MD719G2 - Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой - Google Patents

Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой Download PDF

Info

Publication number
MD719G2
MD719G2 MD94-0256A MD940256A MD719G2 MD 719 G2 MD719 G2 MD 719G2 MD 940256 A MD940256 A MD 940256A MD 719 G2 MD719 G2 MD 719G2
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
figurative
volt
switching structure
ampere characteristic
transition
Prior art date
Application number
MD94-0256A
Other languages
English (en)
Romanian (ro)
Other versions
MD719F2 (en
Inventor
Liudmila Gagara
Elena Negru
Valentin Plesca
Алексей СИМАШКЕВИЧ
Дормидонт ШЕРБАН
Original Assignee
Государственный Университет Молд0
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0 filed Critical Государственный Университет Молд0
Priority to MD94-0256A priority Critical patent/MD719G2/ru
Publication of MD719F2 publication Critical patent/MD719F2/xx
Publication of MD719G2 publication Critical patent/MD719G2/ru

Links

Landscapes

  • Contacts (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано при изготовлении переключающих структур с S-образной вольт-амперной характеристикой.В предлагаемом способе изготовления переключающей структуры с S-образной вольт-амперной характеристикой на базе кремния, включающей формирование анизотипного перехода p+-n и изотипного перехода n-n+, новым является формирование изотипного перехода на поверхности кремния путем нанесения слоя In2O3:SnO2 толщиной 0,3 mм в воздушном потоке.Технический результат заключается в создании фоточувствительного потенциального барьера на изотипном переходе n-n+, который при обратных смещениях характеризуется туннельным механизмом прохождения тока.
MD94-0256A 1994-07-22 1994-07-22 Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой MD719G2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD94-0256A MD719G2 (ru) 1994-07-22 1994-07-22 Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MD94-0256A MD719G2 (ru) 1994-07-22 1994-07-22 Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD719F2 MD719F2 (en) 1997-04-30
MD719G2 true MD719G2 (ru) 1997-12-31

Family

ID=19738567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MD94-0256A MD719G2 (ru) 1994-07-22 1994-07-22 Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD719G2 (ru)

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Диоды и тиристоры", под общей редакцией А.А. Чернышева, 1980 г., изд-во "Энергия", М., с. 126. *
И.М. Викулин, В.И. Стафеев, "Физика полупроводниковых приборов", 1980 г., изд-во "Советское радио", М., с. 296. *

Also Published As

Publication number Publication date
MD719F2 (en) 1997-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW350135B (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same the invention relates to a semiconductor device and method of manufacturing the same
TW363276B (en) Thin-film semiconductor device, thin-film transistor and method for fabricating the same
EP0342796A3 (en) Thin-film transistor
FR2738394B1 (fr) Dispositif a semi-conducteur en carbure de silicium, et son procede de fabrication
CA2052970A1 (en) Superconducting device having an extremely thin superconducting channel formed of oxide superconductor material and method for manufacturing the same
TW283263B (en) Fabrication method of semiconductor device and field effect transistor
DE69635824D1 (de) Graben-dmos-transistor mit vergrabener schicht für verminderten anschaltwiderstand und verbesserter robustheit
DE3574080D1 (en) Silicon semiconductor substrate with an insulating layer embedded therein and method for forming the same
EP0827208A3 (en) Hydrogen-terminated diamond misfet and its manufacturing method
KR940006217A (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
GB9925564D0 (en) Method of forming silicon oxide layer and method of manufacturing thin film transistor thereby
DE69311174D1 (de) Piezoelektrisches/elektrostriktives Element mit Hilfselektrode zwischen einer piezoelektrischen/elektrostriktiven Schicht und dem Substrat
ATE143531T1 (de) Halleffekt-fühler
SE9500152D0 (sv) A method of producing an ohmic contact and a semiconductor device provided with such ohmic contact
TW370677B (en) Semiconductor memory device and manufacturing method
FR2708142B1 (fr) Procédé de fabrication d'un transistor en technologie silicium sur isolant.
SE9600199D0 (sv) A semiconductor device with a low resistance ohmic contact between a metal layer and a SiC-layer
MD719G2 (ru) Способ изготовления переключающей структуры с S-образной вольтамперной характеристикой
DK0869156T3 (da) Fotokatalytisk fremgangsmåde til at gøre en overflade hydrofil, og kompositmateriale med en fotokatalytisk hydrofil overflade
DE69416462D1 (de) Schichtstruktur mit isolierender Dünnschicht und Oxydsupraleiter-Dünnschicht
SG66275A1 (en) Semiconductor device containing electrostatic capacitive element and method for manufacturing same
JPS6418278A (en) Mis structure photosensor
CA2051048A1 (en) Superconducting device having a reduced thickness of oxide superconducting layer and method for manufacturing the same
CA2054644A1 (en) Superconducting device having an extremely short superconducting channel formed of extremely thin oxide superconductor film and method for manufacturing same
TW331656B (en) The produce of wafer and its devices

Legal Events

Date Code Title Description
FG3A Granted patent for invention
IF99 Valid patent on 19990615

Free format text: EXPIRES: 20140722