KR980005394A - 반도제 제조 공정의 가스 공급 방법 - Google Patents

반도제 제조 공정의 가스 공급 방법 Download PDF

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KR980005394A
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gas
semiconductor manufacturing
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gas supply
manufacturing process
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KR1019960023957A
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이석민
유제문
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정의 가스 공급 방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 반도체 장치를 제조하기 위하여 WF6가스와 Ar가스를 가스 봄베로부터 MFC를 거쳐서 프로세스 챔버까지 공급하는 데 있어서, 상기 가스 봄베 및 MFC에서 WF6가스와 Ar가스가 소정의 비로 혼합된 혼합가스를 공급한다. 본 발명에 의하면, 반도체 제조시에 WF6가스 및 Ar가스 공급에 필요한 설비를 효율적으로 구성할 수 있고, 공급되는 가스의 유량을 용이하게 제어할수 있다.

Description

반도체 제조 공정의 가스 공급 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 반도체 공정의 가스 공급 방법에 따라 가스를 공급하기 위한 가스 공급 라인을 개략적으로 나타낸 도면이다.

Claims (2)

  1. 반도체 장치를 제조하기 위하여 WF6가스와 Ar가스를 가스 봄베로부터 MFC를 거쳐서 프로세스 챔버까지 공급하는 방법에 있어서, 상기 가스 봄베 및 MFC에서 WF6가스와 Ar가스가 소정의 비로 혼합된 혼합 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 WF6가스와 Ar가스의 혼합비는 1:100∼1:500 인 것을 특징으로 하는 가스 공급 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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KR20160021908A (ko) * 2008-03-25 2016-02-26 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 전자 디바이스 제조 자원들을 절약하기 위한 방법들 및 장치

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