KR980011693A - 반도체소자 제조장치 - Google Patents

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KR980011693A
KR980011693A KR1019960030162A KR19960030162A KR980011693A KR 980011693 A KR980011693 A KR 980011693A KR 1019960030162 A KR1019960030162 A KR 1019960030162A KR 19960030162 A KR19960030162 A KR 19960030162A KR 980011693 A KR980011693 A KR 980011693A
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KR
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semiconductor device
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manufacturing apparatus
device manufacturing
opening
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KR1019960030162A
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English (en)
Inventor
김용태
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

반도체소자 제조장치를 개시하고 있다. 약액 분사에 사용되는 노즐을 구비한 반도체소자 제조장치에 있어서, 약액이 분사되는 단부에 개폐수단을 구비한 노즐; 및 상기 개폐수단을 구동시키기 위한 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체소자 제조장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
본 발명은 반도체소자 제조장치에 관한 것으로, 특히 외부불순물 유입을 방지할 수 있는 노즐(nozzle)을 구비한 반도체소자 제조장치에 관한 것이다.
반도체소자 제조장치 중 포토레지스트 도포시 또는 현상액 분사시 노즐이 일반적으로 사용되어 왔다.
도1은 종래 기술에 따른 노즐을 설명하기 위해 도시한 도면으로서, 참조부호 "1"은 노즐 팁을, "3"은 노즐 팁을 통해 분사되는 캐미컬의 유효성분을, "5"는 노즐 팁 내로 유입되는 대기중 파티클을 각각 나타낸다.
상기와 같은 종래의 노즐 팁은 항시 오픈(open)되는 형태로 사용되어 왔다. 그러나, 반도체소자가 고집적화됨에 따라 상기와 같은 종래의 노즐 팁 형태로는 현상액 분사시 오픈형의 팁을 통해 유입되는 대기중 불순물, 예컨대 산소, 이산화탄소, 암모니아 가스 등의 불순물에 의해 노즐 팁이 오염되어, 막의 도포불량이 유발된다. 이러한 도포 불량에 의해 막의 균일성이 저하되며, 외부 대기중에 존재하는 불순물이 현상액 또는 포토레지스트내에 불순물로 작용하는 문제가 발생된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 외부불순물 유입을 방지할 수 있는 노즐 팁을 구비한 반도체소자 제조장치를 제공하는 것이다.
제1도는 종래 기술에 따른 노즐을 설명하기 위해 도시한 도면이다.
제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐을 설명하기 위해 도시한 도면이다.
상기 과제를 이루기 위하여 본 발명은, 약액 분사에 사용되는 노즐을 구비한 반도체소자 제조장치에 있어서, 약액이 분사되는 단부에 개폐수단을 구비한 노즐; 및 상기 개폐수단을 구동시키기 위한 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장치를 제공한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐을 설명하기 위해 도시한 도면이다.
본 발명에 따른 노즐은 약액이 분사되는 단부에 오픈/클로우즈가 가능한 개폐수단(17)과 외부입력신호에 응답하여 상기 개폐수단(17)을 구동하기 위한 구동수단(15)을 구비한다. 여기에서, "13"은 노즐 팁을 통해 분사되는 캐미컬의 유효성분을, "15"는 대기중 파티클을 각각 나타낸다.
상기 본 발명에 따른 노즐을 구비한 반도체소자 제조장치를 이용한 약액 분사시, 외부신호가 노즐 팁(11) 오픈용 구동모터(15)에 입력되면, 구동모터(15)가 회전하여 개폐수단(17)이 A에서 A' 상태가 되어 오픈된다. 이후, 약액을 분사시키고 다시 노즐 팁 오픈용 구동모터(15)의 신호를 오프하여 노즐 틉 개폐수단(17)이 A'에서 A상태가 복귀시켜 클로우즈 시킨다.
이와 같이, 약액 분사후, 노즐팁 개폐수단(17)을 클로우즈한 상태에서는 외부로부터 불순물(15)들이 노즐 내로 유입되는 것이 방지된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 반도체소자 제조시 약액의 분사 등에 사용되는 노즐의 단부에 개폐수단을 채용함으로써, 약액분사후 대기중에 존재하는 파티클이 노즐 내로 유입되는 것을 방지할 수 있다.

Claims (1)

  1. 약액 분사에 사용되는 노즐을 구비한 반도체소자 제조장치에 있어서, 약액이 분사되는 단부에 개폐수단을 구비한 노즐; 및 상기 개폐수단을 구동시키기 위한 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960030162A 1996-07-24 1996-07-24 반도체소자 제조장치 KR980011693A (ko)

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