MD4924B1 - Способ получения титановых слоев - Google Patents

Abstract

Изобретение относится к технологии получения слоев титана на полупроводниковых подложках, изоляторах, и может быть применено в металлургии, химической промышленности, пищевой промышленности, медицине.Предлагаемый способ заключается в получении слоев титана на гетерогенных подложках методом химических транспортных реакций в реакторе низкого давления с использованием водорода в качестве защитно-транспортного газа, в котором титан транспортируется потоком хлористого водорода, разбавленным в потоке водорода в пределах 0-10% по объему, при температуре источника титана 850°С, а осаждение слоев осуществляется на гетерогенных носителях, вращаемых газовым потоком со скоростью 50 об/мин, при температуре осаждения слоев 500-1000°С, в течение 5-20 минут.