
Prior art date
Application number
NL63290120A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL290120D priority Critical patent/NL290120A/xx
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL63290120A priority patent/NL145987B/nl
Priority to NO152357A priority patent/NO116423B/no
Priority to SE02939/64A priority patent/SE327471B/xx
Priority to CH298564A priority patent/CH430898A/de
Priority to DE19641489145 priority patent/DE1489145B2/de
Priority to DK118564AA priority patent/DK119436B/da
Priority to AT201164A priority patent/AT245640B/de
Priority to GB1005264A priority patent/GB1070621A/en
Priority to ES0297431A priority patent/ES297431A1/es
Priority to US350872A priority patent/US3307983A/en
Priority to GB10053/64A priority patent/GB1070622A/en
Priority to FR967120A priority patent/FR1385209A/fr
Priority to JP1360464A priority patent/JPS4027987B1/ja
Priority to BE645120A priority patent/BE645120A/xx
Publication of NL145987B publication Critical patent/NL145987B/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/085—Oxides of iron group metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5826—Treatment with charged particles
    • C23C14/5833—Ion beam bombardment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5846—Reactive treatment
    • C23C14/5853—Oxidation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/39—Charge-storage screens
    • H01J29/45—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/39—Charge-storage screens
    • H01J29/45—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen
    • H01J29/451—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions
    • H01J29/456—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions exhibiting no discontinuities, e.g. consisting of uniform layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/233—Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S252/00—Compositions
    • Y10S252/95—Doping agent source material
    • Y10S252/951—Doping agent source material for vapor transport

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Hybrid Cells (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NL63290120A 1963-03-12 1963-03-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze. NL145987B (nl)

Priority Applications (15)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL290120D NL290120A (nl) 1963-03-12
NL63290120A NL145987B (nl) 1963-03-12 1963-03-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.
AT201164A AT245640B (de) 1963-03-12 1964-03-09 Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Einrichtung und durch dieses Verfahren hergestellte Einrichtung
SE02939/64A SE327471B (nl) 1963-03-12 1964-03-09
CH298564A CH430898A (de) 1963-03-12 1964-03-09 Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Vorrichtung und nach diesem Verfahren hergestellte Vorrichtung
DE19641489145 DE1489145B2 (de) 1963-03-12 1964-03-09 Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Vorrichtung
DK118564AA DK119436B (da) 1963-03-12 1964-03-09 Fremgangsmåde ved fremstilling af et kamerarør af vidicon-type med et blymonoxidlag.
NO152357A NO116423B (nl) 1963-03-12 1964-03-09
ES0297431A ES297431A1 (es) 1963-03-12 1964-03-10 Metodo de fabricaciën de un dispositivo fotosensible
GB1005264A GB1070621A (en) 1963-03-12 1964-03-10 Improvements in or relating to photo-sensitive devices and methods of manufacturing such devices
US350872A US3307983A (en) 1963-03-12 1964-03-10 Method of manufacturing a photosensitive device
GB10053/64A GB1070622A (en) 1963-03-12 1964-03-10 Improvements in or relating to methods of manufacturing photo-sensitive devices
FR967120A FR1385209A (fr) 1963-03-12 1964-03-12 Dispositif photosensible et son procédé de fabrication
JP1360464A JPS4027987B1 (nl) 1963-03-12 1964-03-12
BE645120A BE645120A (nl) 1963-03-12 1964-03-12

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL63290120A NL145987B (nl) 1963-03-12 1963-03-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL145987B true NL145987B (nl) 1975-05-15

Family

ID=19754516

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL290120D NL290120A (nl) 1963-03-12
NL63290120A NL145987B (nl) 1963-03-12 1963-03-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL290120D NL290120A (nl) 1963-03-12

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3307983A (nl)
JP (1) JPS4027987B1 (nl)
AT (1) AT245640B (nl)
CH (1) CH430898A (nl)
DE (1) DE1489145B2 (nl)
DK (1) DK119436B (nl)
ES (1) ES297431A1 (nl)
FR (1) FR1385209A (nl)
GB (1) GB1070622A (nl)
NL (2) NL145987B (nl)
NO (1) NO116423B (nl)
SE (1) SE327471B (nl)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR95921E (fr) * 1963-08-06 1972-03-10 Gen Electric Plaque au monoxyde de plomb pour électrophotographie par rayons x, et procédé pour sa préparation.
NL6500458A (nl) * 1965-01-15 1966-07-18
US3468705A (en) * 1965-11-26 1969-09-23 Xerox Corp Method of preparing lead oxide films
US3492621A (en) * 1966-06-24 1970-01-27 Nippon Kogaku Kk High sensitivity photoconductive cell
US3607388A (en) * 1967-03-18 1971-09-21 Tokyo Shibaura Electric Co Method of preparing photoconductive layers on substrates
JPS4910709B1 (nl) * 1968-03-08 1974-03-12
US3530055A (en) * 1968-08-26 1970-09-22 Ibm Formation of layers of solids on substrates
JPS4929828B1 (nl) * 1968-10-25 1974-08-07
US4189406A (en) * 1974-02-04 1980-02-19 Eastman Kodak Company Method for hot-pressing photoconductors
US3909308A (en) * 1974-08-19 1975-09-30 Rca Corp Production of lead monoxide coated vidicon target
US4170662A (en) * 1974-11-05 1979-10-09 Eastman Kodak Company Plasma plating
US4001099A (en) * 1976-03-03 1977-01-04 Rca Corporation Photosensitive camera tube target primarily of lead monoxide
JPH068509B2 (ja) * 1985-09-17 1994-02-02 勝 岡田 強誘電体薄膜の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH291362A (de) * 1950-08-03 1953-06-15 Berghaus Elektrophysik Anst Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung technischer Prozesse mittels Gasentladungen, die mit einer kathodeischen Werkstoffzerstäubung verbunden sind.
US3174882A (en) * 1961-02-02 1965-03-23 Bell Telephone Labor Inc Tunnel diode

Also Published As

Publication number Publication date
CH430898A (de) 1967-02-28
ES297431A1 (es) 1964-05-16
NO116423B (nl) 1969-03-24
DE1489145A1 (de) 1969-01-09
GB1070622A (en) 1967-06-01
NL290120A (nl)
DK119436B (da) 1971-01-04
JPS4027987B1 (nl) 1965-12-10
AT245640B (de) 1966-03-10
DE1489145B2 (de) 1970-09-10
US3307983A (en) 1967-03-07
SE327471B (nl) 1970-08-24
FR1385209A (fr) 1965-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL142428B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een entcopolymeer.
NL141644B (nl) Werkwijze voor het vormen van beelden.
NL147573B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis met een in hoofdzaak uit loodmonoxyde (pb0) bestaande trefplaat met p-i-n-structuur en beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.
NL156461B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een uitgezette vezelmat.
NL142094B (nl) Werkwijze en inrichting voor het elektrolyseren van acrylonitrile.
NL145987B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldopneembuis en een beeldopneembuis vervaardigd door toepassing van deze werkwijze.
NL151050B (nl) Werkwijze voor het scheiden van racematen.
NL150052B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een inktopbrengorgaan en inktopbrengorgaan vervaardigd met deze werkwijze.
NL152672B (nl) Werkwijze voor het vormen van een elektrostatisch, latent beeld.
NL140529B (nl) Werkwijze voor het zuiveren van een alfa-aminobenzylpenicilline.
NL139465B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een uitwisselaarlichaam en met deze werkwijze vervaardigd uitwisselaarlichaam.
NL140552B (nl) Werkwijze voor het stabiliseren van een polyoxymethyleen door mengen met roet.
NL141576B (nl) Werkwijze voor het bereiden van zeer zuiver arseen.
NL140343B (nl) Inrichting voor het afbeelden van een origineel.
NL144986B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een antibioticum.
NL139653B (nl) Werkwijze voor het bereiden van gedroogde peulvruchten.
NL145541B (nl) Werkwijze voor het ontleden van ammoniumcarbamaat.
NL154207B (nl) Werkwijze voor het bereiden van azinen.
NL148612B (nl) Werkwijze voor het reduceren van een organohalogeensilaan.
NL143556B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een onverzadigd nitrile.
NL161295B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een afbuigjuk voor elektromagnetische bundelafbuiging.
NL161614B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een tegen implosie beveiligde televisiebeeldbuis.
NL151744B (nl) Werkwijze voor het maken van een ijzertitaanlegering.
NL140906B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van gelaagde panelen.
NL139581B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een axiaal leger.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: PHILIPS