MX2015002219A - Sensor de quimico para maquina lavaobjetos y sistema y metodo relacionados. - Google Patents

Sensor de quimico para maquina lavaobjetos y sistema y metodo relacionados.

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Abstract

Un sensor de químico de flujo continuo incluye un alojamiento que tiene un conducto de paso a lo largo del cual puede fluir químico, una pared lateral del alojamiento tiene primera y segunda aberturas que se comunican con el conducto de paso. Un primer electrodo está montado en el alojamiento y está alineado con la primera abertura, el primer electrodo es una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende a través de la primera abertura y hasta un borde periférico del conducto de paso. Un segundo electrodo está montado en el alojamiento y está alineado con la segunda abertura, el segundo electrodo es una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende a través de la segunda abertura y hasta el borde periférico del conducto de paso. Se proporciona también un método para detectar la presencia o ausencia de químico.

Description

SENSOR DE QUÍMICO PARA MAQUINA LAVAOBJETOS Y SISTEMA Y METODO RELACIONADOS REFERENCIAS CRUZADAS Esta solicitud reclama el beneficio de la solicitud provisional de E.U.A. No. de serie 61/691,581, presentada el 21 de agosto de 2012, la cual se incorpora en la presente por referencia.
CAMPO TÉCNICO Esta solicitud se refiere generalmente al campo de máquinas lavaobjetos que utilizan químicos y, más específicamente, a un sensor de químicos, sistema y método para detectar la presencia o ausencia de químicos usados para operaciones de limpieza de objetos.
ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN En una lavaobjetos o lavavajillas estacionario (por ejemplo, lavavajillas tipo intermitente o tipo caja), brazos de lavado ubicados en la parte superior y/o parte inferior de la cámara de lavado lavan artículos ubicados en un estante de platos al dirigir una solución de lavado fuera de boquillas ubicadas en los brazos. La solución de lavado rociada es típicamente una solución recirculada que, una vez rociada, cae y se recolecta en un sumidero debajo de la cámara, es extraída del sumidero a través de un colador por una bomba y es empujada por la bomba a lo largo de una trayectoria de flujo en los brazos de lavado y luego hacia afuera a través de las boquillas. Uno o más brazos de enjuague giratorios también pueden ser provistos para rociar líquido de enjuague fresco. En una lavaobjetos de flujo continuo (por ejemplo, una lavaobjetos tipo continuo), los objetos son movidos a través de una cámara (por ejemplo, por medio de un transportador que mueve anaqueles de objetos o por medio de un transportador con soportes que sostienen objetos) con varias zonas de aspersión (por ejemplo, una zona de prelavado, una zona de lavado, una zona de post-lavado o zona de preenjuague y una zona de enjuague final, cada una teniendo boquillas respectivas) mientras son limpiadas.
Independientemente del tipo de máquina, se pueden agregar químicos a los rocíos de líquido de lavado y/o enjuague durante las operaciones de limpieza de artículos para incrementar la eficacia de la operación. Por ejemplo, detergente, desinfectante, auxiliar de enjuague y/o químicos de eliminadores de cal pueden usarse en la máquina lavaobjetos en varios momentos. Los típicos son típicamente bombeados desde un recipiente de almacenamiento (por ejemplo, una botella o tanque) en etapas deseadas y en cantidades deseadas. En una lavaobjetos convencional, comúnmente se requiere y siempre es adecuado informar al operador de la máquina cuando se requiere añadir químicos adicionales a las botellas o tanques de suministro. Los resultados para el usuario final serán los mejores cuando el operador conozca de forma precisa cuándo los químicos tienen que ser reabastecidos, por lo tanto una detección precisa y sensible de los químicos es el objetivo. Asimismo, hacer que el sensor funcione para varias marcas/fórmulas de químicos es deseable.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN En un aspecto, una máquina lavaobjetos incluye una cámara para recibir artículos que serán lavados, la cámara incluye boquillas de aspersión para rociar líquido. Una primera trayectoria de flujo de químicos alimenta un primer químico a la cámara (por ejemplo, directa o indirectamente), en donde la primera trayectoria de flujo de químico incluye un primer sensor de químicos de flujo continuo a lo largo de la misma. Una segunda trayectoria de flujo de químico alimenta un segundo químico a la cámara (por ejemplo, ya sea directa o indirectamente), la segunda trayectoria de flujo de químico incluye un segundo sensor de químicos de flujo continuo a lo largo de la misma. El primer sensor de químico de flujo continuo incluye un primer conducto de fluido a través del mismo y primero y segundo electrodos en el mismo, el primero y segundo electrodos estando en comunicación con el primer conducto de fluido, el primero y segundo electrodos están dispuestos en una configuración paralela de electrodos. El segundo sensor de químico de flujo continuo incluye un segundo conducto de fluido a través del mismo y tercero y cuarto electrodos en el mismo, el tercero y cuarto electrodos están en comunicación con el segundo conducto de fluido, el tercero y cuarto electrodos están dispuestos en una configuración opuesta de electrodos.
En una implementación del aspecto anterior, el primer químico es uno de detergente o desinfectante y el segundo químico es un auxiliar de enjuague.
La primera trayectoria de flujo de químico puede conectarse para suministrar el primer químico en una trayectoria de recirculación de agua de lavado de la máquina lavaobjetos, y la segunda trayectoria de flujo de químico puede conectarse para suministrar el segundo químico en una trayectoria de línea de enjuague de la máquina lavaobjetos.
En una implementación de acuerdo con cualquiera de los tres párrafos anteriores, el primer sensor de químico de flujo continuo está orientado de tal manera que (i) un eje que corra paralelo con una trayectoria de flujo axial del primer conducto de fluido esté desplazado del plano tanto vertical como horizontal, y (ii) el primero y segundo electrodos estén desplazados tanto de una parte superior del primer conducto de fluido como de un lado del primer conducto de fluido; y el segundo sensor de químico de flujo continuo está orientado de tal manera que (i) un eje que corra paralelo con una trayectoria de flujo axial del segundo conducto de fluido esté desplazado tanto del plano vertical como del horizontal, y (ii) el tercero y cuarto electrodos estén desplazados tanto de una parte superior del segundo conducto de fluido como de un lado del segundo conducto de fluido.
En una implementación de acuerdo con cualquiera de los cuatro párrafos anteriores, una distancia entre el primer electrodo y el segundo electrodo a lo largo del primer conducto de fluido es al menos el doble de una distancia entre el tercer electrodo y el cuarto electrodo a través del segundo conducto de fluido.
En una implementación de acuerdo con cualquiera de los cinco párrafos anteriores, cada uno del primero y segundo electrodos es de una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro del primer conducto de fluido; y cada uno del tercero y cuarto electrodos es de una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro del segundo conducto de fluido.
En otro aspecto, un sensor de químico de flujo continuo incluye un alojamiento que tiene un conducto de paso a lo largo del cual puede fluir un químico, una pared lateral del alojamiento tiene primera y segunda aberturas que se comunican con el conducto de paso. Un primer electrodo está montado en el alojamiento y está alineado con la primera abertura, el primer electrodo es de una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende a través de la primera abertura y hasta un borde periférico del conducto de paso. Un segundo electrodo está montado en el alojamiento y está alineado con la segunda abertura, el segundo electrodo tiene una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende a través de la segunda abertura y hasta el borde periférico del conducto de paso.
En una implementación del aspecto del párrafo anterior, una primera junta tórica se coloca entre el alojamiento y el primer electrodo, y el primer electrodo se asegura al alojamiento por medio de un primer sujetador que proporciona una fuerza de sujeción del primer electrodo contra la primera junta tórica para sellamiento, en donde la depresión unitaria del primer electrodo se extiende a través de una abertura de la primera junta tórica. Asimismo, una segunda junta tórica se coloca entre el alojamiento y el segundo electrodo, y el segundo electrodo se asegura al alojamiento por medio de un segundo sujetador que proporciona una fuerza de sujeción del segundo electrodo contra la segunda junta tórica para sellamiento, en donde la depresión unitaria del segundo electrodo se extiende a través de una abertura de la segunda junta tórica.
El primer electrodo puede incluir un primer brazo conductor configurado para su conexión con una terminal alámbrica; y el segundo electrodo puede incluir un segundo brazo conductor configurado para conexión con una terminal alámbrica.
En una máquina lavaobjetos que incluye el sensor de químico de flujo continuo de cualquiera de los tres párrafos anteriores, el sensor de químico de flujo continuo puede ubicarse en una línea de alimentación de químico para suministrar químico directa o indirectamente a una cámara de la máquina.
El sensor químico de flujo continuo de la máquina del párrafo anterior puede conectarse a un circuito de detección de químico de la máquina por medio del primero y segundo electrodos, en donde un controlador de la máquina se configura para aplicar una señal de excitación periódica al circuito de detección de químico. El circuito de detección de químico se configura de tal manera que el sensor de químico de flujo continuo atenúe la señal de excitación periódica de acuerdo con el nivel de impedancia del químico de tal manera que un nivel de atenuación varíe inversamente con la impedancia del químico y el sensor cause muy poca o ninguna atenuación en ausencia del químico. El controlador puede configurarse además para evaluar la señal atenuada para determinar la presencia o ausencia de químico y, en ausencia de químico para producir una alerta al operador.
Cuando la máquina lavaobjetos de cualquiera de los dos párrafos anteriores incluye una interfaz de usuario que hace posible que un operador identifique el químico que se está usando, el controlador puede configurarse para definir automáticamente una frecuencia de la señal de excitación periódica aplicada de acuerdo con selección del operador del químico que esté siendo usado.
En un aspecto más, se proporciona un método para detectar la presencia o ausencia de un químico en una línea de alimentación de químico de una máquina lavaobjetos, en donde el método incluye las etapas de: proporcionar un sensor de flujo continuo en la línea de alimentación de químico, el sensor incluye un conducto de paso y un par de electrodos en comunicación con el conducto de paso, el sensor está conectado en un circuito de detección de químico por medio del par de electrodos; aplicar una señal de excitación periódica al circuito de detección de químico; el sensor atenúa la señal de excitación periódica de acuerdo con el nivel de impedancia del químico de tal manera que un nivel de atenuación varíe inversamente con la impedancia del químico y el sensor cause muy poca o ninguna atenuación en ausencia del químico; y evaluar la señal de excitación atenuada para determinar la presencia o ausencia de químico.
La etapa de evaluación puede incluir convertir la señal de excitación atenuada en un voltaje de CC, y evaluar el voltaje de CC para determinar la presencia o ausencia de químico.
La señal de excitación periódica puede ser una señal de onda cuadrada y la etapa de evaluación puede incluir comparar el voltaje de CC con un umbral establecido.
El método puede incluir las etapas adicionales de: definir una frecuencia de la señal de excitación periódica de acuerdo con una o más propiedades del químico y/o definir el umbral establecido de acuerdo con una o más propiedades del químico.
En una implementación, la máquina lavaobjetos incluye una interfaz de usuario que hace posible que un operador identifique el químico que esté siendo usado y la máquina lavaobjetos define automáticamente la frecuencia y/o define el umbral establecido de acuerdo con selección del operador del químico que esté siendo usado.
En tal implementación la máquina lavaobjetos puede incluir un controlador que almacene varios tipos de químico y, para cada tipo de químico, una frecuencia de señal de excitación correspondiente y/o umbral establecido.
Los detalles de una o más modalidades se establecen en los dibujos acompañantes y la siguiente descripción. Otras características, objetivos y ventajas serán aparentes a partir de la descripción y dibujos, y de las reivindicaciones.
BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS La figura 1 es una ilustración esquemática de una lavaobjetos tipo intermitente.
Las figuras 2A y 2B muestran una disposición de sensor.
Las figuras 3A y 3B muestran otra disposición de sensor.
La figura 4 muestra un circuito de detección.
Las figuras 5A-5F ilustran ejemplos de formas de onda/señales del circuito de detección.
Las figuras 6A y 6B muestran un ejemplo de orientación de montaje para un sensor.
La figura 7 es una elevación lateral esquemática de una máquina lavaobjetos tipo flujo continuo.
DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA INVENCIÓN En referencia a la figura 1 , se muestra una ilustración esquemática de un lavaobjetos tipo intermitente 10, e incluye una cámara 12 en la cual se colocan artículos para limpieza por medio de la apertura de una puerta de acceso pivotante 14. En el fondo de la cámara 12, un brazo de lavado giratorio 16 es provisto e incluye varias boquillas 18 que expulsan líquido de lavado durante una operación de limpieza. El líquido de lavado hace contacto con los artículos para su limpieza y luego cae de regreso hacia abajo en un sumidero de recolección 20 que puede incluir un elemento calentador 22. Una trayectoria de recirculación es proporcionada por medio del tubo 24, bomba 26 y tubo 28 para mover el líquido de lavado de regreso al brazo de lavado 16. Un brazo de enjuague giratorio 30 con boquillas 32 también es mostrado, al cual se le puede alimentar líquido de enjuague fresco por medio de una línea de enjuague constituida de la línea de entrada de agua fresca 34, válvula 36, caldera 38 y línea 40. Un controlador 42 también es mostrado, el cual puede ser programado típicamente para llevar a cabo uno o más ciclos de limpieza de artículos seleccionables que generalmente incluyen cada uno al menos una etapa de lavado (por ejemplo, que puede correr durante 30-150 segundos, seguida por una tapa de enjuague (por ejemplo, que puede correr durante 10-30 segundos), aunque son posibles muchas otras variaciones. Una interfaz de usuario 43 también está asociada con el controlador para hacer posible la selección por operador de un ciclo de limpieza de objetos, etc. Aunque la máquina 10 ilustrada incluye sólo brazos inferiores, estas máquinas también pueden incluir brazos de lavado y enjuague superiores mostrados esquemáticamente como 44 y 46. Tales máquinas también pueden incluir otras características, tales como ventiladores para una etapa de secado al final de un ciclo de limpieza de objetos. Máquinas con puertas tipo campana, a diferencia de la puerta pivotante ilustrada, también se conocen. Y máquinas de flujo continuo también se conocen como las sugeridas arriba. Por ejemplo, la figura 7 ilustra esquemáticamente una máquina tipo flujo continuo 200 con un alojamiento que define una cámara interna 202 que incluye varias zonas de aspersión 204, 206 y 208, con un transportador 210 para llevar los artículos a través de las zonas para limpieza.
Como se muestra en la figura 1 , el sistema incluye un conjunto de bombas 50, 52, 54 a lo largo de respectivas líneas de alimentación 56, 58, 60 para suministrar químicos desde botellas de suministro 62, 64, 66. A manera de ejemplo, las botellas 62 y 64 pueden contener detergente y desinfectante respectivamente, los cuales sean suministrados selectivamente al sumidero de máquina 20, y la botella 66 puede contener auxiliar de enjuague que sea suministrado selectivamente a la caldera 38. Cada línea de alimentación 56, 58 y 60 incluye un sensor de químico en línea 68, 70, 72 respectivo para detectar si químico está pasando a lo largo de la línea de alimentación cuando la bomba 50, 52, 54 esté operando. Los sensores de químico en línea tienen una configuración adecuada descrita en más detalle abajo. Líneas de alimentación 56 y 58 (por ejemplo, para detergente y desinfectante respectivamente) se muestran suministrando químico directamente al sumidero 20, pero como alternativa podrían conectarse para alimentar químico en cualquier lado en la cámara 12 o a una porción de la trayectoria de recirculación 24, 26, 28. La línea de alimentación 60 (por ejemplo, para auxiliar de enjuague) se muestra suministrando el auxiliar de enjuague directamente al impulsor de agua caliente 38, pero como alternativa podría suministrar el auxiliar de enjuague a cualquier lado dentro de la línea de enjuague, ya sea corriente arriba o corriente abajo del impulsor. Aunque se muestran tres sensores de químico en la figura 1, se reconoce que el número de sensores podría variarse de acuerdo con el número o químicos y líneas de alimentación de químico usadas en cualquier máquina particular. Por ejemplo, también podría incluirse una línea de alimentación de químico de desencalado con un sensor de químico correspondiente. Sistemas de alimentación de químico y sensores similares podrían estar asociados con las una o más zonas de aspersión de la máquina de la figura 7.
En referencia ahora a las figuras 2A y 2B, se muestra una disposición de un sensor de químico. El sensor de químico incluye un alojamiento 80 con un brazo o poste de montaje unitario 82 que tiene una abertura 84 a través de la cual se puede hacer pasar un sujetador para montaje del alojamiento dentro de la máquina lavaobjetos. El alojamiento también incluye un conducto de paso 86 a lo largo del cual puede fluir químico. El alojamiento puede ser de un material de polipropileno u otro material plástico, y formarse como un cuerpo moldeado que tenga áreas de pared lateral abiertas 88, 90 que permitan el montaje de electrodos 92, 94 respectivos, tal como por sujetadores 96, 98 (por ejemplo, tornillos) enroscados en el alojamiento 80. Los electrodos 92, 94 están hechos de un material conductor que es químicamente resistente al químico que esté siendo detectado, material que puede someterse previamente a un proceso de pasivación para tal fin. Notablemente, los electrodos 92, 94 tienen extremos conductores sobresalientes 100, 102 que están configurados para hacer posible que un cable sea conectado directamente al sensor con una terminal de cable. La configuración de montaje de electrodo también sella de manera efectiva las áreas abiertas 88, 90 a través del uso de juntas tóricas 104, 106 entre el electrodo y el alojamiento y a los cuales se aplica presión (por ejemplo, para proporcionar compresión de junta tórica) a través de una carga de sujeción proporcionada por los sujetadores 96, 98. Los electrodos también están configurados con un realce o depresión unitaria 108, 110 (por ejemplo, como la formada por una operación de estampado) que se extiende lo suficientemente profundo dentro del conducto tubular 86 como para que el químico esté en contacto directo con los realces cuando el conducto 86 esté lleno de químico durante una operación de bombeo de químico. La disposición del sensor mostrada en las figuras 2A y 2B representa una configuración que puede ser considerada o llamada una configuración paralela de electrodos ya que los electrodos 92, 92 están colocados colateralmente entre sí en el alojamiento y la trayectoria de contacto eléctrico entre los dos electrodos corre generalmente paralela a la dirección de flujo 112 del conducto de paso de químico 86. Según se usa en la presente, el término “unitario” cuando se refiere a una porción de un componente significa que la porción del componente se forma comúnmente con el componente en lugar de ser formada por separado y luego fijada al componente.
En referencia ahora a las figuras 3A y 3B, se muestra una disposición alternativa de un sensor de químico, el cual puede considerarse o llamarse una configuración opuesta de electrodos porque los electrodos están colocados en una relación opuesta entre sí y la trayectoria de contacto eléctrico entre los dos electrodos corre generalmente a través de la dirección de flujo 112 de químico a través del conducto de alojamiento 86. El alojamiento de sensor 80’ es muy parecido al 80 en las figuras 2A y 2B, excepto que la anterior área abierta 90 es cerrada como se muestra en 120. Un área abierta 90’ es en su lugar colocada a través desde el área abierta 88 y contiene al electrodo 94’ que es sostenido en su lugar por sujetadores 98’ con una junta tórica 106’. Notablemente, la configuración opuesta de electrodos ilustrada pone a los electrodos más cerca unos de otros que en la configuración paralela de electrodos. A este respecto, en una implementación una distancia entre los electrodos (es decir, a lo largo del conducto de flujo) en la configuración paralela de electrodos puede ser al menos el doble (por ejemplo, al menos tres veces o entre dos y seis veces) de grande que una distancia entre los electrodos (es decir, a través del conducto de flujo) en la configuración opuesta de electrodos, aunque son posibles otras variaciones.
En el caso de ambas disposiciones de sensor, un extremo del alojamiento de sensor se configura con una parte conectora cónica 122 que es adecuada para su inserción en un tubo rígido flexible (no mostrado) y el otro extremo del alojamiento de sensor se configura con un inserto de conexión elástico 124 que puede recibir y contener un tubo rígido flexible. Notablemente, la misma herramienta de moldeo puede utilizarse para producir el alojamiento de sensor 80 o alojamiento de sensor 80’ a través del uso selectivo de insertos que definan si se produce un área abierta 90 o área abierta 90’.
Los electrodos de cada sensor 68, 70, 72 están conectados a un circuito de detección tal como aquél mostrado en la figura 4. Para adquirir retroalimentación del sensor, una señal de excitación 150 es generada desde el microcontrolador 152 y aplicada al circuito de detección de químico 154. Esta señal de excitación 150 puede ser una onda cuadrada con 50% de ciclo de trabajo. La frecuencia preestablecida pueden ser 10 kHz, aunque esto se puede ajustar de 5 kHz a 50 kHz (por ejemplo, al acceder a un menú de servicio a través de la interfaz de usuario 43).
Cuando químico entra en contacto con ambos de los electrodos el sensor se comporta como una impedancia debido a las propiedades del químico. La señal de excitación es generada y el químico atenúa la onda cuadrada. La onda cuadrada atenuada pasa a través de un circuito duplicador de voltaje 156 y un regulador de amplificador operacional 158. El voltaje de salida del amplificador operacional es un voltaje análogo que varía entre 0-2.2 VDC. La salida del amplificador operacional se conecta a uno de los puertos análogo a digital del microcontrolador 152. Un voltaje de salida de 2.2 VDC indica que el químico no está en contacto con ambos electrodos del sensor. Un voltaje de OV DC indica que el químico está en contacto con ambos electrodos y el químico tiene una baja impedancia. En presencia del químico, el voltaje puede variar entre O VDC y 2.2 VDC dependiendo de la impedancia del químico.
El sensor y circuito proporcionan un método para detectar la presencia o ausencia de un químico en la línea de alimentación de químico al proporcionar el sensor de flujo continuo en la línea de alimentación de químico, el sensor conectado en un circuito de detección de químico por medio de su par de electrodos. Una señal de excitación periódica se aplica al circuito de detección del químico durante el tiempo deseado para monitoreo (por ejemplo, cuando la bomba asociada con la línea de alimentación de químico está siendo operada). El sensor atenúa la señal de excitación periódica de acuerdo con el nivel de impedancia del químico de tal manera que un nivel de atenuación varíe inversamente con la impedancia del químico. El sensor también causa muy poca o ninguna atenuación en ausencia del químico. La señal de excitación atenuada se convierte en un voltaje de CC y es evaluada para determinar la presencia o ausencia de químico. Como se describió arriba, la señal de excitación periódica puede ser una señal de onda cuadrada y la etapa de evaluación puede incluir comparar el voltaje de CC con un umbral establecido.
Cada sensor y circuito asociado puede usarse adecuadamente para detectar diferentes tipos de químico. A este respecto, la frecuencia de la señal de excitación aplicada puede ser una característica de programa variable que sea optimizada para cada químico para proporcionar la mejor detección. Por ejemplo, una frecuencia de la señal de excitación periódica puede definirse de acuerdo con una o más propiedades del químico (por ejemplo, según se determina por pruebas con el químico) y/o el umbral establecido para efectos de evaluación puede definirse de acuerdo con una o más propiedades del químico. En una implementación, la frecuencia y umbral establecido pueden establecerse por una persona de servicio con acceso al circuito lógico de control del controlador, con base en la comunicación por el operador de la máquina de los tipos de químicos que serán usados. En otra implementación, la máquina puede automatizar esta característica de acuerdo con la información almacenada. Específicamente, la máquina lavaobjetos puede incluir una interfaz de usuario que haga posible que el operador identifique el químico que esté siendo usado (por ejemplo, al presentar una lista de tipos de químicos de los cuales el operador puede seleccionar por medio de un presentador visual de pantalla táctil u otra entrada). La máquina lavaobjetos define entonces automáticamente la frecuencia y/o define el umbral establecido de acuerdo con la selección del operador. Para tal propósito, el controlador de la máquina lavaobjetos almacena varios tipos de químicos y, para cada tipo de químico, una frecuencia de señal de excitación correspondiente y/o umbral establecido.
Las figuras 5a a 5F representan, respectivamente, un ejemplo de señal de entrada de onda cuadrada 150, una forma de onda de salida 160 aplicada al amplificador operacional 158 en el caso de la presencia de un químico de alta impedancia en ambos electrodos, una salida de amplificador operacional 170 en el caso de la forma de onda 160, una forma de onda de salida 172 aplicada al amplificador operacional 158 en el caso de la presencia de un químico de baja impedancia en ambos electrodos, una salida de amplificador operacional 174 en el caso de la forma de onda 172 y una salida de amplificador operacional 176 que resulta de que químico no haga contacto con ambos electrodos.
En referencia a las figuras 6A y 6B, una operación favorable puede lograrse al instalar o montar el sensor de químico en una orientación definida que esté descentrada tanto del plano vertical como del horizontal. Específicamente, como se ve en la figura 6A, un eje 180 paralelo con la trayectoria de flujo a través del alojamiento de sensor está desplazado tanto del plano vertical como del horizontal 182, y como se ve en la figura 6B el alojamiento de sensor está ladeado de tal manera que los electrodos no estén ni en la parte superior de la trayectoria de flujo ni en el borde lateral de la trayectoria de flujo. El ángulo mostrado en la figura 6A asegura que el químico se drene fuera del sensor cuando el químico no esté siendo bombeado, de esta manera asegurando que el químico no se asiente en el sensor durante periodos de tiempo extendidos (por ejemplo, durante la noche). La orientación mostrada en la figura 6B ayuda a limitar el atrapamiento de burbujas de aire en el área de los electrodos. A manera de ejemplo, el ángulo ^ puede ser de entre aproximadamente 15 y 75 grados. Los electrodos tampoco se ubican en el fondo de la trayectoria de flujo en la modalidad ilustrada. Como se ve en la figura 6B, una superficie del brazo de montaje 82 puede configurarse de tal manera que cuando la superficie esté en la orientación vertical mostrada (por ejemplo, como cuando se monta a una superficie de estructura que se extiende verticalmente) el alojamiento de sensor incluya la inclinación adecuada para poner a los electrodos según se desee.
Debe entenderse claramente que la anterior descripción se intenta a manera de ilustración y ejemplo únicamente, no se intenta que se tome a manera de limitación, y que son posibles otros cambios y modificaciones. Por ejemplo, aunque el sensor y circuito de detección de químico se describen arriba principalmente en el contexto de una lavaobjetos tipo intermitente, se contempla que el sensor, circuito y método también podrían ser implementados en una lavaobjetos tipo transportador (por ejemplo, una lavaobjetos en la cual los objetos se transporten a través de una cámara que tenga una serie de zonas de aspersión). Además, aunque una construcción de sensor que utilice electrodos unidos por sujetadores al alojamiento de sensor se describe principalmente, se reconoce que en una modalidad alternativa los electrodos podrían ser moldeados en el alojamiento. Como otro ejemplo, en lugar de convertir la señal de excitación atenuada en un voltaje de CC, la señal podría ser evaluada usando un comparador sincronizado.

Claims (18)

REIVINDICACIONES
1. Una máquina lavaobjetos, caracterizada porque comprende: una cámara para recibir objetos que serán lavados, la cámara incluye boquillas de aspersión para rociar líquido; una primera trayectoria de flujo de químico para alimentar un primer químico a la cámara, la primera trayectoria de flujo de químico incluye un primer sensor de químico de flujo continuo a lo largo de la misma; una segunda trayectoria de flujo de químico para alimentar un segundo químico a la cámara, la segunda trayectoria de flujo de químico incluye un segundo sensor de químico de flujo continuo a lo largo de la misma; el primer sensor de químico de flujo continuo incluye un primer conducto de fluido a través del mismo, y primero y segundo electrodos en el mismo, el primero y segundo electrodos están en comunicación con el primer conducto de fluido, el primero y segundo electrodos están dispuestos en una configuración paralela de electrodos; y el segundo sensor de químico de flujo continuo incluye un segundo conducto de fluido a través del mismo y tercero y cuarto electrodos en el mismo, el tercero y cuarto electrodos están en comunicación con el segundo conducto de fluido, el tercero y cuarto electrodos están dispuestos en una configuración opuesta de electrodos.
2. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque: el primer químico es uno de detergente o desinfectante; y el segundo químico es un auxiliar de enjuague.
3. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque: la primera trayectoria de flujo de químico está conectada para suministrar el primer químico en una trayectoria de recirculación de agua de lavado de la máquina lavaobjetos; y la segunda trayectoria de flujo de químico está conectada para suministrar el segundo químico en una trayectoria de línea de enjuague de la máquina lavaobjetos.
4. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque: el primer sensor de químico de flujo continuo está orientado de tal manera que (i) un eje que corra paralelo con una trayectoria de flujo axial del primer conducto de fluido esté desplazado tanto del plano vertical como del horizontal, y (ii) el primero y segundo electrodos estén desplazados tanto de una parte superior del primer conducto de fluido como de un lado del primer conducto de fluido; el segundo sensor de químico de flujo continuo está orientado de tal manera que (I) un eje que corra paralelo con una trayectoria de flujo axial del segundo conducto de fluido esté desplazado tanto del plano vertical como del horizontal, y (ii) el tercero y cuarto electrodos estén desplazados tanto de una parte superior del segundo conducto de fluido como de un lado del segundo conducto de fluido.
5. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque una distancia entre el primer electrodo y el segundo electrodo a lo largo del primer conducto de fluido es al menos el doble de una distancia entre el tercer electrodo y el cuarto electrodo a través del segundo conducto de fluido.
6. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque: cada uno del primero y segundo electrodos es de una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro hasta el primer conducto de fluido; y cada uno del tercero y cuarto electrodos es de una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro hasta el segundo conducto de fluido.
7. Un sensor de químico de flujo continuo, caracterizado porque comprende: un alojamiento que tiene un conducto de paso a lo largo del cual puede fluir químico, una pared lateral del alojamiento tiene primera y segunda aberturas que se comunica con el conducto de paso; un primer electrodo montado en el alojamiento y alineado con la primera abertura, el primer electrodo tiene una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro a través de la primera abertura y hasta un borde periférico del conducto de paso; y un segundo electrodo montado en el alojamiento y alineado con la segunda abertura, el segundo electrodo es una configuración de placa con una depresión unitaria que se extiende hacia adentro a través de la segunda abertura y hasta el borde periférico del conducto de paso.
8. El sensor de químico de flujo continuo de conformidad con la reivindicación 7, caracterizado porque: una primera junta tórica está colocada entre el alojamiento y el primer electrodo, y el primer electrodo está asegurado al alojamiento por medio de un primer sujetador que proporcione una fuerza de sujeción del primer electrodo contra la primera junta tórica para sellamiento, en donde la depresión unitaria del primer electrodo se extiende a través de una abertura de la primera junta tórica; y una segunda junta tórica está colocada entre el alojamiento y el segundo electrodo, y el segundo electrodo está asegurado al alojamiento por medio de un segundo sujetador que proporciona una fuerza de sujeción del segundo electrodo contra la segunda junta tórica para sellamiento, en donde la depresión unitaria del segundo electrodo se extiende a través de una abertura de la segunda junta tórica.
9. El sensor de químico de flujo continuo de conformidad con la reivindicación 8, caracterizado porque: el primer electrodo incluye un primer brazo conductor configurado para su conexión con una terminal alámbrica; y el segundo electrodo incluye un segundo brazo conductor configurado para su conexión con una terminal alámbrica.
10. Una máquina lavaobjetos que incluye el sensor de químico de flujo continuo de conformidad con la reivindicación 7, caracterizado porque el sensor de químico de flujo continuo se ubica en una línea de alimentación de químico para suministrar químico directa o indirectamente a una cámara de la máquina.
11. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 10, caracterizada porque: el sensor de químico de flujo continuo está conectado en un circuito de detección de químico por medio del primero y segundo electrodos; un controlador de la máquina está configurado para aplicar una señal de excitación periódica al circuito de detección de químico; el circuito de detección de químico está configurado de tal manera que el sensor de químico de flujo continuo atenúe la señal de excitación periódica de acuerdo con el nivel de impedancia del químico de tal manera que un nivel de atenuación varíe inversamente con la impedancia del químico y el sensor cause muy poca o ninguna atenuación en ausencia del químico; el controlador está configurado además para evaluar la señal atenuada para determinar la presencia o ausencia de químico y, en ausencia de químico para producir una alerta al operador.
12. La máquina lavaobjetos de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque: la máquina lavaobjetos incluye una interfaz de usuario que hace posible que un operador identifique el químico que esté siendo usado y el controlador se configura para definir automáticamente una frecuencia de la señal de excitación periódica aplicada de acuerdo a la selección por el operador del químico que esté siendo usado.
13. Un método para detectar la presencia o ausencia de un químico en una línea de alimentación de químico de una máquina lavaobjetos, el método se caracteriza porque comprende las etapas de: proporcionar un sensor de flujo continuo en la línea de alimentación de químico, el sensor incluye un conducto de paso y un par de electrodos en comunicación con el conducto de paso, el sensor está conectado en un circuito de detección de químico por medio del par de electrodos; aplicar una señal de excitación periódica al circuito de detección de químico; el sensor atenúa la señal de excitación periódica de acuerdo con el nivel de impedancia del químico de tal manera que un nivel de atenuación varíe inversamente con la impedancia de químico y el sensor cause muy poca o ninguna atenuación en ausencia del químico; evaluar la señal atenuada para determinar la presencia o ausencia de químico.
14. El método de conformidad con la reivindicación 13, caracterizado porque la etapa de evaluación incluye: convertir la señal de excitación atenuada en un voltaje de CC; y evaluar el voltaje de CC para determinar la presencia o ausencia de químico.
15. El método de conformidad con la reivindicación 14, caracterizado porque la señal de excitación periódica es una señal de onda cuadrada y la etapa de evaluación incluye comparar el voltaje de CC con un umbral establecido.
16. El método de conformidad con la reivindicación 15, caracterizado porque incluye la etapa adicional de: definir una frecuencia de la señal de excitación periódica de acuerdo con una o más propiedades del químico, y/o definir el umbral establecido de acuerdo con una o más propiedades del químico.
17. El método de conformidad con la reivindicación 15, caracterizado porque la máquina lavaobjetos incluye una interfaz de usuario que hace posible que un operador identifique el químico que esté siendo usado, y la máquina lavaobjetos define automáticamente la frecuencia y/o define el umbral establecido de acuerdo con la selección por el operador del químico que esté siendo usado.
18. El método de conformidad con la reivindicación 17, caracterizado porque la máquina lavaobjetos incluye un controlador que almacena varios tipos de químicos y, para cada tipo de químico, una frecuencia de señal de excitación correspondiente y/o umbral establecido.
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